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Fターム[5C094EB02]の内容

要素組合せによる可変情報用表示装置 (81,180) | 基板 (1,167) | 材質 (793) | 透明基板 (608)

Fターム[5C094EB02]に分類される特許

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【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線上の第1の絶縁層と、前記第1の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第2の絶縁層と、前記第2の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で、外光輝度に応じた補正を映像信号に対して行うことの可能な表示パネルならびにそれを備えた表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】表示パネルは、自発光素子と、自発光素子を駆動する画素回路とを画素ごとに備えている。各画素回路は、保持容量と、映像信号に対応する電圧を保持容量に書き込む第1トランジスタと、保持容量の電圧に基づいて自発光素子を駆動する第2トランジスタとを有している。各画素のうち全部または一部の画素に含まれる画素回路において、第1トランジスタは、外光の輝度の大きさに応じた電圧を保持容量の電圧にフィードバックするようになっている。 (もっと読む)


【課題】表示品質の向上と歩留まりの向上に寄与できるようにした電気泳動表示装置の表示欠陥修復方法及び製造方法、並びに、表示欠陥修復装置を提供する。
【解決手段】マイクロカプセル含有層の第1の面の反対側である第2の面側に、第2の電極を有する第2の基板を配置する工程と、前記第1の面側に配置されている第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加して、前記マイクロカプセル含有層に予め設定された画像を表示させる工程と、前記マイクロカプセル含有層が表示する前記画像に基づいて、前記複数のマイクロカプセルの各々の異常の有無を判定する工程と、前記異常の有無を判定する工程で異常が有ると判定されたときは、前記複数のマイクロカプセルのうちの前記異常が有ると判定されたマイクロカプセルの殻体を破壊する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】粒子状スペーサを用いず、使用する液晶の特性や駆動方法に応じて自由な範囲で設計された厚みを精度よく有する、高品質な表示装置およびタッチパネルを備えた表示装
置を提供する。
【解決手段】第1の基板と、第2の基板と、第1の基板と第2の基板との間に配置された
柱状スペーサを複数備えた表示装置と、光学式の検出素子を備えたタッチパネルとを有す
る。柱状スペーサによって、機械的強度が補強され、頑丈なパネルとすることができる。 (もっと読む)


【課題】画像表示装置の薄型化を実現することができ、製造工程が簡素化されるだけでなく、不要な構成要素の消耗を最小化し、製造コストを低減することができるとともに、モアレ現象を改善することができるタッチセンサ内蔵型カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるタッチセンサ内蔵型カラーフィルタ基板1は、透明基板10と、透明基板10上に形成された金属メッシュ電極11と、金属メッシュ電極11上に金属メッシュ電極11の形状と対応するように形成され、少なくとも一つ以上の開口領域が形成されたブラックマトリックス層14と、を含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、簡便で製造コストを低減可能な構造で、効果的に画像の漏洩を低減することができる表示装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明にかかる表示装置は、サブ画素が第1方向に繰り返し配列された各サブ画素が、画像aまたは画像bを提示するよう交互に割り当てられた画像素子10と、サブ画素からの光を斜めに出射させる光学素子11とを備え、光学素子11は、色材膜4、色材膜5、色材膜6を備え、色材膜4、色材膜5、色材膜6のうち、画素組の各サブ画素から出射されるいずれかの光を吸収する各色材膜は、当該画素組の各サブ画素の間に対応する位置において開口部をそれぞれ備え、同一位置にある2つの開口部は、互いに、当該開口部が備わった色材膜が吸収する光が当該開口部を通じて出射される側に、それぞれずれて重なる。 (もっと読む)


【課題】少なくとも1巻き、好ましくは2巻き又はより多い巻きに巻き取れる程度の可撓性を有する薄く軽量な表示装置またはこのような表示装置用の基板を提供すること。
【解決手段】 厚さを有する可撓性薄膜と、この可撓性薄膜における微構造アレイとを含むフレキシブル表示装置用の基板である。前記可撓性薄膜は、第1の表面及び第2の表面を備え、当該第2の表面と第1の表面とはこの薄膜の厚さで間隔する。各微構造は、それぞれこの第1の表面からこの可撓性薄膜に貫き込んで形成されたチャンバーを有し、このチャンバーがこの第2の表面に近いところに凹部を有する。 (もっと読む)


【課題】低コストで耐久性や表示特性、生産性に優れる高品質の電気泳動表示シート及びこれを用いた電気泳動表示媒体が提供する。
【解決手段】光透過性の基板材料10に形成された光透過性の電極面11に、絶縁性材料の隔壁15によって構成されるセル状構造体20を形成し、該セル状構造体20内部に電気泳動インク25を充填し、封止接着層又は封止粘着層30が形成されたフィルム35を上記電気泳動インク層20に貼合することを特徴とする電気泳動表示シートA。 (もっと読む)


【課題】低コストで耐久性や表示特性、生産性に優れる高品質の電気泳動表示シート及びこれを用いた電気泳動表示媒体が提供する。
【解決手段】光透過性の基板材料10に形成された光透過性の電極面11に、絶縁性材料の隔壁15、15…によって構成されるセル状構造体20を形成し、該セル状構造体20内部に電気泳動インク25を充填し、封止前駆体層30が形成されたフィルム35を上記電気泳動インク層20に貼合した後、該封止前駆体層30を硬化させることにより封止層31を形成して電気泳動インク層20を封止した後、上記フィルム35を封止層31から剥離することを特徴とする電気泳動表示シートA。 (もっと読む)


【課題】異物の発生や付着の少ない透明複合基板およびかかる透明複合基板を効率よく製造し得る製造方法、および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板の製造方法は、ガラスクロス2と、ガラスクロス2に含浸した樹脂材料3と、を有する透明複合基板1の製造方法であって、ガラスクロス2に樹脂ワニス30を含浸させ、含浸体101を得る工程と、含浸体101の両面にシート状の支持部材71を重ねた後、含浸体101の外縁部12を除く部分(中央部13)に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス30を硬化させ、仮硬化体102を得る工程と、仮硬化体102を支持部材71から剥離する工程と、仮硬化体102の外縁部に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス30を硬化させ、本硬化体(透明複合基板)を得る工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】新規な偏光子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材上2に、配向層3、偏光層4及び保護層7がこの順で設けられた偏光子1であり、偏光層4が、重合性液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含む組成物から膜を形成する工程と、膜から溶剤を除去する工程と、溶剤を除去した膜に含まれる重合性液晶化合物をスメクチック液晶状態とする工程と、重合性液晶化合物がスメクチック液晶状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させる工程とを有する製造方法により製造されたものである。 (もっと読む)


【課題】充填された液体16に生じた気泡48を確認しやすくすることを目的とする。
【解決手段】表示装置は、間隔を有して対向配置された一対の光透過性基板10,12と、一対の光透過性基板10,12を貼り合わせて、一対の光透過性基板10,12の間に封止空間を区画するシール材14と、画像を光学的に表示するために封止空間に配置された複数のシャッタ22と、封止空間に充填された光学等方性を有する液体16と、一対の光透過性基板10,12の少なくとも一方と液体16との間に配置された光学膜46と、を有し、光学膜46の屈折率は、一対の光透過性基板10,12の屈折率とは異なる。 (もっと読む)


【課題】解像度を高め、色特性を改善して、高効率、高純度の色を実現することができるエレクトロクロミック素子及びピクセル構造体並びに電子素子を提供する。
【解決手段】本発明のエレクトロミック素子は、電圧によって透明及び少なくとも二つの色から選択されるそれぞれの色を表示する第1エレクトロクロミック物質を含む第1エレクトロクロミック層及び第1エレクトロクロミック層に接触する第1電解質を含む第1サブピクセルと、電圧によって透明、黒色(black)、及び黒色以外の少なくとも一つの色から選択されるそれぞれの色を表示する第2エレクトロクロミック物質を含む第2エレクトロクロミック層及び第2エレクトロクロミック層に接触する第2電解質を含む第2サブピクセルとを有する。 (もっと読む)


【課題】狭額縁の表示装置、表示装置用基板、及び、表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、第1基板と、第2基板と、表示層と、シール部と、凸部と、間隔調整層と、を含む表示装置が提供される。前記表示層は、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられる。前記シール部は、前記第1基板と前記第2基板との間において前記表示層を囲む。前記凸部は、前記第1基板の前記表示層に面する第1主面上の前記シール部の外側において前記シール部の外縁に沿って設けられる。前記間隔調整層は、前記シール部の前記外側において前前記外縁に沿って設けられ、前記第1基板から前記第2基板に向かう方向に沿ってみたときに前記凸部と重なる部分を有し前記凸部と接する。 (もっと読む)


【課題】光学特性に優れた透明複合基板、および、かかる透明複合基板を備えた表示素子基板を提供することにある。
【解決手段】本発明の透明複合基板は、ガラスクロスと、ガラスクロスに含浸した脂環式エポキシ樹脂を主成分とする樹脂材料と、ガラスクロスの表面に設けられ、ガラスクロスと樹脂材料との間に発生する応力を緩和する応力緩和成分と、を有し、応力緩和成分は、非イオン性官能基を含むものが好ましい。非イオン性官能基は、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、およびビニル基のうちの少なくとも1種であることが好ましく、応力緩和成分は、有機ケイ素化合物であるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、光学特性に優れたガラス繊維複合樹脂シートを提供することにある。
【解決手段】本発明に係るガラス繊維複合樹脂シート160は、ガラス繊維集合体150およびマトリックス樹脂161を備える。ガラス繊維集合体は、ガラス繊維またはガラス繊維束151a,151bから形成されている。そして、このガラス繊維集合体は、屈折率の最大値と最小値との差が0.01以下である。マトリックス樹脂は、ガラス繊維集合体の平均屈折率との差が0.01以下である。 (もっと読む)


【課題】a)表示画面領域形状の自由度が高く、b)表示画面領域における非表示領域が小さく、c)情報表示用パネルが備える導電層同士の電気的接続が容易であり、d)表示媒体を配置する装置を大型にする必要がなく、e)表示媒体の配置ムラの発生がない情報表示ボードを提案する。
【解決手段】複数の情報表示用パネルを所定の表示画面レイアウトに従って配置し、互いに隣接する上記情報表示用パネル同士を、シール材を介して接合してなる情報表示ボードにおいて、互いに隣接する上記背面側パネル基板が備える導電層同士を、これら背面側パネル基板の外側面間に架設した導電性接続部材により互いに導通させて、情報表示ボードの面方向に導通する背面側基板を構成する。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタアレイ基板、有機発光表示装置、及び薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板10上に配置され、活性層212、ゲート電極214、ソース電極218a、ドレイン電極218b、活性層とゲート電極との間に配置された第1絶縁層13、及びゲート電極とソース電極及びドレイン電極との間に配置された第2絶縁層15を含む薄膜トランジスタと、第1絶縁層及び第2絶縁層上に配置され、ソース電極及びドレイン電極のうち一つと連結される画素電極117と、ゲート電極と同一層で形成された下部電極314及び画素電極と同一材料を含む上部電極317を含むキャパシタと、第2絶縁層と画素電極との間及び下部電極と上部電極との間に直接配置された第3絶縁層116と、ソース電極、ドレイン電極及び上部電極を覆って画素電極を露出させる第4絶縁層19と、を含む薄膜トランジスタアレイ基板。 (もっと読む)


【課題】ゲート絶縁層として要求される耐圧や容量を確保しつつ、外光反射率によるコントラストの劣化を抑えやすくした表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板GAと、透明基板GAの上側に形成されるゲート電極GTと、ゲート電極GTの上側に形成される微結晶半導体層MSと、ゲート電極GTと微結晶半導体層MSの間に形成されて、微結晶半導体層MSの外方に延在するゲート絶縁層GIと、ゲート絶縁層GIの微結晶半導体層MSの外方に延在する部分の上面に接して、窒化ケイ素で形成される第2の窒化ケイ素層NI2と、を有し、ゲート絶縁層GIは、第1の窒化ケイ素層NI1と、第1の窒化ケイ素層NI1の上側に形成されて微結晶半導体層MSに接する酸化ケイ素層OIと、を含み、ゲート絶縁層GIは、微結晶半導体層MSの下側の部分よりも第2の窒化ケイ素層NI2の下面に接する部分で薄く形成される、ことを特徴とする表示装置。 (もっと読む)


【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことができるとともに、溝の側面が封止用の膜で覆われることを最小限に抑えることのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置100において、溝260を中空に封止するにあたって、第1封止膜27を形成する前、溝260内に犠牲膜24を形成しておき、第1封止膜27を形成した後、第1封止膜27の貫通部275を介して犠牲膜を除去する。そして、第1封止膜27上に第2封止膜28を形成し、第1封止膜27の貫通部275を第2封止膜28で塞ぐ。このため、第1封止膜27を溝260の開口部265を塞ぐように形成することができるとともに、第1封止膜27が溝260の奥まで形成されることを防止することができる。 (もっと読む)


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