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Fターム[5C094BA29]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 表示素子 (16,797) | 発光表示素子 (5,380) | EL (4,350) | 薄膜EL (179)

Fターム[5C094BA29]に分類される特許

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【課題】 単位面積当たりの電磁波の照射エネルギー量の大幅な低減と照射時間の短縮とを図り、光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、電磁波照射装置、および電子機器を提供する。
【解決手段】 機能性膜パターン形成装置20は、液滴吐出ヘッド23とレーザ光照射ヘッド24を備える。液滴吐出ヘッド23は、膜パターン40が基板21上に形成されるように機能性材料を含む液滴30を基板21上に吐出する。レーザ光照射ヘッド24は、レーザ光50を照射スポット面積を広くして膜パターン40に照射し、光熱変換で熱が発生する領域を大きくする。レーザ本体51から出射されるレーザ光50は照射スポット面積を広くした照射スポットで膜パターン40に照射される。光熱変換で発生する熱が膜パターン40を介して逃げる領域が狭くなり、膜パターン40で発生した熱を効率良く保持できる。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイパネルにおいて、配線の低抵抗化を図って電圧降下、信号遅延を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネルは、1ドットのサブピクセルPにつきトランジスタ21〜23及びキャパシタ24が設けられたトランジスタアレイ基板50を具備する。トランジスタアレイ基板50には、水平方向の走査線X及び供給線Z並びに垂直方向の信号線Yが敷設されている。トランジスタアレイ基板50の表面には、共通配線62や給電配線61が凸設されている。共通配線62や給電配線61間にサブピクセル電極20aが配列され、サブピクセル電極20aに有機EL層20bが積層されている。共通配線62が対向電極20cと導通している。封止基板80に設けられた厚膜を調整可能な給電厚膜配線82及び共通厚膜配線83が、給電配線61及び共通配線62と独立に導通されている。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイパネルにおいて、トランジスタ構造に影響を与えることなく、配線の低抵抗化を図って電圧降下、信号遅延を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネルは、1ドットのサブピクセルPにつきトランジスタ21〜23及びキャパシタ24が設けられたトランジスタアレイ基板50を具備する。トランジスタアレイ基板50には、水平方向の走査線X及び供給線Z並びに垂直方向の信号線Yが敷設されている。トランジスタアレイ基板50の表面には、共通配線62や給電配線61等が凸設されている。共通配線62や給電配線61間にサブピクセル電極20aが配列され、サブピクセル電極20aに有機EL層20bが積層されている。有機EL層20bや共通配線62が対向電極20cによって被覆されている。共通配線62上に設けられた導電性を備えた封止基板80は、共通配線62及び対向電極20cと導通されている。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイパネルにおいて、配線の低抵抗化を図って電圧降下、信号遅延を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネルは、1ドットのサブピクセルPにつきトランジスタ21〜23及びキャパシタ24が設けられたトランジスタアレイ基板50を具備する。トランジスタアレイ基板50には、水平方向の走査線X及び供給線Z並びに垂直方向の信号線Yが敷設されている。トランジスタアレイ基板50の表面には、共通配線62や給電配線61が凸設されている。共通配線62や給電配線61間にサブピクセル電極20aが配列され、サブピクセル電極20aに有機EL層20bが積層されている。共通配線62が対向電極20cによって被覆され導通されている。共通配線62上に設けられた導電性を備えた封止基板80は、給電配線61及び共通配線62とそれぞれ独立に導通されている。 (もっと読む)


【課題】 有機EL表示装置において非点灯時の色調を補正する。
【解決手段】 第1の点灯色のサブピクセルと第2の点灯色のサブピクセルサブピクセルを表示部120に備え、各サブピクセルの有機EL発光素子の発光輝度を制御してカラー表示を行う有機EL表示装置100であって、各サブピクセルの間の少なくとも一部に、表示部の外観を所定の色とするための有彩色を示すマスク部5が配置される。 (もっと読む)


【課題】 駆動回路を内蔵しながら簡便な工程で高歩留まりに製造可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】 実施形態に係る液晶装置100は、互いに対向して配置された駆動回路基板(第1基板)10と画素部形成基板(第2基板)20と具備し、前記駆動回路基板10の画素形成基板20との対向面に多結晶半導体層を含むデータ線駆動回路110と、該駆動回路に導電接続されたデータ側回路導通部(第1導通部)とが設けられ、前記画素部形成基板20の駆動回路基板10との対向面には、画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とを含む画素部21と、該画素部21に導電接続されたデータ側画素導通部(第2導通部)201とが設けられており、前記データ側回路導通部101とデータ側画素導通部201とが平面的に重なって配置された導通領域181で電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】 有機ELディスプレイデバイスに用いられた場合に、有機EL素子としての寿命を十分に長くでき、且つ、基板のフレキシビリティ性、基板の耐久性や強度を同時に十分満足できる有機ELディスプレイデバイス用の基板を提供する。特に、ITO膜の膜質を改善して、有機EL素子としての寿命を10万時間を越えるようにできる有機ELディスプレイデバイス用の基板を提供する。
【解決手段】 透明フレキシブル基材にITO層からなる電極層を配設し、且つ、その水蒸気透過率が、1×10-2 g/ m2/day 以下であるフレキシブル透明電極基板であって、ITO層は、X線回折法における、そのITO層の(222)面に相当する2θピーク位置が30.40°以上、31.40°以下である。 (もっと読む)


【課題】 ディスプレイ装置における焼き付きの消去またはマルチディスプレイシステムにおける各ディスプレイ装置の輝度の均一化・連続化を自動的に行う。
【解決手段】 放電セル構造13の背面側にCCD14を設け、放電セル構造13から背面側に導かれる光、または放電セル構造13から背面側に漏れる光をCCD14により測定する。そして、CCD14から出力される光量測定結果を数値化し、これに基づいて輝度補正を自動的に行う。 (もっと読む)


【課題】 液晶表示装置(または有機EL表示装置)において、開口率を大きくする。
【解決手段】 薄膜トランジスタ5のゲート電極11、ソース電極15およびドレイン電極16はn型不純物を含む透明な金属酸化物によって形成されている。したがって、薄膜トランジスタ5は光を透過する構造となっており、この薄膜トランジスタ5のほぼ全部を画素電極4で覆っているので、薄膜トランジスタ5を含む画素電極4の全域が透過領域となり、開口率を大きくすることができる。 (もっと読む)


【課題】 高い生産性を確保しつつ、光抜け、混色、表示ムラ等の不良を抑制して良好な表示特性を実現することができ、遮光層(ブラックマトリクス)の形状の高精細化にも対応することができる表示装置用基板、それを備えた液晶表示パネル、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネセンス表示装置、並びに、表示装置用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂膜がバンクにより仕切られた構造を基板上に有する表示装置用基板であって、上記表示装置用基板は、バンクよりも大きな幅を有する遮光層が少なくともバンク上に設けられた構造を有する表示装置用基板である。 (もっと読む)


【課題】 外部接続基板を介さずに表示パネルに直接ICドライバを配設し、実現して、低電圧、低消費電力、高精度を達成できる安価な表示パネルを提供すること。
【解決手段】
複数のコモン電極2と複数のセグメント電極3の交差部を画素とする表示部4と、コモンドライバ14が配置されている端子接続部とを有し、前記表示部4は前記コモン電極配列方向で第1表示領域6と第2表示領域7に分割されており、前記各表示領域6、7が個別のセグメントドライバ15、16により駆動される表示パネルであって、前記コモンドライバ14の出力端子と前記第1表示領域6のコモン電極2とは、前記端子接続部において引き廻し配線2aにより接続され、前記コモンドライバの出力端子と前記第2表示領域7のコモン電極とは、前記端子接続部においてトランスファ部10を介して前記引き廻し配線11により接続される。 (もっと読む)


【課題】 画素面積が減少しても容量比を確保することが可能であると同時に、配線抵抗の低減をも図ることができる電気光学装置の構造を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置100は、一対の基板110,120と、一対の基板に狭持される電気光学物質130と、電気光学物質の一側に配置された画素電極114と、画素電極に接続されたスイッチング素子117と、電気光学物質を介して画素電極に対向する対向電極122と、電気光学物質を駆動する駆動回路134,135と、基板の駆動領域外に配置され駆動回路と対向電極とを接続する配線118とを有し、画素電極に対して電気光学物質とは反対側に対向配置され、画素電極との間に補助容量を構成する容量電極112を設け、配線の少なくとも一部は容量電極と同材料で形成された導電層118Yと他の導電層118Xとの積層構造を有する。 (もっと読む)


【課題】長期間使用した場合であっても十分に発光面積を維持できるパネルを提供すること。
【解決手段】本発明のパネルは、基板と、基板に対向して配置された封止板と、基板における封止板に対向する面上に設けられた発光素子と、基板と封止板との間にこれらと接するように設けられるとともに、発光素子の周囲に配置された複数のスペーサ22と、発光素子及びスペーサを内部に含むように、基板と封止板との間に充填されたシール剤層とを備える。 (もっと読む)


【課題】 表示パネルとフィルム基板の高密度接続による位置ズレを安価に解決する。
【解決手段】 端子の形状をL字型にして接続のピッチを横方向から縦方向にすることで接続ピッチを拡大し安定した接続を得る。端子の幅を極力大きくしないため、10本以上を1ブロックとして構成し、両隣はY軸ミラー写しとなるようにパターン形成をした。 (もっと読む)


【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、画像表示領域の面積をそのまま確保しながら小型化する。
【解決手段】 電気光学装置は、一対の第1及び第2基板が貼り合わされてなり、第1基板は、その第1辺において平面的に見て第2基板より張り出した張出部を有する。第1基板に、複数の画素部、走査線駆動回路、データ線駆動回路、複数の外部回路接続端子、複数の引回配線を備える。更に、データ線駆動用配線及び走査線駆動用配線よりも第1基板の第1辺と対向する第3辺に近い側に配置されていると共に対向電極電位線に接続されており、対向電極電位を供給するための上下導通端子を備える。第2基板に、対向電極を備える。第1及び第2基板間に、上下導通端子と対向電極とを電気的に相互接続する上下導通材を備える。 (もっと読む)


表示器は、第1、第2、第3及び第4の原色をそれぞれ表示するように制御可能である、複数の第1、第2、第3及び第4の表示エレメントを有する。他の対の前記表示エレメントと比較して最大の色距離を表す特定の対の前記表示エレメントは、該特定の対の表示エレメント間に最小の空間距離が存在するように又は該特定の対の表示エレメントが互いに隣接して位置されるように、配される。
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有機発光ダイオード(OLED)を有するピクセル及びそのピクセルを作成する方法が提供されている。平坦化処理絶縁体層が薄膜トランジスタ(TFT)ベースのバックプレーンとOLED層との間に設けられる。TFTバックプレーンとOLED層との間のスルービアは、TFTバックプレーンに対して90度未満の角度をなす側面部を形成している。OLEDボトム電極パターンのビア領域及び複数の縁部は、絶縁体キャップでカバーされている。
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【課題】
本発明はアクティブ・マトリックス・ディスプレー用トランジスタ1とこのトランジスタの製造方法に係るものであって、高い電界効果移動度、優れたスレショールド電圧安定性、高レベルの駆動回路集積、そして高いデュ-ティ比を実現する。
【解決手段】
トランジスタ1は微晶質シリコンフイルム5と絶縁体3とを備える。この微晶質シリコンフイルムの結晶質フラクションは80%以上である。本発明のトランジスタ1は絶縁体3と微晶質シリコンフイルム5との間にプラズマ処理されたインターフェース4を有し、トランジスタ1の線形移動度が1.5cm−1−1に等しいか、それよりも大きくなっており、スレショールド電圧安定性を示している。微晶質シリコンフイルム5の粒子6のサイズは10nmと400nmとの間にある、本発明はアクティブにアドレスされるピクセルのライン‐コラム・マトリックスを有するディスプレー・ユニットにも係るものであり、各ピクセルは少なくともトランジスタ1を含んでいる。
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【課題】 画素面積が減少しても容量比を確保することが可能な電気光学装置の構造を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、電気光学物質130と、該電気光学物質の一側に配置された画素電極114と、該画素電極に接続されたスイッチング素子117と、前記電気光学物質を介して前記画素電極に対向する対向電極122とを有する電気光学装置において、前記画素電極に対して前記電気光学物質とは反対側に対向配置され、前記画素電極との間に補助容量を構成する容量電極112を設け、前記容量電極における少なくとも前記画素電極に対向する表面が凹凸状に構成されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】信頼性試験における不良の発生及び製造歩留まりの低下を招くことなく、狭額縁化及び高密度配線を可能とする表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の表示画素及び各表示画素に駆動信号を供給する複数の信号供給配線によって構成された有効表示部と、有効表示部の外周部に配置され信号供給配線に供給される駆動信号を入力するための複数の入力部と、信号供給配線と入力部のそれぞれとの間を接続する複数の接続配線と、を備え、互いに隣接する第1接続配線51及び第2接続配線52は、それぞれ異なる層に配置されたことを特徴とする。 (もっと読む)


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