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Fターム[5C094BA03]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 表示素子 (16,797) | 画素回路を有する表示素子 (4,890) | 画素毎にアクティブ素子を有するもの (4,834) | 画素毎に3端子型素子(FET、TFT) (4,665)

Fターム[5C094BA03]に分類される特許

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【課題】寄生容量を十分に低減できる構成を備えた半導体装置を提供することを課題の一とする。また、駆動回路に用いる薄膜トランジスタの動作速度の高速化を図ることを課題の一とする。
【解決手段】酸化物絶縁層がチャネル形成領域において酸化物半導体層と接したボトムゲート構造の薄膜トランジスタにおいて、ソース電極層及びドレイン電極層がゲート電極層と重ならないように形成することにより、ソース電極層及びドレイン電極層とゲート電極層との間の距離を大きくし、寄生容量の低減を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】表示装置の高精細化に伴い、画素数が増加し、ゲート線数、及び信号線数が増加
する。ゲート線数、及び信号線数が増加すると、それらを駆動するための駆動回路を有す
るICチップをボンディング等により実装することが困難となり、製造コストが増大する
という問題がある。
【解決手段】同一基板上に画素部と、画素部を駆動する駆動回路とを有し、駆動回路の少
なくとも一部の回路を、酸化物半導体を用いた逆スタガ型薄膜トランジスタで構成する。
同一基板上に画素部に加え、駆動回路を設けることによって製造コストを低減する。 (もっと読む)


【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装
置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第1の導電層、及び
有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第2の導電
層を形成して素子形成層を形成し、第2の導電層上に第1の可撓性を有する基板を貼りあ
わせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 (もっと読む)


【課題】保護回路を設けて表示装置の信頼性を高める。
【解決手段】画素部が有するトランジスタは、チャネル形成領域を有する第1酸化物半導体層を有し、走査線と電気的に接続する第1ゲート電極を有し、信号線と電気的に接続する第1配線層を有し、画素電極と電気的に接続する第2配線層を有し、画素部の外側領域に、保護回路を有し、保護回路が有する非線形素子30、31は、走査線13又は信号線と電気的に接続される第2ゲート電極を有し、第2ゲート電極を被覆するゲート絶縁層を有し、ゲート絶縁層上に第2酸化物半導体層を有し、第2ゲート電極の電位が、非線形素子の第3配線層又は第4配線層へ印加されるように、第2ゲート電極と第3配線層又は第4配線層とは第5配線層によって電気的に接続されている。第5の配線層は、画素電極と同じ材料を有することができる。 (もっと読む)


【課題】データ線と電界効果型トランジスターとを電気的に接続するコンタクトホール内の構成を改良して、コンタクトホールでの迷光の反射、およびデータ線の抵抗ばらつきを防止することができる液晶装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置100において、コンタクトホール42aの内部には、コンタクトホール42aの内壁42a1に沿って導電性の多結晶シリコン膜60aが形成され、多結晶シリコン膜60aに対して内壁42a1とは反対側にはチタン、ジルコニウムまたはハフニウムからなる遷移金属膜66aが積層されており、データ線6aは、導電性の多結晶シリコン膜60aと、金属材料層65(遷移金属膜66a、アルミニウム膜67aおよびチタン窒化膜68a)との積層構造を有している。多結晶シリコン膜60aと遷移金属膜66aとの間にはシリサイド層61が介在している。 (もっと読む)


【課題】ブラックマトリックス層の幅を設計値以上に拡張しなくても、位置合わせずれによる光漏れが生じることを抑制する。
【解決手段】ボトムゲート電極12aと第1のブラックマトリックス層17aで第1の半導体層14を挟むシングルゲート型の薄膜トランジスタを有する半導体装置であって、前記第1の半導体層と前記第1のブラックマトリックス層は重畳している半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】液晶装置等の電気光学装置において高品質な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、基板(10)上に、複数のデータ線(6a)及び複数の走査線(11a)と、複数の画素の各々に形成された画素電極(9a)と、画素電極をスイッチング制御するトランジスタ(30)と、トランジスタ遮光部分を有する遮光部(71)と、トランジスタ遮光部分と重なる第1部分及びトランジスタ遮光部分と重ならない第2部分を有する中継電極(95)とを備える。更に、画素電極と中継電極とは、第1部分に重なるように開孔された第1コンタクトホール(86)を介して電気的に接続され、トランジスタと中継電極とは、第2部分に重なるように開孔された第2コンタクトホール(85)を介して電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】液晶表示装置の消費電力を低減すること及び表示の劣化を抑制すること。また、温度などの外部因子による表示の劣化を抑制すること。
【解決手段】各画素に設けられるトランジスタとして、チャネル形成領域が酸化物半導体層によって構成されるトランジスタを適用する。なお、酸化物半導体層を高純度化することで、トランジスタの室温におけるオフ電流値を10aA/μm以下且つ85℃におけるオフ電流値を100aA/μm以下とすることが可能である。そのため、液晶表示装置の消費電力を低減すること及び表示の劣化を抑制することが可能になる。また、上述したようにトランジスタは、85℃という高温においてもオフ電流値を100aA/μm以下とすることが可能である。そのため、温度などの外部因子による液晶表示装置の表示の劣化を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】ブラックマトリックス層を設計値以上に拡張しなくても、位置合わせずれによる光漏れが生じることを抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】ボトムゲート電極12aとトップゲート電極17aで半導体層14を挟むデュアルゲート型の薄膜トランジスタを有する半導体装置において、前記トップゲート電極は、第1のブラックマトリックス層によって形成され、前記半導体層は、前記トップゲート電極によって覆われている半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】専用装置を必要とせず、製造スループットを低下させることなく端子上のパッシベーション膜を除去した表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の表示装置は、基板上にマトリクス状に配置され、スイッチング素子及びスイッチング素子によって駆動されるMEMSシャッターを有する複数の画素と、基板上に配置され、外部端子と接続される複数の端子と、
を含む。MEMSシャッターは、開口部を有するシャッター、シャッターに接続された第1バネ、第1バネに接続された第1アンカー、第2バネ、及び第2バネに接続された第2アンカーを有し、シャッター、第1バネ、第2バネ、第1アンカー及び第2アンカーの基板の表面に対して垂直方向の面に絶縁膜を有し、複数の端子の表面、並びにシャッター、第1バネ、第2バネ、第1アンカー及び第2アンカーの基板の表面に対して平行方向であり且つ基板に対面する側と反対側の面には、絶縁膜がない。 (もっと読む)


【課題】反射性画素電極の上層側に絶縁膜が形成されているか否かにかかわらず端子電極を設けることができるとともに、深いコンタクトホールを形成しなくても端子電極の導通を図ることができる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100において、端子電極102は、反射性の画素電極9aと同一の層に設けられているとともに、画素電極9aを構成する導電膜と同一種類の導電材料からなる。このため、画素電極9aの上層側に平坦化膜17等の絶縁膜が形成されているか否かにかかわらず、端子電極102を構成することができる。また、端子電極102を導通させるためのコンタクトホール45sが浅い。画素電極9aおよび端子電極102の上層側には平坦化膜17が設けられており、平坦化膜17の端子電極102と重なる領域には開口部17sが設けられている。 (もっと読む)


【課題】色再現率が高くて輝度が高い2次元及び3次元映像を具現し、特に3次元映像具現の時にクロストーク欠陥が減少した表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、第1絶縁基板、複数の画素、第2絶縁基板、カラーフィルター層、及びパターンリターダを備える。第1絶縁基板は、行列形態に配列され、列方向より行方向に長い複数の画素領域を有し、列方向より行方向に長い。画素は、各画素領域に提供され、印加された映像信号に従って2次元又は3次元映像を表示する。ここで、1つの色情報を示す単位画素は列方向に連続する第1〜第4画素に定義され、第4画素にホワイト色画素が対応する。 (もっと読む)


【課題】不良の発生が抑制され高いコストパフォーマンスを有する電気光学装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】素子基板上に設けられた、TFT30と、TFT30に対応して設けられた画素電極15と、TFT30と画素電極15との間に設けられたデータ線6aと、データ線6aと画素電極15との間に設けられた第1容量電極16aと、第1容量電極16aと画素電極15との間に設けられ、第1容量電極16aの一部に誘電体層を介して対向配置されると共に、電気的にTFT30と画素電極15とに接続された第2容量電極16bと、を備え、第2容量電極16bは、アモルファスタングステンシリサイド膜からなる。 (もっと読む)


【課題】反射型表示装置と同等の反射表示性能を保ったまま、透過表示を実現可能な半透過型表示装置、半透過型表示装置の駆動方法、及び、当該半透過型表示装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】画素毎に設けられた反射電極を有する半透過型表示装置において、反射電極を用いて反射表示を行うとともに、反射電極の画素間の空間を用いて当該空間を透して透過表示を行うことで、反射型液晶表示装置と同等の反射表示性能を保ったまま、透過表示を実現できるようにする。 (もっと読む)


【課題】フォトセンサを有する半導体装置において、外光のノイズを軽減し、且つトランジスタのオフ電流によるリークが原因となるノイズも低減する。
【解決手段】マトリクス状に配置された複数のフォトセンサを有する。複数のフォトセンサはそれぞれ、光電変換素子と増幅回路とを有する。バックライトを点灯して被検出物に光を照射して第p行目のフォトセンサでリセット動作及び蓄積動作を行った後、バックライトを非点灯として第(p+1)行目のフォトセンサでリセット動作及び蓄積動作を行い、その後全行のフォトセンサの選択動作を順次行う。隣接する行のフォトセンサで得られた出力信号の差分を取得し、差分を用いて被検出物の撮像画像の生成や被検出物の存在する領域の検出を行う。増幅回路は蓄積された電荷を保持するトランジスタを有し、当該トランジスタはチャネルが酸化物半導体層に形成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低比誘電率かつ高OD値を達成することが可能な樹脂製遮光部を有し、画素部の面積が大きく、かつ、液晶表示装置に用いた場合に、コンタクトホール内における画素電極の断線を好適に防止することが可能なスイッチング素子基板およびこれを用いた液晶表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】基材と、上記基材上に形成されたスイッチング素子と、上記基材上に設けられた画素部と、上記スイッチング素子上に形成され、上記スイッチング素子に用いられる電極上にコンタクトホールを有する樹脂製遮光部と、上記コンタクトホールの側面および端部を覆うように形成され、絶縁性を有する断線防止層とを有し、上記コンタクトホールの縦断面形状が、垂直形状または逆テーパー形状であり、上記断線防止層が、上記断線防止層の形成部分の縦断面形状が順テーパー形状となるように形成されていることを特徴とするスイッチング素子基板を提供することにより、上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】画素部と同じ絶縁基板上において、大きな電流供給能力が得られるトランジスタで構成される電源線駆動回路を備えたEL表示装置を提供する。
【解決手段】絶縁基板上に複数の画素と複数の信号線、複数の走査線、及び複数の電源線を有するアクティブマトリクス型表示装置において、前記絶縁基板上に電界効果移動度が少なくとも80cm/Vs以上、好ましくは120cm/Vs以上を有する酸化物半導体のトランジスタを有し、トランジスタを1つの構成要素とする電源線駆動回路を有するEL表示装置である。 (もっと読む)


【課題】フォトセンサと、発光素子を有する表示素子と、の組をマトリクス状に複数有する半導体装置であって、高精細化可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】フォトセンサと、発光素子を有する表示素子と、を有し、発光素子を有する表示素子に電気的に接続される電源線と、フォトセンサに電気的に接続される電源線とを共有する半導体装置である。こうして、電源線の幅を狭くすることなく、高精細の半導体装置が得られる。そのため、電源線の電位の安定性を確保しつつ、半導体装置を高精細化することができるため、高精細な半導体装置においても、発光素子を有する表示素子の駆動電圧を安定とし、且つフォトセンサの駆動電圧も安定とすることができる。こうして、高精細化可能であり、且つ、表示品質が高く、被検出物の撮像精度や検出精度の高い半導体装置が得られる。 (もっと読む)


【課題】表示パネルにおいて、配線のインピーダンスを低減する。
【解決手段】液晶パネル20は、スイッチ装置48と、ピクセル電極50と、対向電極52と、を含んで構成される複数の絵素42を備える。液晶パネル20は、ガラス基板40Aと、ガラス基板40Aと対向するガラス基板40Bと、ガラス基板40Aにピクセル電極50が形成されるとともに、ガラス基板40Bに対向電極52が形成される第1絵素42Aと、ガラス基板40Bにピクセル電極50が形成されるとともに、ガラス基板40Aに対向電極52が形成される第2絵素42Bと、を備える。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いたトランジスタを有する表示装置において、寄生容量を軽減する。表示装置において、解像度の向上や、高精細化といった高性能化及び高品質化を達成する。
【解決手段】ボトムゲート型のトランジスタにおいて、酸化物半導体膜と重畳して設けられるゲート電極が第1のゲート電極と第2のゲート電極とに間隔を有して分割して設けられる。第1のゲート電極はソース電極又はドレイン電極の一方と重畳して設けられ、第2のゲート電極はソース電極又はドレイン電極の他方と重畳して設けられる。 (もっと読む)


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