【課題】 ＴＦＴを備える発光装置において、光の色度を向上させつつも構成を簡便化するとともに、その製造効率を向上させる。
【解決手段】 発光装置１００は、ＴＦＴ２に接続された電極４と、該電極４に対向配置された電極９と、各電極４，９間に配設された発光層７とを有してなる発光素子７ａを複数有し、ＴＦＴ２は隣合う発光素子７ａの境界部に形成されてなるとともに、島状の半導体層１３と、半導体層１３上に発光素子７ａの形成領域まで跨って形成されたゲート絶縁層１５と、ゲート絶縁層１５上に形成されたゲート電極１２と、ゲート電極１２を含むゲート絶縁層１５上に発光素子７ａの形成領域まで跨って形成された層間絶縁層１８と、層間絶縁層１８上に形成されたソース電極１１、ドレイン電極１０とを有し、層間絶縁層１８が屈折率の異なる複数の透光性誘電体層１６ａ，１７ａを有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液晶装置等の電気光学装置における基板サイズを縮小する。
【解決手段】
所定間隔で相対向すると共に平面的に見て少なくとも一辺において一方の基板（１０）が他方の基板（２０）より張り出している一対の基板を備える。一方の基板には、表示用電極を駆動する回路部が設けられ、前記一辺において張り出してなる張り出し部（２０１）における他方の基板と対向する側の面には、回路部と引出し配線（１０３ａ）によって電気的に接続された複数の外部接続端子（１０２ａ）が設けられている。外部接続端子は、平面的に見て、引き出し配線と少なくとも部分的に重畳するように設けられる。 （もっと読む）

【課題】 何ら不具合が発生することなく高歩留りで製造され、プラスチックフィルムを基板として使用する、有機ＴＦＴを備えたフレキシブルディスプレイを提供する。
【解決手段】 複数の画素ごとにＴＦＴが設けられたアクティブマトリクス型のフレキシブルディスプレイであって、プラスチックフィルム４０上に、接着層３４と、保護層３２と、保護層３２に埋設されたＴＦＴ用のゲート電極３０ａ，３０ｂと、ＴＦＴ用のゲート絶縁層２８と、ＴＦＴ用のソース電極２４ａ，２４ｘ及びドレイン電極２４ｂ，２４ｙと、ドレイン電極２４ｙに電気的に接続された画素電極２６と、ＴＦＴ用の有機活性層３６ａ，３６ｂと、複数の画素電極２６上にそれぞれ形成された、赤色（Ｒ）発光層、緑色（Ｇ）発光層及び青色（Ｂ）発光層を含む有機ＥＬ層３と、金属電極４６と、封止層４８とが形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＦＰＤの薄型化を可能にする実用的な技術を提供する。
【解決手段】一対のガラス基板１の一方に電極１１を形成してガラス基板１をシール材１２を介して貼り合わせ、内部を封止した後、ガラス基板１の外面を機械研磨して厚さを薄くする。ノズル４に対して相対的に機械的に移動させながら、フッ酸より成る溶出液Ｌをノズル４からガラス基板１の外面に向けて噴射し、自重による加速度より大きな加速度を付けて０．５ｋｇ／ｃｍ^２〜３．５ｋｇ／ｃｍ^２の範囲で圧力で外面に吹き付ける。外面は溶出液Ｌにより溶出され、溶出液の衝撃による物理的作用を利用して外面が研磨される。 （もっと読む）

【課題】満足な画像表示が可能でありながら、消費電力を最小限に抑えることが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】光の射出量を画素ごとに制御して発光表示を行う第１の表示部１０と、外光を透過する透過状態と反射する反射状態とが画素ごとに設定可能とされ、透過領域と反射領域との組み合わせで表示を行う第２の表示部２０とを有する。第２の表示部２０は、その透過領域を通して第１の表示部１０が視認し得るよう第１の表示部１０に積層されている。したがって、第２の表示部２０の一部または全部を透過領域とすることで、その透過領域を通して第１の表示部１０による表示が視認できる。また第１の表示部１０を電源オフ状態（黒色）とすれば、第２の表示部２０の透過領域は黒色表示される（反射領域は黄色表示）。 （もっと読む）

【課題】品質に関わる検査を安定して行うことが可能であり、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の表示画素によって構成された有効表示部を備えた表示装置であって、有効表示部を検査する際に検査用の信号が供給される検査用配線８０と、検査用配線８０とは絶縁層１００を介して異なる層において検査用配線８０と所定の間隔Ｇをおいて対向するように配置された導電層９０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ装置において、大型で高品質の画像表示を行う。
【解決手段】 透明な第１基板と、該第１基板における一方の基板面上に所定の第１パターンで配列されて貼り合わせられる複数の第２基板と、(ｉ)第１基板に形成されると共に少なくとも第１基板側へ光を出射する有機ＥＬ素子と(ｉｉ)第２基板に形成され且つ第２基板が第１基板に貼り合わせられた状態で有機ＥＬ素子に電気的に接続されると共に有機ＥＬ素子を駆動する駆動素子とを夫々含み、基板面上に所定の第２パターンで配列された複数の画素部とを備える。 （もっと読む）

【課題】光学部品等の部品自体の光の反射率を低くして、部品の視認性向上や作動の際の省エネルギーを行う。
【解決手段】ピッチが３０〜３００ｎｍの範囲内、深さが６０〜４００ｎｍの範囲内の微細な凹凸が平面上で連続したナノ構造体を基材の一面に対して形成し、この基材の一面にメッキを被覆してナノ構造体を転写した後、メッキ層から基材を剥離し、剥離したメッキ層を焼成し、焼成したメッキ層を金型として用いて樹脂を射出成形することにより、射出成形された成形品の表面にナノ構造体を形成する。 （もっと読む）

【課題】時分割駆動によるデータ電位の書き込み精度やノイズに対する安定性を維持しつ
つ、配線構造の複雑化を抑制することのできる新規の電気光学装置及び電子機器を実現す
る。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、複数の画素に対応して設けられた複数のデータ線
と、複数のデータ線Ｘ１〜Ｘ８に対応して設けられた出力線ＤＯ１に複数のデータ線に供
給すべき画素の階調を規定する複数のデータ電位を時系列的に出力するように構成された
データ出力回路４１と、出力線の出力を時分割することで得られるデータ電位を複数のデ
ータ線に時系列的に書き込む時分割回路４２と、複数のデータ線間の少なくとも一部に配
置され、所定電位に導電接続されたシールド線１２と、複数のデータ線とシールド線との
間にそれぞれ接続された負荷容量１２，１３，１４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、画素電極層上にスペーサを形成し、電界発光層形成時のマスクから画素電極層を保護する。また、透水性を有する有機材料を含む層を表示装置の中にシール材で封止し、かつシール材と有機材料を含む層が接しないため、発光素子の水等の汚染物質による劣化を防ぐ事ができる。シール材は表示装置の駆動回路領域の一部に形成されるため表示装置の狭額縁化も達成できる。 （もっと読む）

【課題】透明電極のパターニング等の後加工におけるバリア層のダメージを軽減させ、バリア劣化の少ない透明電極付きバリアフィルムを提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム１７の片面上に、酸化珪素（ＳｉＯｘ）または窒化珪素（ＳｉＮｙ）もしくはこれらの混合物（ＳｉＮｎＯｍ）からなるバリア層２、アクリル保護層３を順次に積層し、他面上に密着層４、酸化珪素または窒化珪素もしくはこれらの混合物からなるバリア層５、アクリル保護層６、透明電極層７を順次に積層したこと。アクリル保護層が、アクリルフラッシュ蒸着で形成されたこと。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、アクティブマトリクス型の表示装置において、配線の断面積を増大させることなく、相性の悪い２つの膜（ＩＴＯ膜とアルミニウム膜）からなる配線や電極等を接続し、且つ、大画面化しても低消費電力を実現することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、上層と、上層よりも広い幅を有する下層とからなる２層構造とする。ＴｉまたはＭｏからなる第１導電層を設け、その上に電気抵抗値の低いアルミニウム単体（純アルミニウム）からなる第２導電層を設ける。上層の端面から突出させた下層部分と、ＩＴＯとを接合させる。 （もっと読む）

【課題】上面発光型の下面発光型に対する優位性を損なうことなく、共通電極の周縁部における電位と中央部における電位との差を小さくすること。
【解決手段】本発明の上面発光型有機ＥＬ表示装置は、絶縁基板ＩＳと、基板ＩＳ上に配置された電源線ＰＬ１，ＰＬ２と、基板ＩＳ並びに電源線ＰＬ１，ＰＬ２を被覆するとともに電源線ＰＬ２に連絡する貫通孔ＴＨ１が設けられた絶縁下地層Ｉ２と、下地層Ｉ２上で配列するとともに貫通孔ＴＨ１を取り囲んだ複数の画素電極ＰＥと、画素電極ＰＥを被覆するとともに発光層を含んだ有機物層ＯＲＧと、有機物層ＯＲＧを被覆するとともに貫通孔ＴＨ１の位置で電源線ＰＬ２に接続された光透過性の共通電極ＣＥとを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 電気光学パネルをフラット形状に形成した後、応力が局所的に加わることがなく、電気光学パネルを容易に湾曲させることができる電気光学装置、それを用いた電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 表示面３が湾曲した凸曲面６からなる電気光学装置を製造するにあたって、フィルム貼付工程では、フラット形状の電気光学パネル２の対向基板２０の側に対し、面内方向における収縮率が相違する１軸延伸フィルムからなる収縮フィルム３０をエポキシ−アクリル系などの接着剤４０により貼り付け、湾曲工程では、それを温度が４０℃から２００℃の雰囲気中に約１０分から約２４時間放置する。その結果、１軸延伸フィルムからなる収縮フィルム３０が延伸方向Ｆで収縮し、電気光学パネル２は、収縮フィルム３０の延伸方向Ｆと直交する方向に軸線方向Ｌを向けて単曲面形状に湾曲する。 （もっと読む）

【課題】単一または複数のタイプの多数の放射照明モジュールを保持するサポートを備えるディスプレイを提供する。
【解決手段】単一または複数のタイプの多数の放射照明モジュールを保持するサポートを備えるディスプレイであって、非直線的幾何学的形状、任意選択により、三角形、長方形、五角形、六角形、または八角形の幾何学的形状の機械的パッケージングの前記放射照明モジュールが実現され、それによって、前記サポートは、２次元または３次元形状を持つことができる。ディスプレイ・タイル・アセンブリ２００は４つの長方形のディスプレイ・モジュール１２０からなる平面状アセンブリの例であり、照らされるフロア・タイルとすることができるディスプレイである。 （もっと読む）

【課題】電圧降下を抑えつつ、開口率の低下を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネルは、１ドットのサブピクセルＰにつきトランジスタ２１〜２３及びキャパシタ２４が設けられたトランジスタアレイ基板５０を具備する。トランジスタアレイ基板５０には、水平方向の走査線Ｘ及び供給線Ｚ並びに垂直方向の信号線Ｙが敷設されている。トランジスタアレイ基板５０の表面には、信号線Ｙに対して平行に設けられたバンク７１が凸設されている。バンク７１間にサブピクセル電極２０ａが配列され、サブピクセル電極２０ａに有機ＥＬ層２０ｂが積層されている。有機ＥＬ層２０ｂ及びバンク７１が対向電極２０ｃによって被覆されている。対向電極２０ｃ上に共通配線９１が積層されているが、平面視して共通配線９１がバンク７１に重なっている。 （もっと読む）

【課題】電圧降下を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネル１は、１ドットのサブピクセルＰにつきトランジスタ２１〜２３及びキャパシタ２４が設けられたトランジスタアレイ基板５０を具備する。トランジスタ２１〜２３のドレイン・ソースとともにパターニングされた走査線Ｘ及び供給線Ｚには選択配線８９及び給電配線９０がそれぞれ積層され、選択配線８９及び給電配線９０がトランジスタアレイ基板５０の表面から凸設されている。トランジスタアレイ基板５０の表面にはサブピクセル電極２０ａがマトリクス状に配列され、サブピクセル電極２０ａに有機ＥＬ層２０ｂが積層され、有機ＥＬ層２０ｂに対向電極２０ｃが積層されている。選択配線８９及び給電配線９０の厚みによって、有機ＥＬ層２０ｂを湿式塗布法により塗り分けることができる。 （もっと読む）

【課題】 クロムを用いないことにより環境に悪影響を与えることのない非線形抵抗素子、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 基材６ａと、基材６ａ上に設けられた非線形抵抗素子３３と、基材６ａ上に設けられ、非線形抵抗素子３３に接続される画素電極２４ａとを有している。そして、非線形抵抗素子３３が、基材側から第１金属層３６、絶縁層３７、及び第２金属層３８の順に積層されて形成され、画素電極２４ａが、多結晶化されたインジウム錫酸化物から形成されてなり、第２金属層３８が、モリブデン（Ｍｏ）を主成分として成る合金によって形成されるとともに、画素電極２４ａ上に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配線を通じた電圧降下・信号遅延を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネル１は、１ドットのサブピクセルＰにつきトランジスタ２１〜２３及びキャパシタ２４が設けられたトランジスタアレイ基板５０を具備する。トランジスタ２１〜２３のドレイン・ソースとともにパターニングされた走査線Ｘ及び供給線Ｚには選択配線８９及び給電配線９０がそれぞれ積層されている。選択配線８９はトランジスタアレイ基板５０の表面の保護絶縁膜３２及び平坦化膜３３に埋設されている。給電配線９０は保護絶縁膜３２及び平坦化膜３３に埋設されているとともに、平坦化膜３３の表面から凸設されている。平坦化膜３３の表面にはサブピクセル電極２０ａがマトリクス状に配列され、サブピクセル電極２０ａに有機ＥＬ層２０ｂが積層され、有機ＥＬ層２０ｂに対向電極２０ｃが積層されている。 （もっと読む）

【課題】 同一基板上に形成されたＴＦＴと容量素子に対して、高い耐電圧を確保するとともに、容量素子の静電容量を向上可能な薄膜半導体装置、電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】 ＴＦＴアレイ基板１０において、誘電体膜２ｃは、第１領域１ｃの外側領域には、第１領域２０１ｃよりも膜厚が厚い第２領域２０２ｃを備えているので、蓄積容量７０の耐電圧が高い。従って、蓄積容量７０では、高い耐電圧が得られるとともに、耐電圧を高くするために誘電体膜２ｃの膜厚を厚くしたことに起因する静電容量の低下を最小限に止めることができる。よって、同一基板上に形成されたＴＦＴ３０と蓄積容量７０に対して、高い耐電圧を確保するとともに、蓄積容量７０の静電容量を向上することができる。 （もっと読む）