【課題】真空チャンバー内の真空を実現する方法および設備を提供する。
【解決手段】本発明は、真空チャンバー（４００）内の真空を実現する方法に関する。真空チャンバーは、複数の真空チャンバーによって共有されるポンプシステム（３００）に接続される。方法は、各真空チャンバーを別々にポンプ吸引することを有している。本発明はさらに、ポンプシステムに接続された複数の真空チャンバーの設備に関する。この設備では、ポンプシステムは、各真空チャンバーを別々にポンプ吸引するように用意される。
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【課題】本発明は、真空排気時等の巻上げによって生ずるパーティクルの試料への付着を抑制する真空排気装置、及び真空排気装置を備えた荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、複数の排気管を持つ予備排気室を備えた真空排気装置であって、当該複数の排気管に流入する気体のパーティクルを検出する複数のパーティクルモニタを備え、当該複数のパーティクルモニタにて検出されるパーティクルの量が多い側に設けられた排気管を用いて、前記予備排気室の真空排気を行う真空排気装置、及び当該真空排気装置を備えた荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、高真空排気が可能な真空室内のガス成分を、高精度に測定するガス測定方法、及び真空装置の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するための一態様として、真空室に当該真空室内のガス成分を測定する測定装置を備えた装置のガス成分測定法において、ガス成分測定時に、前記真空室の真空排気速度を下げることを特徴とするガス成分測定方法、及び装置を提案する。即ち、残留ガスの排気がされづらい環境を作り出した上で、ガス成分分析を実施する。 （もっと読む）

【課題】グロー放電掘削部による前処理後の試料を汚染することなく観察することが可能な電子顕微鏡、圧力制御方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】観察室７０に隣接して設けられ、内部にグロー放電掘削部２を有する試料交換室５０に試料Ｓが搬入される。試料Ｓが試料交換室５０に搬入された場合に、試料交換室５０内部の空気を排気する交換室ポンプ６３、並びに、グロー放電掘削部内部の空気を排気する第１ポンプ６１及び第２ポンプ６２により、試料交換室５０及びグロー放電掘削部２の圧力を第１圧力に制御する。第１圧力に制御し、またグロー放電掘削部２により試料を掘削した後に、試料交換室５０の圧力を第１圧力よりも低い第２圧力に制御する。その後搬送機構６５０は、観察室７０へ試料Ｓを搬送する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲で加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ビームが通過する第１空間１６および第１空間１６の周囲に壁部１４ａを介して配置される第２空間１７が形成される局所真空チャンバー９と、第１空間１６、第２空間１７を真空状態とするための吸気手段とを備えている。ワークに対向する対向部１５は、ワークに向けてビームを出射するための出射孔２２ａを有する第１対向部１８と、出射孔２２ａの外周側に配置される開口部３２を有する第２対向部１９と、第２対向部１９の変形を防止するための変形防止部２０、１９ｄとを備えている。第１対向部１８と第２対向部１９との間には、開口部３２を介して局所真空チャンバー９の外部に連通しかつ第２空間１７の一部となる対向部間空間１７ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】高真空下（１０^−２Ｐａ以下）にある分析装置内に、正圧（１０^５Pa以上）からガスを精密にかつ安定的に供給し、同一条件を維持し、かつ再現すること共に、所望のガスに短時間で切替えること。
【解決手段】複数の種類のガスをミキシング室で合成し、合成されたガスを導入して減圧ポンプで０．１Ｐａから０．１MＰａまでの範囲内の圧力となるまで減圧し、該減圧されたガスをガス切替弁による切替動作によりガス分析装置に導くガス導入装置及び方法。 （もっと読む）

【課題】広い圧力調整範囲で必要圧力に達するまでの時間を短縮すると共に、試料室専用の回転ポンプを必要としない走査型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子銃を収容し、真空に排気する第１の真空排気手段に接続される電子銃室と、試料を収容する試料室と、前記電子銃室と前記試料室との間に配置され、前記電子銃が放射する電子ビームを前記試料に照射する電子光学系を収容し、圧力可変バルブを介して前記第１の真空排気手段より低真空に排気する第２の真空排気手段に接続される中間室とを備え、前記電子銃室と前記中間室、前記中間室と前記試料室とは、差動排気になるように各々圧力制御絞りを介して接続され、前記試料室と前記電子銃室、前記試料室と前記中間室とは、各々真空バルブを介して接続され、前記試料室は微少リークバルブを備える。 （もっと読む）

【課題】微小化構造を有する物体を検査及び加工するための電子顕微鏡、微小化構造を有する物体の製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、反応ガスを供給すると同時に、加工すべき箇所に電子ビームを当てて、材料を堆積するか、あるいは、材料を切除することにより、物体を加工する工程と、物体の表面を電子ビームによって走査し、生成された後方散乱電子及び二次電子をエネルギー選択器７に導入し、二次電子をエネルギー選択器７によって反射させ、エネルギー選択器７を通過する後方散乱電子を検出し、検出された後方散乱電子に応じて走査領域の電子顕微鏡像を形成して、物体を検査する工程と、形成された電子顕微鏡像を調べて、材料のさらなる堆積又は切除を実施すべきか否かを決定する工程とを含む。並びに、この方法を実施するように構成された電子顕微鏡及び加工システム。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡の分解能を高めるのに対物レンズと試料との間隙を微小にする方法がある。局所真空技術を用いた電子顕微鏡の場合、局所的に真空領域を作り出すには、その照射ヘッドにおいて対物レンズと試料の間に静圧浮上の機構と、差動排気の機構を組み込む必要がある。しかし、静圧浮上の機構と、差動排気の機構を組み込むと、対物レンズと試料の間隙を狭くすることが難しくなる。
【解決手段】照射ヘッド５０の対物レンズ５と静圧機構１８とを一体化して固定した。差動排気機構１９を対物レンズ内の中空部内に配置し、傾動可能に取り付け、試料の凹凸やブレに対して差動排気の機構が追従可能とした。また、試料を対物レンズに対して倣わせる試料側の倣い機構を採用した。局所真空技術を用いた電子顕微鏡の対物レンズと試料との間隙を微小にして分解能を向上させることができた。 （もっと読む）

原子または分子イオンビームの生成に用いられる、デュアルポンプモードを有するイオン注入装置、および、その方法が開示される。１つの特定の例示的実施形態では、イオンビーム種に対応するイオンビーム源ハウジング内の圧力を制御するイオン注入装置が提供される。イオン注入装置は、イオンビームの生成に用いられる複数のイオン種を有するイオンビーム源ハウジングと、イオンビーム源ハウジングからガスを抜くポンプ部と、イオンビームの生成に用いられる複数の種のうちの一種に対応するポンプパラメータに従いポンプ部を制御するコントローラと、を備える。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバー内にガスを導入し、試料表面でのガス反応を観察する光電子顕微鏡装置において、ガス導入に伴う鏡筒内の真空度の低下を抑制し、高分解能の観測を行えるようにする。
【解決手段】紫外光またはＸ線を試料（４）表面に照射することにより発生する光電子を鏡筒（７）内に配置した電子レンズ系（８、９）により結像して試料（４）の表面を観察する光電子顕微鏡装置において、鏡筒（７）の光電子の取り込み部（７ａ）外側に筒状のオープンチャンバー（１３）を取り付け、このオープンチャンバー（１３）の側面に真空引き用の細孔（１４）を設ける。 （もっと読む）

【課題】本発明は、試料室内を大気圧に戻すことなく差動排気絞りの対物レンズからの着脱が行える環境制御型電子線装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、差動排気絞り１７を上下方向に昇降させる昇降機構（１９，２０）と、降下後の前記差動排気絞りを水平方向に移動させる水平移動機構（１９，２０）とを設け、これら昇降機構と水平移動機構の操作部（２１）を試料室６外に設けたのである。
上記構成とすることで、試料室６内を真空に保ったまま差動排気絞り１７を対物レンズ９に対して着脱することができる。 （もっと読む）

【目的】本発明は、低真空電子光学系画像生成装置および低真空電子光学系画像生成方法に関し、試料の近傍を低真空にして当該試料への電子線ビームの照射によるチャージを中和および汚染の発生を低減する共に、高真空側に配置した高検出効率の２次電子検出器で高Ｓ／Ｎ比で検出し良質な画像を生成し、測長対象の測長精度を大幅に向上させることを目的とする。
【構成】低真空に保持して試料を試料移動台上に配置すると共に試料を前記ビームを細く絞る対物レンズの磁界あるいは対物レンズから漏洩した磁界の中に配置した構造を持つ試料室と、ビームを試料に照射しつつ平面走査したときに放出された２次電子を磁界の軸中心の近傍を２次電子検出器の方向に向かって通過する部分に配置する、低真空側と高真空側との間に設けた小さな絞りと、絞りを通過した高真空側に配置した２次電子検出器とを備える。 （もっと読む）

小型の電子顕微鏡は頑丈で操作が簡単であり、特別な設備を必要としないことが好ましい。撮像は、サンプルが挿入された後すぐに開始することができる。単純化された好適な設計には、集束化のための永久磁石を含み、真空コントローラおよび真空ゲージを備えず、後方散乱電子検出器を使用し、二次電子検出器を使用しない。
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小型の電子顕微鏡が、サンプルが存在する真空領域の一部を形成する壁を有する取外し可能なサンプルホルダを使用する。取外し可能なサンプルホルダを用いて真空を含むことによって、撮像の前に真空排気を必要とする空気の容積が著しく低減され、顕微鏡を迅速に真空排気することができる。好適な実施形態では、摺動真空シールが電子カラムの下にサンプルホルダを位置決めすることを可能にし、サンプルホルダは最初に真空バッファの下を通過されて、サンプルホルダ内の空気が除去される。
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【課題】配管を設けることなく排気を必要とする箇所にクライオポンプを直接に取り付けでき、該オポンプの持つ大きな排気速度を十分に発揮させて、価電変換したイオン割合を高率に低減したイオン注入すること。
【解決手段】イオン源から引き出したイオンビームをレジストが塗布された基板を設置したエンドステーション１５に導くビームラインケース２の途中にクライオポンプ１を設けて、レジストから放出されたガスを差動排気することにより該ケース２内の圧力を低下して、イオンの衝突による価電変換したイオン割合を十分の１以下に低減してイオンを注入する。クライオポンプ１は、ビームラインケースの側面に設けられたビームライン中心軸１０と交差する方向に伸びる超低温に冷却されたシールド６と、シールドの内側に同方向に配置された該シールドと連結したバッフル９と、シールドとバッフルとの間に同方向に多段複数列に配置された極低温に冷却されたクライオパネル８とを備える。 （もっと読む）

【課題】外部容器と内部容器とを有する真空容器及びこのような真空容器構造を備える電子線装置において、外部容器の真空室内の内部空間と内部容器の内部空間との間を簡単な構成で遮断する。
【解決手段】真空容器１０１を、内部が真空状態にされる真空室１２０を有する外部容器１２１と、内部容器１１０であってその内外を連通する開口部１１７を有しこの開口部１１７を含んだ少なくともその一部分又は全体が真空室１２０内に収容される内部容器１１０と、備えて構成し、さらに内部容器１１０の内部空間を真空室１２０の内部空間から遮断する遮断機構１９１〜１９４とを外部容器に設ける。 （もっと読む）

【目的】本発明は、電子線ビームを大型試料に照射しつつ走査して画像を生成する大型試料の画像生成装置に関し、円筒状あるいは楕円状あるいは矩形状の複数段の差動排気機構を大型平坦試料に近接して配置し、内部を真空に保持すると共にステージに固定した大型平坦試料を平面内で移動させ、大型平坦試料の一部分を真空にして電子線ビームによる画像を生成し検査などを行うことを目的とする。
【構成】大型平坦試料の任意の一部の表面に近接して複数段の円筒状あるいは楕円状あるいは矩形状であって差動排気し、中心部分を真空に保持する差動排気機構と、差動排気機構の中心の真空部分の大型平坦試料の表面に細く絞った電子線ビームを照射しつつ走査して放出された２次電子あるいは反射された反射電子を検出する手段と、検出した２次電子あるいは反射電子をもとに画像を生成する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料の帯電及び／又は汚染を軽減した荷電粒子ビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム３１を供給するための粒子供給源１３、１４、１６と、荷電粒子ビームを試料上に指向するための光学装置１８、２０、２２、２４、２６、２７と、試料の帯電及び／又は汚染を軽減するためのオゾンユニットを含む。オゾンユニットはオゾン供給源３４、３５、３６と、オゾンガス流を試料２８に指向するための試料ノズルユニット３８を含む。更に、粒子供給源と、光学装置と、検出装置３０と、検出装置の帯電及び／又は汚染を軽減するためのガスユニットを含む。ガスユニットはガス供給源３４、３５、３７と、ガス流を検出装置に指向するための検出装置ノズルユニット４０を含む。更に、本発明は本発明による荷電粒子ビーム装置の操作方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は所定の最終真空圧力を有する粒子光学装置に関する。
【解決手段】 上記目的のため、当該装置の圧力チャンバが、第1絞り弁を介して、蒸気又は気体が既知の圧力で存在する容積と接続し、かつ第2絞り弁を介して真空ポンプと接続する。当該絞り弁に関連する2つのコンダクタンスの比を校正された比にすることによって、真空チャンバの最終圧力は所定の最終圧力となる。これにより、たとえば真空ゲージ及び制御系の必要がなくなることで、そのような装置を小型に設計することが可能となる。 （もっと読む）