【課題】 吸着台の吸引孔形成領域よりも小さいサイズの対象物を安定して保持することが可能な吸着用部材を提供する。
【解決手段】 吸着用部材は、吸引孔が設けられた吸着台上に載置され、吸引孔による気体の吸引によって対象物を吸着する。吸着用部材は、吸着台上に載置されるベース部材と、開口部を有し、ベース部材上に着脱可能に載置されるカバー部材であって、開口部の内側に対象物が載置されるカバー部材とを備える。ベース部材は、吸引孔による吸引を可能にして対象物を吸着する複数の吸着領域を有し、カバー部材は、複数の吸着領域のうち少なくとも１つが開口部の内側に位置し、その他の吸着領域が前記カバー部材によって覆われるようにベース部材上に載置される。 （もっと読む）

【課題】絶縁部及び導電部を含む回路パターンが形成された基板に対して、導電部であるべき部位が絶縁部となっている欠陥の検査を高精度に行うこと。
【解決手段】絶縁部及び導電部を含む回路パターンがその表層部に形成された基板（ウエハＷ）を真空容器２１内の載置台２２に載置する。次いで前記ウエハＷに対して電荷密度が６．７×１０^-３Ｃ／ｎｍ^２以下の電子線を照射し、前記電子線の照射により放出された２次電子を検出する。電子線の照射位置と載置台とを相対的に移動させて、ウエハＷの検査対象領域全体において、放出された２次電子の検出結果と、ウエハＷ上の電子線の照射位置とを対応付けたデータを取得し、このデータに基づいて、導電部であるべき部位が絶縁部となっている欠陥の有無を検査する。 （もっと読む）

【課題】 光学顕微鏡や電子顕微鏡に使用される試料ステージのテーブルを所定位置にミクロン単位で移動させた際、テーブルが傾斜してしまうことを精度高く抑制することができるようにすることにある。
【解決手段】 固定ベース体１０１に対し、テーブル１０２を、水平方向或いは揺動方向或いは鉛直方向に摺動組み付けする位置決めステージにあって、固定ベース体１０１とテーブル１０２とをクロスローラガイド機構を介して摺動組み付けし、テーブル１０２側のクロスローラガイド機構のローラレース１０９に対向する固定ベース体１０１面に磁石１０５を配した構成で、テーブル１０２を所定位置に移動させた状態で固定ベース体１０１とテーブル１０２とを磁石１０５相互磁着させることによりテーブル１０２の静止状態を確実に維持する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】電子顕微鏡において温度制御デバイスを用いる方法。デバイス構造の温度を制御して、以前は取得することができなかった反応及びプロセスに関する情報を抽出することを可能とする。 （もっと読む）

【課題】測長ＳＥＭのような半導体の検査や評価を目的にした装置に適用可能なステージ装置を小型化、軽量化すると同時に電子線への磁場の影響を低減する。
【解決手段】トップテーブル１０１の大きさと可動ストロークとから決まる最小寸法とほぼ同じ大きさのベース１０４上に、リニアモータ１１０，１１１，１１２，１１３を、電子ビーム照射位置（ステージ装置中央）から遠ざけるように４辺に配置する。リニアモータ固定子１１０，１１２は「コの字」構造の開口部を装置の外側に向ける構成とした。また、可動テーブルとトップテーブルの連結は、非磁性材料を用いたリニアガイド１０７，１０９もしくは非磁性材料を用いたローラ機構によって行った。 （もっと読む）

【目的】本発明は、顕微鏡用の試料台・試料ホルダ・試料ステージに関し、試料を固定した試料台を簡単な作業で固定して動かないようにして拡大された画像を表示させることを目的とする。
【構成】側面にピンセットで保持するための少なくとも２つの穴を設けた試料台と、試料台を挿入する穴、カット面、スプリング、および側面に２つの穴を設けた試料ホルダと、試料ホルダを挿入する穴、カット面、およびスプリングを設けた試料ステージとから構成される顕微鏡用の試料台・試料ホルダ・試料ステージである。 （もっと読む）

【課題】検査装置内部の汚染に起因した、形状観察、寸法精度の観察分解能の低下を防止及び観察対象の汚染を抑制する。
【解決手段】検査装置内部の汚染をモニターする手段として、固体表面に汚染成分を吸着し、吸着した汚染成分を加熱ガス化して気体分析装置により検出する。
モニターした汚染量に応じて、検査装置内の清浄化を実施する。検査装置清浄化は、試料観察室に酸素の活性種を生成する手段を設け、観察室内部に残留している汚染を低減し、汚染影響による観察分解能の低下が少ない形状観察や寸法測定を可能とするとともに、観察対象の試料の汚染を防止する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空室内の真空悪化及び導入ガスによる荷電粒子線装置の装置内部品へのダメージを抑えつつ、試料汚染を除去することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明は、荷電粒子源を有し、当該荷電粒子線から放出される荷電粒子線を試料に照射し、発生する二次荷電粒子を検出する荷電粒子線装置において、前記試料の前記荷電粒子線を照射する位置に試料上の汚染を除去するガスを噴射するノズルと、当該ノズルの噴射口の前記電子線照射位置からの距離を調整する調整機構及び／又は前記ガスのノズルからの噴射量を調整する調整機構を設けたことを特徴とする。また、試料の荷電粒子線を照射する位置に試料上の汚染を除去するガスを噴射するノズルと、当該ノズルの先端部の形状は、試料の荷電粒子線照射位置を覆い、且つ荷電粒子線を通過する開口部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、放出ガスの発生個所であると考えられる摺動部から放出される放出ガスを高効率、且つ簡単な構成で除去する真空排気方法及び真空排気装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、真空室内に移動装置を備えた真空装置において、前記移動装置の移動に伴って、摺動する摺動機構を備え、当該摺動機構の被摺動部を、活性金属材料を含むゲッタ面とし、摺動部を当該ゲッタ面を摩擦する摩擦部材とすることを特徴とする真空装置、及び移動機構の移動に伴って、活性金属材料表面を摩擦することで、ゲッタ面を新生する真空排気方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明は試料観察装置に関し、薄膜が破損した時に真空室内に試料溶液が飛翔することを防止することができる試料観察装置を提供することを目的としている。
【解決手段】第１の面に試料が保持される薄膜４１と、該薄膜４１の第２の面に接する雰囲気を減圧する真空室と、該真空室に接続され、前記薄膜４１を介して試料２０に１次線を照射する１次線照射手段と、該１次線の照射により試料から発生する２次的信号を検出する信号検出手段４を具備する試料観察装置において、前記薄膜４１をその中央部に配置するシャーレ４０と、該シャーレ４０を支持する台座４２’よりなる試料保持手段を有し、該試料保持手段の台座４２’の真空室側に試料溶液が飛翔することを防止するための溶液飛翔防止壁４７を設けて構成される。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置決め後にモータのサーボ制御を停止してもステージの位置ずれを発生させないように、ブレーキ機構を最適に制御できるステージ装置及び同装置のステージ位置決め制御方法を提供する。
【解決手段】ピエゾ素子６３２で駆動されるブレーキ機構を備える。それぞれの位置決めすべき点に初めて位置決めする際、ステージを移動、停止した後に、ブレーキ制御最適化手段６４０によりリニアモータ６２２に対する推力指令を０に近づけるようにブレーキ駆動指令を調整し、リニアモータ６２２のサーボ制御をオフにしてもステージの位置ずれを発生させないような最適なブレーキ駆動指令を求め、これをブレーキ制御パラメータ記憶手段６４１に記憶する。さらに、同じそれぞれの位置決めすべき点に再度ステージを位置決めする際、ステージを移動、停止した後に、記憶した最適なブレーキ駆動指令をブレーキ機構に対して出力し、高精度な位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】リターディング電圧印加方式によってナノインプリント用フォトマスク上のパターン寸法を正確に測定することができる微小寸法測定走査電子顕微鏡（CD-SEM）等の荷電粒子線装置を提供することにある。
【解決手段】ナノインプリント用フォトマスクをホールダに装着するためのアタッチメントを用いる。倍率ずれを求め、それを用いて、ナノインプリント用フォトマスク上のパターンの寸法の測定結果を修正する。倍率ずれは、ホールダの寸法校正用試料とナノインプリント用フォトマスクの寸法校正用試料を用いて求める。更に、倍率ずれは、ナノインプリント用フォトマスクの帯電電圧から求めてもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料の一部が浮いたように変形したウエハであっても、試料移動時の試料変形に効果的に抑制する試料保持装置、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料を第１の高さにて支持する複数の支持台を備えた試料保持装置において、前記試料が配置されていない状態で、前記第１の高さより高い第２の高さに、その先端が位置する接触体と、当該接触体を上下移動可能に支持するガイドと、当該ガイドに支持された前記接触体の先端が、前記第２の高さより下方に移動したときに、前記接触体を上方に押圧する押圧部材を備えた試料保持装置、及び当該試料保持装置を備えた荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、微小試料片およびまたはその周辺領域を汚染することなく、確実で安定的な微小試料片の分離、摘出、格納を行う装置および方法を提供することにある
。
【解決手段】試料基板から観察すべき領域を含む試料片をイオンビームスパッタ法により分離し、試料を押し込んで保持し、引き抜いて分離するための、根元に比較して先端が細く、該先端部が割れている形状で、該形状により得られる試料片を保持する部位の弾性変形による力で試料片を保持する棒状部材からなるはり部材を用いて、前記試料片を試料基板から摘出し、試料片を載置するための載置台上へ移動させた後、前記はり部材と前記試料片を分離することで該試料片の格納を行う。 （もっと読む）

【課題】被検査試料の外周部と中心部とで帯電特性が異なることから、被検査試料外周部と中心部とで同等の検査感度を得ることができない。
【解決手段】被検査試料を載置する試料ホルダの外周部に試料カバーを設け、被検査試料の帯電特性にあわせて試料カバーの帯電特性を変更する。これにより、試料外周部と中心部とで均質な帯電状態を形成でき、試料外周部の検査・観察が従来よりも高感度に実現可能となる。 （もっと読む）

【課題】試料表面の帯電現象を防止する為に複雑な形状を有する該試料のあらゆる面及び孔の内部にも出来るだけ均一に導電性薄膜微粒子を付着（コーティング）させる為の前処理装置。
【解決手段】スパッタされたターゲット２の原子がステージ１１上に載置された試料１０に付着することにより試料表面上に導電性薄膜が形成される。その際、該試料の表面ないしは側壁面上に存在する微細な突起の周囲や孔の内壁に出来るだけ均一な導電性薄膜を一様に形成せしめるべく該試料を載置するステージ１１を制御器７を用いて該ステージ面の中心から互いに離間した３つの保持位置の下部に取り付けられている３つのアクチュエータ１２を通して上下運動させることにより、該ステージ面上の試料を回転させることなく３６０度方位全域で該試料を一定傾斜状態のまま保持することで該ステージ上に載置された非導電性試料の表面ないしは側壁面に一様にコーティングが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造で、微細振動、ドリフトが起こりにくく、且つテーブルの歪がなく、摺動摩擦力の小さい安価な試料ステージの提供する。
【解決手段】試料ステージは、ベースと、移動テーブルと、前記ベースに対して前記移動テーブルを駆動させるための駆動機構と、前記ベースに対して前記移動テーブルを滑り接触させる固体滑り機構と、前記移動テーブルと前記ベースとの間に設けられ前記移動テーブルの移動方向を拘束する転がり案内機構と、前記移動テーブルと前記転がり案内機構の間に形成された間隙に設けられた弾性部材と、を有する。弾性部材は、前記移動テーブルの荷重を支持するように弾性変形可能であり、且つ、前記移動テーブルの移動方向に直交する方向の前記移動テーブルの移動を拘束するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子顕微鏡に関し、大気圧での気体と固体の反応過程の観察が実現できる電子顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】電子線を出射する電子線源１と、該電子線源１から出射される電子線を集束させる電磁レンズと、該電磁レンズを通過した電子線の光軸調整を行なうアライメントコイルと、試料近傍の雰囲気を制御する制御装置と、鏡筒の所定の箇所に少なくとも一つ設けられた排気ポンプと、試料近傍に設けられたガス導入装置１２と、試料に電子線を照射して該照射領域からの信号に基づいて画像を構成する画像構成装置３５と、画像を記録及び表示する画像出力装置と、これら各構成要素を制御するコンピュータ５０とを搭載した電子顕微鏡において、前記コンピュータ５０は、ガス種と試料近傍の圧力とから、高圧タンクを放電させない圧力を維持できるオリフィスの数及びこれらオリフィスの径を求めるように構成される。 （もっと読む）

【課題】真空容器への適用が可能で、設計自由度及び設置の自由度が高く、メンテナンス性の良い２軸ステージ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る２軸ステージ装置は、Ｙ軸方向に移動可能なＹテーブル４と、Ｙテーブル４上に載置された中間テーブル１５と、中間テーブル１５上に載置され、該中間テーブル１５上に設けられたＸ方向ガイド１１によってＹ軸方向と直交するＸ軸方向に移動可能なＸテーブル９を有している。Ｙ送りねじ５はＹモータ２の回転をＹ軸方向への直線運動に変換し、Ｙテーブル４をＹ軸方向に移動させる。一方、ボールスプライン軸１４はＸモータ７によりＹ軸方向を回転中心として回転する。スプラインナット１４１には歯車１３が固定されており、この歯車１３とＸテーブル９に固定されたラック１２によってボールスプライン軸１４の回転がＸ軸方向への直線運動に変換され、Ｘテーブル９をＸ軸方向に移動させることができる。 （もっと読む）

【課題】二次電子又は反射電子の強度が時間的に変化しても適切な条件で検査を行う。
【解決手段】電子線を検査対象物に照射する照射光学系１，４と、この照射光学系の照射位置をＸ方向及びＹ方向に走査する走査部７と、電子線が照射されることにより検査対象物で発生した二次電子又は反射電子を制御する帯電制御電極５と、この帯電制御電極を介して二次電子又は反射電子を検出するセンサ１３と、このセンサで検出した信号を電子線の照射開始時刻からディジタル画像信号に逐次変換するＡ／Ｄ変換器１４とを備えた半導体ウェーハ検査装置であって、ディジタル画像信号を第１の設定時刻から第２の設定時刻まで画素毎に加算して検出画像を生成する加算回路１５と、検出画像と検査対象物に形成された回路パターンの参照画像とを比較して欠陥を判定する画像処理回路１６とを備える。 （もっと読む）