【課題】表示素子パネルの周縁部の面積を極力低減できる配線構造を備えた、パッシブマトリクス駆動型の表示素子パネル、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１上にストライプ状の第一電極２を形成する工程と、第一電極２を覆うとともに、第一電極２上の画素となる位置に表示層用開口部２１を有する絶縁層３を形成する工程と、絶縁層３が有する表示層用開口部２１内に表示層４を形成する工程と、表示層４上に、第一電極２に交差するようにストライプ状の第二電極５を形成する工程と、各第一電極２に接続するとともに、第二電極５と交互に並ぶストライプ状の接続配線２３を形成する工程と、を有する製造方法により、表示素子パネルを製造する。このとき、絶縁層３は第一電極２上に位置する接続配線用開口部２２を有し、接続配線２３は接続配線用開口部２２で第一電極２と接続している。 （もっと読む）

【課題】製造工程において半導体膜の膜質を低下させることなくその性能を維持し、少ない工程数によって、かつ、製造上の歩留まり及びスループットの優れた構造を有する薄膜トランジスタ及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ１００は、酸化物半導体膜１２０を有し、当該酸化物半導体膜１２０は、各薄膜半導体毎に、ゲート電極１６０下及び隣接された薄膜トランジスタ間とにそれぞれ形成された第１領域１２１及び１２２と、ソース電極１４０及びドレイン電極１５０下であって第１領域１２１の前記水平方向におけるそれぞれの両端に並設されており、ソース電極１４０及びドレイン電極１５０にそれぞれ電気的に接続され、かつ、非駆動時に前記第１領域１２１及び１２２より低抵抗である第２領域１２３及び１２４と、を有している。 （もっと読む）

【課題】 透明電極つき基板において、そのパターン形成後も光学特性に変化が少なく、視認性が大幅に改善されたものを提供する。
【解決手段】 透明基板上に屈折率の異なる層が少なくとも３層積層されており、さらにその上に透明導電性薄膜が形成されている透明電極つき基板において、上記屈折率の異なる層は、５５０ｎｍの波長での屈折率が１．３５〜１．５５である低屈折率化合物と、５５０ｎｍの波長での屈折率が２．００〜２．３５である高屈折率化合物からなり、且つ透明導電性薄膜は高屈折率層上に形成されており、透明導電性薄膜の屈折率（ｎ１）とその直下の高屈折率層の屈折率（ｎ２）の比ｎ１／ｎ２が０．７５〜１．０５の範囲であることを特徴とする透明電極つき基板。 （もっと読む）

【課題】電子機器等に設けられた画像表示部のパネル基板に加飾層を施し、その加飾層の上に光学両面テープを貼り付ける際、気泡や空気層が生じることがないように、パネル基板の背面部を平滑にすることによりパネル基板を歪みの無い平滑状に形成することができる画像表示パネルを提供する。
【解決手段】画像表示をなす透視可能なパネル基板の背面に加飾層を施し、パネル基板の背面における加飾層の段差の内側及び加飾層の上面に紫外線硬化樹脂を充填し、次いで硬化樹脂の上面に離型剤を塗布したセパレータフィルムを被覆した状態で該セパレータフィルムを硬化樹脂の側へ加圧すると共にＵＶ照射を行うことによって硬化した後、セパレータフィルムを剥離する。
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【課題】画素部の薄膜トランジスタにおけるゲート・ソース間容量のばらつきを抑制することが可能な技術を提供する。
【解決手段】画素の領域毎に形成される画素電極ＰＸと、画素電極を駆動する薄膜トランジスタとを備える表示装置において、薄膜トランジスタは、対角位置に形成される第１の角部Ｂ及び第２の角部Ｃと、前記第１の角部Ｂが形成される第１の辺と前記第２の角部Ｃが形成される第２の辺とを共有する第３の角部とを有し、ゲート絶縁膜を介して前記ゲート線ＧＬに接続されるゲート電極と重畳して形成される半導体層ＡＳと、前記ドレイン線ＤＬからその一部が延在して形成され、前記第３の角部と重畳されるドレイン電極ＤＴと、一端が前記第１の角部Ｂに重畳して形成され、他端が前記画素電極と接続される第１のソース電極ＳＴ１と、一端が前記第２の角部Ｃと重畳して形成され、他端が前記画素電極ＰＸと接続される第２のソース電極ＳＴ２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】隣接する画素の間に設ける絶縁膜は、バンク、隔壁、障壁、土手などとも呼ばれ
、薄膜トランジスタのソース配線や、薄膜トランジスタのドレイン配線や、電源供給線の
上方に設けられる。特に、異なる層に設けられたこれらの配線の交差部は、他の箇所に比
べて大きな段差が形成される。隣接する画素の間に設ける絶縁膜を塗布法で形成した場合
においても、この段差の影響を受けて、部分的に薄くなる箇所が形成され、その箇所の耐
圧が低下されるという問題がある。
【解決手段】段差が大きい凸部近傍、特に配線交差部周辺にダミー部材を配置し、その上
に形成される絶縁膜の凹凸形状を緩和する。また、上方配線の端部と下方配線の端部とが
一致しないように、上方配線と下方配線の位置をずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】水分が侵入することによって発光等の機能が欠損される表示装置において、水分の混入を低減させ発光等の機能が欠損されるのを抑制することができる表示装置の提供を目的とする。
【解決手段】複数の発光素子を備える表示装置であって、前記複数の発光素子を覆うように形成されたパッシベーション膜と、前記パッシベーション膜の少なくとも一部と化学的に結合され、前記パッシベーション膜に含まれる孔を閉塞する水蒸気バリア性を有する水蒸気バリア膜と、を備えることを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】遮光層の端部で回折した光が半導体層に照射されＴＦＴ特性の変動を引き起こしているため、この光の照射を防止する事により、高い表示品質をもつ液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第３の遮光層１０８の端部で回折した光１１７を完全に遮光するため、半導体層１０３をゲート電極１０４と第２の遮光部１０６とで覆うことによって、回折した光の照射を防止し、ＴＦＴ特性の変動を回避でき、良好な表示画像を得る事ができる。 （もっと読む）

【課題】導電部の欠損を防止すること。
【解決手段】Ａｌ含有膜２からなるゲートラインＬｇやコンタクト部４２などの導電部を形成する際に、下層保護導電膜／Ａｌ含有膜／上層保護導電膜の導体膜を成膜した後、その導体膜に改質処理として酸化処理を施して、上層保護導電膜３で覆われずにピンホールＰから露出してしまったＡｌ含有膜２部分に酸化保護領域４を形成することによって、Ａｌ含有膜２がレジストの剥離液などに晒されて消失してしまうことを防ぎ、導電部の欠損を防止した。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜と補助電極の剥離が生じにくい表示装置を提供する。
【解決手段】画素毎にパターン形成される下部電極２１と、下部電極２１の周縁を被覆すると共に、下部電極２１の一部を露出する開口部を備える絶縁膜３０と、前記開口部の全面を被覆する有機ＥＬ層２２と、絶縁膜３０と有機ＥＬ層２２とを被覆する上部電極２３と、絶縁膜３０の一部を被覆する補助電極４０と、絶縁膜３０と補助電極４０との間に形成される密着層４１と、から構成されることを特徴とする、表示装置１。 （もっと読む）

【課題】 ＦＦＳモードの液晶表示装置において、半透過マスクを用いることなくフォトリソグラフィー工程数を削減することができ、さらに断線を防止することができる薄膜トランジスタアレイ基板、その製造方法、及び液晶表示装置を提供すること
【解決手段】本発明にかかる薄膜トランジスタアレイ基板は、ゲート配線４３を覆うゲート絶縁膜１１上に形成されたソース配線４４と、ゲート絶縁膜１１上に形成され、ドレイン電極５の下のほぼ全面と、ソース電極４の下のほぼ全面と、ソース配線４４の下のほぼ全面と、ゲート電極の対面とに配設された半導体層２と、一部がドレイン電極５の上に直接重なり形成された画素電極６と、ソース電極４及びソース配線４４の上に、画素電極６と同じ層によって直接重なり形成された透明導電パターン６ａと、画素電極６及び透明導電パターン６ａを覆う層間絶縁膜１２上に形成され、画素電極６との間でフリンジ電界を発生させる対向電極８と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】互いに異なる形態の薄膜トランジスタを効率よく作ること。
【解決手段】厚さ方向にシリコンの結晶化度が異なる第１領域と第２領域とを有する半導体層を有し、ボトムゲート構造の駆動トランジスタ６と、トップゲート構造のスイッチトランジスタ５とを形成する際、基板１０と第１絶縁膜１１の間に駆動トランジスタ６の第１ゲート電極６ａを形成する工程と、第２絶縁膜１２とパッシベーション膜１４の間にスイッチトランジスタ５の第２ゲート電極５ａを形成する工程を別工程にし、それ以外の薄膜トランジスタの構成を共通の工程によって形成する。こうして、駆動トランジスタ６の第１ゲート電極６ａと、スイッチトランジスタ５の第２ゲート電極５ａを形成する以外の工程を共通の製造工程とする製造方法によって、駆動トランジスタ６とスイッチトランジスタ５を作り分ける。 （もっと読む）

【課題】下地に対する選択比が大きく、テーパー形状の配線を形成するドライエッチング
方法を提供する。
【解決手段】基板上に導電性材料からなる膜を形成し、ＩＣＰエッチング装置を用いて前
記導電性材料からなる膜をドライエッチングして、テーパー角が６０°以下の配線を形成
する。また、基板上に導電性材料からなる膜を形成し、ＩＣＰエッチング装置を用いて前
記導電性材料からなる膜をドライエッチングして、テーパー角が６０°以下のゲート配線
を形成し、前記ゲート配線上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜上に活性層を形
成する。 （もっと読む）

【課題】複数の配線を用いて異なる信号を複数の画素に同じタイミングで供給する際に、各配線に形成される負荷容量の差異を低減し、表示階調のずれ及び／または信号遅延を低減することができる表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】異なる映像信号を供給するための第１のデータ線乃至第Ｎ（Ｎは３以上の自然数）のデータ線と、第１のデータ線乃至第Ｎのデータ線のいずれか一と接続される選択トランジスタを有する画素と、を有し、第１のデータ線乃至第Ｎのデータ線のいずれか一と、選択トランジスタの一方の端子とは、第１のデータ線乃至第Ｎのデータ線を交差させることで第１のデータ線乃至第Ｎのデータ線のいずれか一を選択トランジスタの一方の端子の最近傍に配設して接続される。 （もっと読む）

【課題】製造工程中に生じる静電気に起因する不良を防止しつつ、簡便なプロセスで製造可能であり、かつ、薄膜トランジスタ特性を維持しつつ検査に適した薄膜トランジスタアレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明に係る薄膜トランジスタアレイ基板は、ゲート配線１及びソース配線２の少なくとも一方と、抵抗体４を介して電気的に接続されるショートリング配線３を備える。抵抗体４は、ソース配線２及びショートリング配線３と同一の層からなり、ショートリング配線３と一体的に形成されたメタル膜１３と、メタル膜１３の直下に形成された第２半導体膜１２と、その直下に形成された第１半導体膜１１の積層体からなる。抵抗体４の平面視上の形状は、少なくとも一部の領域において第１半導体膜１１の幅Ｗ１に比して第２半導体膜１２及び前記メタル膜１３の幅Ｗ２を小さくし、抵抗体４の抵抗値は、メタル膜１３の形状により調整する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成であり、かつ画像表示性能に優れた表示装置を提供する。
【解決手段】この表示装置は、基板１１上に、第１電極層１３と、発光層を含む有機層１４と、第２電極層１６とが各々順に積層されてなり、Ｘ方向およびＹ方向に配列された複数の有機発光素子１０と、これらの有機発光素子１０を駆動する複数の駆動素子Ｔｒ１およびＹ方向に延在する信号線１２０Ａを含む駆動回路と、Ｘ方向に隣り合う有機発光素子１０同士に挟まれた間隙領域ＶＺに配置され、凸部２４Ｔを有する素子分離絶縁層２４とを備える。信号線１２０Ａは、Ｚ方向において凸部２４Ｔと重なり合う重複領域ＤＺに配置されている。Ｘ方向に隣り合う第２電極層１６同士は、凸部２４Ｔによって互いに分離されている。これにより、信号線１２０Ａと、第１電極層１３および第２電極層１６との間における不要な寄生容量の形成が回避され、あるいは、その大きさが十分に低減される。 （もっと読む）

【課題】低コストに製造することができ、ＴＦＴのオフリーク電流を低減することが可能なアクティブマトリックス基板を提供する。
【解決手段】アクティブマトリックス基板２０１は、基板１上に形成されたゲート電極２及びゲート絶縁膜３と、結晶性半導体膜４１及び／又は非晶質半導体膜４２からなるチャネル層と、ソース電極５ｓ及びドレイン電極５ｄとを備えたＴＦＴ１０４と、画素電極９とが複数対アレイ状に配置されたものである。チャネル層はゲート電極２の形成領域内に形成され、ソース電極５ｓ及びドレイン電極５ｄはチャネル層の形成領域内に形成されており、ゲート絶縁膜３上のゲート電極２より離間した位置にソース配線５ａが形成され、ソース配線５ａが、ソース電極５ｓの直上に形成され、さらにソース電極５ｓ上から延設された酸化物導電膜からなる接続配線６ａを介してソース電極５ｓに接続されている。 （もっと読む）

【課題】輝度ムラ補正パラメータを生成するためのタクト時間を短縮して製造コストを低減し、発光パネルの輝度ムラを抑制する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置の製造方法は、全画素を所定の色及び所定の階調で同時に発光させるステップＳ０３と、発光画像を２次元色彩計に撮像させるステップＳ０４と、表示パネルの分割領域毎に色度を求めるステップＳ０６と、有機発光層と反射電極との間の膜厚に依存する色度カーブ及び発光効率カーブを記憶するステップと、ステップＳ０６にて求められた色度に対応する膜厚を上記色度カーブから算出するステップと、算出膜厚に対応する発光効率を発光効率カーブから算出するステップＳ０７と、算出発光効率を基準発光効率に補正するための補正パラメータを、分割領域毎に算出するステップＳ０８と、算出補正パラメータを装置内記憶部に格納するステップＳ０９とを含む。 （もっと読む）

【課題】安価な表示装置およびそれを用いた電気器具を提供する。
【解決手段】同一の絶縁体上に画素部および駆動回路を含む表示装置において、駆動回路は、並列に接続されたｐチャネル型ＴＦＴ１０４〜１０６および直列に接続されたｐチャネル型ＴＦＴ１０７〜１０９を含む複数のＮＡＮＤ回路を有したデコーダ１００と、三つのｐチャネル型ＴＦＴ１１４〜１１６を含む複数のバッファを有したバッファ部１０１とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電気泳動粒子の移動を制御することによって、明度、彩度、色相の３つまたは少なくとも１つを制御することができ、良好なカラー表示が行える電気泳動表示装置およびその駆動方法、電子機器を提供することを目的の一つとしている。
【解決手段】本発明の電気泳動表示装置は、第１基板および第２基板と、第１基板および第２基板との間に配置され、少なくとも分散媒と当該分散媒内に混入された粒子とを有する電気泳動層と、第１基板の電気泳動層側に画素ごとに島状に形成され、互いに独立に駆動される第１電極と、第２基板の電気泳動層側に形成され第１電極よりも広い面積の第２電極と、第１電極に接続されるトランジスタと、第１電極が存在しない第１のトランジスタのドレイン電極上の少なくとも一部に配置される第１制御電極と、を備え、第１制御電極には帯電した粒子をはじく電位が印加される構成となっている。 （もっと読む）