【課題】 自動制御または簡単な調整のみによって、イオンビームを高精度に制御する。
【解決手段】 イオンビーム発生装置１０は、複数種のイオンを生成し、該複数種のイオンからなる第１イオンビームＩａを出力するイオン源１と、第１イオンビームＩａの中から特定種類のイオンのみを分離抽出して第２イオンビームＩｂを出力する質量分離機２と、質量分離機２内に中和用電子を供給する中和用フィラメント３と、第１イオンビームＩａの状態を観測する第１イオンビーム観測機４と、第２イオンビームＩｂの状態を観測する第２イオンビーム観測機５と、第１イオンビーム観測機４の出力と第２イオンビーム観測機５の出力との関係が所定の関係となるように、中和用フィラメント３から供給される中和用電子量を調整する第１の制御手段６とを有する。 （もっと読む）

【課題】 質量分離機に外乱が加わっても、イオンビームの調整を容易に行う。
【解決手段】 放電により複数種のイオンを生成し、生成した複数種のイオンからなる第１イオンビームＩａを出力させるイオン源１と、このイオン源１から出力された第１イオンビームの中から特定種類のイオンのみを分離抽出して第２イオンビームＩｂを出力させる質量分離機２と、質量分離機２内に中和用電子を供給する中和用フィラメント３と、イオン源１への放電電力を観測する放電電力観測機４と、質量分離機２から出力される第２イオンビームの電流値を観測するビーム電流観測機５と、放電電力観測機４の出力とビーム電流観測機５の出力との関係が所定の関係になるように、中和用フィラメント３から質量分離機２内に供給される電子量を出力調整する第１の制御手段６と、ビーム電流観測機５の出力が所定の値とするべく、イオン源１の放電電力を出力調整する第２の制御手段７とを有する。 （もっと読む）

走査イオン注入装置の用量均一性が判断される。ベースビーム電流が基板面積全体にわたる完全走査の開始時および／または終了時に測定される。このベースビーム電流は、測定が注入される基板からの脱ガス化による影響を受けないときに測定され、ベース用量分布マップが次いで、当該走査に対して算出される。該走査自体の間に、ビーム不安定性イベントが検出され、該検出済み不安定性イベントの走査における大きさおよび位置が測定される。該算出済みベース用量マップの対応する偏差が判断され、該事前算出済みベース用量分布マップから減算されて、補正済み分布マップを提供する。このように全用量均一性を減算的に（ｓｕｂｓｔｒａｃｔｉｖｅｌｙ）判断することによって、良好な全体の正確性が取得可能であり、該ビーム不安定性イベントの測定においてはそれ程正確ではない。 （もっと読む）

【課題】リボン状連続イオンビームの電流密度の均一性を調整可能とする組立体で操作が簡単で、単純な構造の電力消費量を削減できるイオン注入装置が望ましい。
【解決手段】連続イオンビームに加えられる連続磁場を生成するための電磁制御体が記載される。制御体は、強磁性材からなる支持棒と支持棒上に独立し、かつ隣接して設けられたコイルで構成される直線状の多極アレイと多極アレィと所定距離はなれ平行に設けられた強磁性境界板とからなり、リボン状の移動する連続ビームの均一性を制御するために構築され、電流の均一性を高めるためのパラメータとして磁場の磁場勾配を直接調整することを可能にする。 （もっと読む）

イオン注入装置及びそのスキャンニングシステムにおいて、集束調整装置が、イオンビームの集束特性を動的に調整するために設けられ、スキャナーの少なくとも１つの時間的に変化する集束特性を補正する。スキャンされたイオンビームを加工物に供給するための方法は、イオンビームの集束特性を動的に調整し、スキャンされたイオンビームを作り出すためにイオンビームをスキャンし、そしてスキャンされたイオンビームを加工物に向ける各ステップを含んでいる。
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本発明は、アルミニウム合金製の部品（５）へのイオン注入装置に関するものであって、該装置は、抽出圧力によって加速されたイオンを放出するイオン源（６）と、前記源（６）によって発信された初期イオンビーム（ｆ１’）の、注入ビーム（ｆ１）への第一の調整手段（７−１１）とを有する。前記源（６）は、部品（５）内に１２０℃を下回る温度で注入されるマルチエネルギーイオンの初期ビーム（ｆ１’）を生産する、電子サイクロトロン共鳴源である。前記調整手段（７−１１）を介して調整された注入ビーム（ｆ１）の、これらのマルチエネルギーイオンの注入は、源の抽出圧力によってコントロールされた深さに同時に実施される。
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本発明は、イオン注入システムにおける結晶切断誤差を計算することにある。これにより、正確なイオン注入をより容易にする。また、本発明の１つ以上の構成では、ドーピングされるウエハの表面に形成される特徴部から生じる可能なシャドーイングを考慮する。本発明の１つ以上の構成によれば、結晶切断誤差データ及び選択的な特徴部のデータが、１つ以上のイオン注入ステージまたは注入システムに周期的に供給され、加工物に対するイオンビームの再度方向付ける方法を確認して、所望の注入結果を達成する。
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本発明は、一般に、イオン注入プロセスの欠陥検出および制御方法、およびその実行システムに関する。１つの例示的な実施形態において、この方法は、イオン注入ツール１０に対して調整プロセスを実行することで、イオン注入ツール１０の少なくとも１つのツールパラメータを得るステップと、調整プロセスから得た少なくとも１つのツールパラメータに基づいて、イオン注入ツール１０において実行されるイオン注入プロセスの欠陥検出モデルを選択または作成するステップと、選択または作成された欠陥検出モデルを用いて、イオン注入ツールにおいて実行されたイオン注入プロセスをモニタリングするステップとを含む。別の例示的な実施形態において、この方法は、イオン注入ツール１０に対して調整プロセスを実行することで、イオン注入ツール１０の少なくとも１つのツールパラメータを得るステップと、イオン注入ツール１０において実行されたイオン注入プロセスを受けた少なくとも１つの基板に形成された注入領域の履歴計測データに基づいて、調整プロセスから得た少なくとも１つのツールパラメータが許容可能であるかを決定するステップとを含む。
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