【課題】高い生産性と信頼性を両立した気密容器の製造方法を提供する。
【解決手段】粘度が負の温度係数を有し、第１および第２のガラス基材１４，１３よりも軟化点が低い接合材１を、第１のガラス基材１４の上に枠状に形成し、第２のガラス基材１３を、接合材１と接触させるように、接合材１が形成された第１のガラス基材１４に対向配置する。局所加熱光４１は、対向配置された一対の反射部材の間に形成されたギャップ内に入射することで、接合材１の枠状に延びる方向に沿って線状にビーム整形される。ビーム整形された局所加熱光を、接合材１の枠状に延びる方向に沿って移動させながら接合材１に照射し、対向配置された第１のガラス基材１４と第２のガラス基材１３とを接合する。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル製造段階において、プラズマディスプレイパネルの中央付近とプラズマディスプレイパネルの外周近傍の温度制御を独立して行うことで、水や二酸化炭素の脱離を適切に行う手段を提供する。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルの前面板１と背面板２を封着する際に、内側ヒータ１０１、外側ヒータ１０２の加熱部が複数含まれる封着・排気装置を用いる。封着期間は外側ヒータ１０２の加熱温度を内側ヒータ１０１のそれより高く設定する。一方、排気期間では、内側ヒータ１０１の加熱温度を外側ヒータ１０２の加熱温度より高くする。 （もっと読む）

【課題】クリップを使用せずにパネルを封着できるプラズマディスプレイパネル製造装置及びプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】
支持部材１３を、第一の板６を間に挟んで封着部材７と対面して第一の板６の表面に接触させ、弾性部材２２を、第二の板５を間に挟んで封着部材７と対面して第二の板５の表面に接触させ、第一、第二の板６、５を加熱装置１６からの輻射熱によって加熱して封着部材７を軟化させ、弾性部材２２を、第二の板５の表面の、支持部材１３を通る法線方向に押圧して、封着部材７を第一、第二の板６、５に環状に密着させ、処理対象物２０の加熱を停止し、封着部材７を固化させて第一の板６と第二の板５とを間に隙間を存した状態で互いに固定させる。 （もっと読む）

【課題】光硬化材料を硬化させるための光照射の際に照射対象物の温度上昇を抑えることが可能で、発光時の投入電力の小さい小型の光源装置を提供する。
【解決手段】本発明の光源装置は、光硬化性材料の有効硬化波長に応じた発光ピークを有する発光ダイオード３を複数備え、これら複数の発光ダイオード３により照射対象物に対して光を照射するための光源装置であって、複数の発光ダイオード３が、照射対象物の近傍において当該照射対象物の照射対象領域７に応じて配置されるように構成されている。本発明では、複数の発光ダイオード３が、照射対象物の照射対象領域７に沿って枠状に配列されている。収容容器２の内面２ａに、４５０ｎｍ以下の光に対する高反射率被膜が施されている。冷却した空気を収容容器２の収容部４内に流すように構成されている。 （もっと読む）

【課題】二枚のパネルの間に充填された放電ガスの純度を保つことができる封止構造を有するＰＤＰの製造方法および製造装置、並びに、ＰＤＰを提供する。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、一面に電極が設けられた二枚のガラス基板３１，３２を、それぞれの電極が対向するとともに、所定の間隔を開けて重なるように配置し、これらの二枚のガラス基板３１，３２間の外縁域を封止材３３により封止する工程を少なくとも備えてなり、封止材３１として、平均粒径が７０μｍ以上、１００μｍ以下の無機系ビーズと、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂とを混練してなる組成物を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、封着工程中にパネル内に発生する不純物ガスの発生を抑制し、不純ガスによる保護層の特性劣化の発生を防ぐプラズマディスプレイパネルの製造方法及び基板封着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一方の面に誘電体層１３を被覆する保護膜１４が形成された前面板１０と、該前面板との対向面に隔壁２２及び蛍光体２３が形成された背面板２０とを重ね合わせて所定の封着温度で加熱し、該前面板と該背面板とを封着する封着工程を含むプラズマディスプレイパネル４０の製造方法であって、
前記封着工程より前に、前記背面板を単独で前記封着温度よりも高い温度で加熱する背面板加熱工程を有し、
前記背面板の温度を前記封着温度まで下げてから、前記前面板と前記背面板を重ね合わせて封着する前記封着工程を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】前面基板と隔壁との間の隙間が発生する原因となる、前面パネルと背面パネルの間のギャップの不均一が軽減され、もって、ノイズの発生が抑制されたＰＤＰを提供することを目的とする。
【解決手段】対向配置された２枚の基板１、２の外周辺部を封着部材１１により封着する工程を備えるプラズマディスプレイの製造方法において、封着部材１１の軟化時に、パネル内部圧力を外部圧力よりも小さい圧力とする圧力差を設けることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル内に残留ガスが少なく、封止部にチップ管の突起物がなく、封止部で放電ガスが漏洩しない封止方法と製造装置を提供する。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルは、接続孔１８が設けられた第一の基板１０と第二の基板２０からなり、第一の基板１０と第二の基板２０を貼り合わせ、接続孔１８から所定圧力の放電ガスを導入する。表面に封着材料６２が配置された封止板６１を第一の基板１０表面の接続孔１８周辺に押し当て、封着材料６２を加熱台４６により加熱溶融し、冷却固化させ接続孔１８を封止する。封着材料６２を加熱溶融させる際に、封着材料６２の周辺（小室４１内）の圧力を第一の基板１０と第二の基板２０間の圧力より高くすることにより、封止部から放電ガスが漏洩しなくなる。また、チップ管を必要としないので、パネル内の排気が十分にできる。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイの製造技術において、スループットの向上が可能になる技術を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ装置の製造装置１はアライメント封着室６を有している。アライメント封着室６は位置合わせ機構の他に加熱機構を有しており、位置合わせが終了した後にフロントパネル及びリアパネルを加熱して封着することができ、位置合わせ工程と封着工程とを一つの処理室で行うことができる。従って、位置合わせが終了した一組のパネルをクリップで仮留めし、封着室へ搬送する必要があった従来に比して、工程数を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】 平板型画像表示装置の製造において、アノード電極を有するプレートと電子放出素子を有するプレートとをアライメントマークの検出装置を用いることなく高精度に位置合せする。
【解決手段】 本発明の、複数の電子放出素子を有する第１プレートを備えた平板型画像表示装置の製造方法は、複数のアノード電極を有する第２プレートを前記第１プレートに対向して配置する配置工程と、前記複数の電子放出素子から放出された放出電子によって前記複数のアノード電極を通して流れる電流値をそれぞれ計測する計測工程と、前記計測工程で計測された複数の電流値に基づいて前記第１プレートと前記第２プレートとの位置関係を決定する決定工程と、前記決定工程で決定された位置関係に応じて前記第１プレートと前記第２プレートとの位置関係を修正する修正工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、封止により発生する残留応力を低減させることができる整形装置、封止部の整形方法、フラットパネルディスプレイおよびフラットパネルディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】一方の主面に封止部が形成された基板を載置する載置台と、載置台と対向して設けられた第１の整形手段と、前記第１の整形手段と並設された第２の整形手段と、前記載置台と、前記第１および前記第２の整形手段と、の前記主面に対して垂直な第１の方向における相対的な位置関係を変化させる第１の移動手段と、前記載置台と、前記第１および前記第２の整形手段と、の前記第１の方向に略直交する第２の方向における相対的な位置関係を変化させる第２の移動手段と、を備え、第１の整形手段は、前記載置台に向けて突出する凸状の第１の整形部を有し、前記第２の整形手段は、前記載置台と対向する平面状の第２の整形部を有すること、を特徴とする整形装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来技術に係る構成に較べシンプルな構成で、固相の低融点金属素材の表面に生じている酸化物が溶融金属への混入することを抑制することができる溶融金属の供給部材を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明は、固相の低融点金属素材を溶融して供給する溶融金属の供給部材であって、前記低融点金属素材が直接的または間接的に当接して溶融金属を生成する溶融部と、前記溶融部に形成された第１開口を一端に及び第２開口を他端に有するとともに前記溶融部で生成された溶融金属が流通する略管状の流通通路とを有し、前記低融点金属素材が溶融する時以前に酸化物除去部で表層の酸化物が除去された当該低融点金属素材を前記溶融部で溶融することを特徴とする溶融金属の供給部材である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、封止部の気密に対する信頼性を向上させることができるフラットパネルディスプレイ、フラットパネルディスプレイの製造方法、および塗布装置を提供する。
【解決手段】電子素子が設けられる素子領域を有する第１の基板と、前記素子領域に対向して設けられる第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられ、フリットを含む封止体であって、前記素子領域を取り囲む封止部と、一端が前記封止部に連接し他端が外側に延出した突出部と、を有する封止体と、を備えたことを特徴とするフラットパネルディスプレイが提供される。 （もっと読む）

【課題】 被加熱部材を挟む際に安定したクランプ動作ができ、加えて、クリップの着脱時に被加熱部材を汚染しない安価なクリップを提供する。
【解決手段】 被加熱部材を固定保持するクリップにおいて、該クリップは、底辺部、該底辺部の両端から延びて弾性力によって互いに近接する第一側面部および第二側面部、前記近接することで形成されるクランプ部、を有する一枚の金属板と、前記第一側面部に一端が固定され他端が前記クランプ部とは前記底辺部を超えて反対方向に延びる第一側板、前記第二側面部に対し一端が固定され他端が前記クランプ部とは前記底辺部を超えて反対方向に延びる第二側板、とを有し、前記第一側板および前記第二側板のそれぞれの前記他端を互いの近接方向に押圧することで前記クランプ部が開口する。前記金属板はバネ材で、前記第一側板と前記第二側板はオーステナイト系ステンレス鋼板で形成できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高温で繰り返し使用しても発錆し難い、耐食性（防錆性）に優れたＦｅ基合金製クリップおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、質量％でＣ：０．０１〜０．１０％、Ｎｉ：２０．０〜３５．０％、Ｃｒ：１０．０〜２０．０％、Ｍｏ：０．０５〜５．０％、Ｖ：０．１０〜１．０％、Ａｌ：０．０５〜３．０％、Ｔｉ：１．５〜４．０％、Ｂ：０．００１〜０．０１０％、Ｓｉ：１．０％以下、Ｍｎ：２．０％以下、残部はＦｅおよび不可避的不純物を含むＦｅ基合金でなり、クリップの表面の少なくとも深さ０．１μｍから１μｍのＣｒ濃度が母相の８０％以上であるＦｅ基合金製クリップである。例えば、前記Ｆｅ基合金でなる金属板をクリップ形状に塑性加工後の熱処理において、少なくとも４５０℃以上の温度域における雰囲気を非酸化性かつ非窒化性とする製造方法によって得られる。 （もっと読む）

【課題】接合部材の接合部などに発生する応力を低減あるいは緩和できる接合構造体、接合方法及びレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】少なくともいずれかがレーザ光に対して透過性を有する第１及び第２の接合部材と、前記第１の接合部材と前記第２の接合部材との間にこれらに当接可能に設けられ、前記第１の接合部材と前記第２の接合部材との間の隙間を確保する小片部と、前記第１の接合部材と前記第２の接合部材とにそれぞれレーザ光により接合され、前記第１の接合部材と前記第２の接合部材とを結合する弾性体と、を備えたことを特徴とする接合構造体が提供される。 （もっと読む）

【課題】 従来のクリップと同等以上の特性を有した安価なクリップを提供する。
【解決手段】 被加熱部材を固定保持するクリップにおいて、該クリップは、一枚の金属板でなるバネ板と、該バネ板の曲げて形成された両端部にそれぞれ固定され、該両端部の延長方向において前記バネ板の弾性力によって互いが近接する第一側板と第二側板とを有する。前記バネ板はバネ材で、前記第一側板と前記第二側板はオーステナイト系ステンレス鋼板で形成できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザ光の照射によりフリットを溶融させる場合であっても変形や残留応力の発生を抑制することができる封止装置、封止方法、電子デバイス、および電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】レーザ光源と、被処理物を保持する保持手段と、前記保持手段に対向して設けられ、前記レーザ光源からのレーザ光が導入される照射手段と、前記保持手段と、前記照射手段と、の相対的な位置を移動させる移動手段と、を備え、前記照射手段は、前記被処理物に設けられたフリットに線状のレーザ光を集光させる光学手段を有することを特徴とする封止装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】エージングの時間を短縮してスループットを向上させることができる封着パネルの製造方法及びそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】背面基板２の内面に、紫外線硬化性樹脂からなる封着材２０を塗布する塗布工程と、封着材２０の内部に未硬化部分を残しつつ封着材２０の少なくとも表面を硬化させるアッシング工程（仮硬化工程）と、背面基板２の内面に前面基板１を貼り合わせる封着工程と、を備え、アッシング工程では、背面基板２の内面側にプラズマアッシングを行い、このプラズマアッシング時に放出される紫外線により封着材２０の少なくとも表面を硬化させて仮硬化膜２０ａを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化物カソードを備えた蛍光表示管の製造方法において、エミッションサイト数を増加させることのできるフィラメント活性化方法を提供すること。
【解決手段】トレー１５には、アノード基板２１１とカソード基板２１２を離間して設置してある。トレー１５は、焼成室１１１〜冷却室１１４を順次移動する。活性化・封止室１１３は、二酸化炭素ガスを導入して真空度（室圧）ＰをＰ１（５０Ｐａ）に設定し、時間ｔ１にフィラメントの通電加熱を開始し、時間ｔ２に排気を開始する。活性化・封止室１１３の真空度Ｐは、Ｐ２（１０^-2〜１０^-4Ｐａ）まで排気して時間ｔ３に通電を停止し活性化を終了する。活性化終了後、アノード基板２１１をカソード基板２１２のシール部２３に圧着（接着）して封止する。 （もっと読む）