【課題】試料の構造を高いコントラストで撮像する。
【解決手段】粒子ビーム装置の試料室に導入した試料４の表面５６の特定の位置上にコントラスト剤前駆体５１を供給した後、粒子ビーム５０および／または光ビーム４７を前記特定の位置に供給する。粒子ビーム５０および／または光ビーム４７とコントラスト剤前駆体５１の相互作用によってコントラスト剤層５２を試料４の表面５６の特定の位置に貼付する。所定時間の間、試料４の表面５６上にコントラスト剤層５２を残す。所定時間の間、コントラスト剤層５２の第１の部分５３は試料４内に拡散し、コントラスト剤層５２の第２の部分５４は試料４の表面５６上に残留する。光学装置および／または粒子光学装置および／または粒子ビーム５０を用いて試料４を撮像する。 （もっと読む）

【課題】
ムービングマグネット型のリニアモータ対を移動ステージに利用する場合、このリニアモータ対に挟まれる空間の磁場が可動子の移動に伴って大きく変動する。
【解決手段】
リニアモータの可動子３の中央面１９を基準として鏡面対称となるように、４Ｎ組（Ｎは自然数）の磁石ペア１２を配置する。極性は、可動子中央線１９で隣り合う極性が同じで、離れるに従ってＮ極とＳ極とが交互となるように磁石ペア１２を配列する。このようなリニアモータを2組並行に配置してリニアモータ対を形成し、このリニアモータ対を用いてステージを駆動することで、例えば電子顕微鏡等の磁場環境に与える影響の少ない移動ステージを実現した。 （もっと読む）

【課題】高感度にＲＯＩ領域の欠陥発生頻度や特性尤度の効率的なモニタリングをする。
【解決手段】ステージの連続移動に同期して、マトリクス状に配置した複数の電子線をステージ移動方向に間引いて回路パターンに照射し、発生する二次電子等を取得し、同一領域で取得した画像を加算平均することで高速にしかも高ＳＮの画像を取得し、取得画像より回路パターンの欠陥を判定する。ステージ移動と垂直方向への移動時に隣接領域ではなく、間引いて画像取得することで、ＲＯＩ領域のみ、又は回路パターン全体の欠陥発生頻度や特性尤度を効率的にモニタリングする。 （もっと読む）

【課題】デバイス試料の傾斜ズレによる測長誤差を最小化する。
【解決手段】測長前に、試料の単結晶部分から回折パターンを取得し、取得された回折パターンに基づいて荷電粒子線に対する試料の傾斜角を補正する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、測定点や検査点が多数存在する場合であっても、帯電の影響に基づく、測定，検査精度の低下を抑制し得る光学条件の設定を可能とする荷電粒子線装置の光学条件設定方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、電子線で試料表面を走査することによって試料から放出される電子の検出に基づいて、前記試料上のパターンを測定する走査電子顕微鏡、或いは光学条件設定方法であって、試料上の複数の測定点の測定値から、測定数に対する測定値の変化を求め、当該変化の傾斜がゼロ、或いはゼロに近くなるように、試料表面電界を制御する走査電子顕微鏡、或いは光学条件設定方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料室の熱変形に依らず、高精度にステージ位置を検出することが可能な試料ステージを備えた荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料ステージの位置を検出するためのレーザ干渉計を備えた荷電粒子線装置において、前記レーザ干渉計は、レーザを放出する光源と、前記試料ステージに設置される計測光用ミラーと、前記光源が設置される前記荷電粒子線装置の試料室壁面と対向する壁面に設置される参照光用ミラーと、前記光源から放出されるレーザを、計測光と参照光とに分割するビームスプリッタとを備え、当該ビームスプリッタと前記計測光用ミラーとの間に、１／４λ波長板を備えていることを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】試料の傾斜角度を変更する機構を有しない荷電粒子線応用装置においても，試料の損傷や位置ずれを抑え，取扱容易に試料の傾斜角度を変更できる小型の試料台を提供する。
【解決手段】回動軸線上に試料を載置することができる試料載置部１００と，荷電粒子線応用装置のステージに取付することが可能な案内部１０２が回動軸線と同軸の回転面形状を介して接触し，接触を維持する制限部としても機能する操作棒１０６と，回動軸線に平行な運動を拘束する抑止部１０４と，試料載置部１００と案内部１０２との角度を複数の値で自在且つ容易に保持する機能を有する保持機構とをもって，試料の傾斜角度を変更し保持する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、より理想的な荷電粒子線装置の分解能評価用の標準試料を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明では、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板にコロイド金属又はイオン液体に分散した金属微粒子を滴下するステップと、前記基板に滴下した溶液を除去するステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。また、荷電粒子線装置の試料作成方法であって、基板表面に微細な凹凸を形成するステップと、前記基板表面にスパッタにより金属微粒子を付着させるステップと、を有することを特徴とする試料作成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】試料ステージの位置決め時に用いる複数のブレーキ機構においてそれぞれのギャップが異なるため、同じ駆動指令ではブレーキ機構で発生する制動力に差が生じ試料ステージの位置ずれが発生する。
【解決手段】複数のブレーキ機構それぞれのアクチュエータ３０１を、既定の駆動指令により駆動し、その駆動中にブレーキ機構１２５ａそれぞれの検知機構から出力される接触検知出力に基づいて、ブレーキ機構１２５ａそれぞれのブレーキパッド３０７がブレーキ被制動面１２４ｕに接触したときのブレーキ機構間における既定の駆動指令の状態差Ｖｂａを取得し、この取得した既定の駆動指令の状態差Ｖｂａを基に、ブレーキ機構毎に、ブレーキ作動時のアクチュエータ３０１の駆動状態に該当する最終駆動指令Ｖａｔ，…を決定し、ブレーキ機構１２５ａそれぞれのアクチュエータ３０１を、この決定した対応する前記ブレーキ機構の最終駆動指令により駆動する。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程におけるプロセスによっては、ウェハ全体に大きな電位をもった帯電分布を生じさせる場合がある。大きな帯電電位は電子結像に大きなコントラスト異常が生じる可能性がある。
【解決手段】予備チャンバ２０２から真空チャンバ２０１にウェハが搬送される際に、予備除帯電装置１２０１を用いて予め生じているウェハの帯電を消去、または検査時に行われる予備帯電で制御可能な電位まで減ずる。予備除帯電装置１２０１の設置位置は、予備チャンバ２０２と真空チャンバ２０１との間の開口部の真空チャンバ２０１側が望ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空排気時等の巻上げによって生ずるパーティクルの試料への付着を抑制する低汚染ローダ、及び低汚染ローダを備えた荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、枝分かれした粗引き配管を持つロードロック室を備えた低汚染ローダであって、当該複数の排気管に流入する気体の圧力を検出する複数の圧力センサと流量調節機構を備え、排気管内部の圧力が等しくなるように流量を調節しながら、前記ロードロック室の真空排気を行う低汚染ローダ、及び当該低汚染ローダを備えた荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】トップテーブルの小型化と、トップテーブル質量の軽量化を実現しつつ、かつ長尺の反射体を必要とせず真空試料室の小型化が可能な真空内処理装置ないし荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】測長に使用する一対の干渉計および反射体の両者が可動となるようステージを構成し、かつステージが持つ複数の移動軸のうち上記一対の干渉計および反射体によって測長が行われる方向とは交差する移動軸と平行な方向に対して、上記一対の干渉計および反射体が互いに対向する状態を保ったまま移動できるようにステージを構成する。 （もっと読む）

【課題】
デバイス等の不良原因となる１μmほどの微小絶縁物試料等の分析前処理として、帯電の支障を少なくし、周辺の基材を混合することなく目的物のみをサンプリングすることを目的とする。
【解決手段】
試料の観察、サンプリング領域に電位制御が可能で導電性により形成された端子を接触させる機構を考案した。本機構は前記観察、サンプリング領域の周囲に接触する導電性の端子とこの端子の移動を精密に制御する動作機構と端子に電圧を印加するための電位制御機構と端子をアースおよび電位制御機構に接続する機構とから成り、前記端子を試料の近傍に接触させることにより観察、サンプリングの過程で生じる電荷をアース線を通して逃がすものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ホトマスクの表裏面に押圧部材を押し当てることなく、ホトマスクの搬送及び測定，検査時に、当該ホトマスクの除電を行う試料保持装置の提案を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、真空試料室と、予備排気室との間で搬送され、ホトマスクを保持する試料保持装置であって、ホトマスクのパターンが形成された面を正面としたときに、ホトマスクの側面よりホトマスクを押圧する押圧機構を備え、押圧機構は、ホトマスクの側面に平行な回転軸を持つ回転部材を有し、回転部材は、回転軸と交差する２つの辺の間に形成される頂角部を有し、頂角部が前記ホトマスクの側部との接触部となるように構成した。 （もっと読む）

【課題】ステージ傾斜角測定用のセンサーや校正サンプルを使用することなく、正確な傾斜角度を取得する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡１は、設計データに基づいて作成される試料であって、設計データにおいて距離計測の基準となる特徴点が直交する２方向に分布したパターンが形成される試料を撮像し（ステップＳＴ２）、撮像した現在視野画像中の傾斜方向と直交する方向に配置された特徴点間の距離と、当該特徴点間の設計データ上の距離とに基づいて、現在視野画像の倍率変化を求め（ステップＳＴ５）、前記現在視野画像中で傾斜方向に沿って配置される特徴点間の距離と、当該特徴点間の設計データ上の距離と、前記画像の倍率変化とに基づいて前記傾斜角を求める（ステップＳＴ６）。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料室内を大気開放することなく容易な作業により短時間で差動排気絞りの着脱，位置調整，交換が行え、高分解能化が可能になる環境制御型電子線装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は上記の目的を達成するために、電子線を放出する電子銃と、電子銃から放出された一次電子線を試料上に集束する対物レンズと、前記対物レンズ下に配置される試料室と、前記試料室内に備えられた試料微動装置と、前記試料室内の真空度を制御する排気系とを備えた電子顕微鏡において、前記試料微動装置に、差動排気絞りを着脱する交換部材を設置し、前記試料微動装置による前記交換部材の駆動により差動排気絞りを前記対物レンズに対して着脱することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料観察面の帯電を簡易な手段で防止でき、生体試料等において、乾燥後も収縮等の変形を抑制でき、さらに収縮痕へのイオン液体の部分的な残留により試料本来の像が妨げられることを抑制できる電子顕微鏡による試料観察用の液状媒体とそれを用いた試料観察方法を提供する。
【解決手段】水への溶解度が550g/100g water以上または10重量%水溶液での浸透圧が0.7 Osmol/kg以上のイオン液体、特に下記式（I）：


（式中、R¹〜R⁴は炭素数1〜5のアルキル基、または−R⁵−Aで示される水溶性官能基（R⁵は炭素数1〜5のアルキレン基、Aは水酸基等を示す。）を示し、その少なくとも１つは水溶性官能基である。X^-は、アルキルスルホン酸イオン等のアニオンを示す。）で表されるイオン液体を必須成分として含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 試料に電子線を照射してＸ線分析を行なう電子線装置において、高感度のＸ線検出を行なうと共に、試料とＸ線検出器の装置への脱着を簡易に行なうことのできる試料ホルダを提供する。
【解決手段】 サイドエントリー型の試料ホルダＳＨの先端部に試料台支持部材３１で支持されたシリコンドリフト型Ｘ線検出器を組み込む。Ｘ線検出素子１の上に分析試料Ｓを直接載置する。試料位置移動はレバー３２により試料台支持部材３１を動かすことにより行なう。電子線ＥＢにより試料Ｓから発生した特性Ｘ線は、試料の直下にあるＸ線検出素子１により高感度で検出される。 （もっと読む）

【課題】回路パターンの微細化に伴い、露光の際のショットの形状の歪みがある場合には、電子顕微鏡によるウェーハ検査時のスループットの低下や自動化率の低下が認められ、ショット歪みに対する位置補正動作を実行する方式を提供する。
【解決手段】１つのショット内の複数点について位置ずれ情報を検出し、当該複数点の位置ずれ情報に基づいてショット歪みの情報を取得し、取得されたショット歪情報に基づいて、各ショットに固有の座標補正情報を算出する。 （もっと読む）

【課題】試料の軸を試料台の回転軸に合わせ、省スペースにおいて試料の位置調整を行う顕微鏡用試料台を提供する。
【解決手段】線状体の試料における周方向の異なる位置を顕微鏡で観察し検査するための顕微鏡用試料台である。回転軸21（回転軸a）を有する回転体20（回転体Ａ）と、回転体20に対して、回転軸21と偏心した回転軸31（回転軸b）にて回転自在に支持される回転体30（回転体Ｂ）、と、回転体30に対して、回転軸21及び回転軸31の双方と偏心した回転軸41（回転軸c）にて回転自在に支持され、前記試料の軸を回転軸21と実質的に平行に保持する試料ホルダ10を有する回転体40（回転体Ｃ）、とを備える。前記回転軸21、回転軸31、回転軸41及び試料ホルダ10は、回転体40及び回転体30の少なくとも一方を回転することで、試料Sの軸を回転軸21と同軸に調整するように配置されている。 （もっと読む）