【目的】低電流のイオン照射で、選択成長性、数密度制御可能かつ、再現性良く製造可能なカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバおよび円錐状、角錐状、針状、柱状等の突起（ナノ構造）を提供することを目的とする。
【構成】煤状の炭素皮膜を基板上に形成した後、真空チャンバーでイオンビームを照射することで基板上の突起形状頂上部のみに選択的に一本のカーボンナノチューブあるいはカーボンナノファイバを成長させる。 （もっと読む）

液晶表示装置のバックライトとして使用する電界放出型装置は、電子放出層のある導電性の陽極と、陽極とはスペーサーで分離された陰極から構成される。陰極は、ナノファイバー電子放出器から構成される。例えば、ナノファイバー電子放出器は、基材、基材に付着した導電性薄膜、および高電流密度および低電界強度で電子を放出する能力のある複数の孤立的な半球状体のナノファイバークラスターから構成される。
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【課題】 電子ビームの広がりを制御する。
【解決手段】 対向配置される第１基板２及び第２基板４と，第１基板２上に形成されるカソード電極６と，カソード電極６に電気的に連結される電子放出部１２と，電子放出部１２が第１基板２上に露出されるようにする開口部８ａを有して第１基板２上に形成される第１絶縁層８と，第１絶縁層８上に形成されるゲート電極１０とを含み；電子放出部１２は，カソード電極６上に形成される少なくとも一つの多孔性アルミナテンプレート１４の複数の気孔内で垂直に成長して形成されるように構成した。また，多孔性アルミナテンプレート１４の気孔は，第１基板２とカソード電極６に電圧を印加してカソード電極６を陽極酸化させることにより，カソード電極６の面に対して垂直に形成されるようにした。 （もっと読む）

実質的に強化された電界放出特性が、ＣＮＴの表面を非接着性材料（例えば、紙、八歩シートまたはローラー）で覆う工程、特定の力を使用してその材料をプレスする工程、およびその材料を除去する工程からなるプロセスを使用することによって、達成される。この方法は、テーピングプロセスと比較して、ＣＮＴのずっと良い電界放出特性が達成された。このプロセスは以下の利点を有する：プロセスが非常に簡便かつ低コストである；このプロセスは、非常に大きな領域で、非常に良い均一性で行われ得る；プロセス後に残渣が基板上に残存しない。
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ディスプレイデバイスにおけるカソードとしての使用のためのナノ粒子エミッターをパターン化するための工業的スケールの方法が開示される。低温の方法が、得られるディスプレイデバイスの良好な均一性とともに高容量適用で実施され得る。この方法のステップは、予備製作されたコンポジット構造の全面の上にＣＮＴエミッター材料の堆積、および物理的方法を用いる表面の所望されない部分からのＣＮＴエミッター材料の引き続く除去を含む。
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【課題】ワイヤー形態の金属シリサイドを備えるＳｉベースの物質層及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のグレインを備え、グレイン境界に金属シリサイドが形成されたＳｉベースの物質層である。また、Ｓｉベースの基板に所定厚さの非晶質層を形成する工程と、非晶質層に所定の金属イオンをドーピングする工程と、金属イオンがドーピングされた非晶質層をアニーリングする工程とを含むＳｉベースの物質層の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】エミッタ層の表面で従来よりも多くのエミッタ材料を垂直に配向させて電子放出特性を向上させる。
【解決手段】電子放出素子の製造工程として、支持基板上にカソード電極を形成する工程と、カーボンナノチューブ１１とバインダ材料とを含むエミッタ層１０をカソード電極上に形成する工程と、支持基板をシュウ酸水溶液に浸漬させることにより、エミッタ層１０の上層部でバインダ材料を多孔質化する工程と、エミッタ層１０の上層側で粘着テープ２３の貼り付け及び引き剥がしによりバインダ材料を剥離することにより、カーボンナノチューブ１１を支持基板に対してほぼ垂直に配向させる工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 良好な特性を備えるカーボンファイバーを均一性高く基体上に形成する。
【解決手段】 カーボンファイバーの製造方法であって、第１の触媒材料と、第２の触媒材料を含む触媒粒子との積層体を、基体上に配置し、第１の触媒材料と前記第２の触媒材料とを反応させることで、第１の触媒材料と第２の触媒材料とからなる触媒粒子を基体上に形成し、その後第１の触媒材料と第２の触媒材料とからなる触媒粒子と、カーボンファイバーの原料とを反応させて、基体上にカーボンファイバーを成長させる。 （もっと読む）

【課題】 カーボンナノチューブを用いた電子放出能の高い電子放出素子、特に低電界値であっても電子放出特性が得られる電子放出素子を提供する。
【解決手段】 上記課題は電極基材に取付けられたカーボンナノチューブの起毛部が複数の凸状に形成されていることを特徴とする電子放出素子によって解決される。
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【課題】 良好な電子放出特性を備える電子放出素子の簡便な方法を提供する。
【解決手段】 金属をその表面に有する電子放出体を具備する電子放出素子の製造方法であって、電子放出体を備える基体を用意する工程と、前記電子放出体を、酸素含有ガスと金属含有ガスとに交互に曝す工程と、を有する。 （もっと読む）

電界放射デバイスの形成方法、及び得られた、ファイバーセグメントによって形成されたエミッタを有するデバイス。相当小さな半径を有するチップは、チップを反応液にある期間さらすことによってファイバーセグメント上に形成される。チップは、低い仕事関数を有する伝導性材料でコーティングされてエミッタを形成する。
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電子エミッタを備える装置を形成する装置及び方法。本方法は、束ねられたファイバーセグメントのシートの第１の面を反応液にさらし、前記ファイバーセグメントの第１の端部を前記反応液と反応させて、該第１の端部から物質を除去するステップを含む。コーティング物質は、前記物質が除去された前記第１の面上に堆積される。本方法はまた、束ねられたファイバーセグメントの前記シートの第２の面を反応液にさらし、前記ファイバーセグメントの第２の端部を前記反応液と反応させて、該第２の端部から物質を除去して前記コーティング物質を露出させるステップを含む。
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ナノ構造炭素材料を容易にかつ様々な基材上に形成し得る製造方法を提供する。前記製造方法として、導電層が形成された基材上にリソグラフィによりナノ構造炭素材料をパターニングするパターニング工程を有する電子放出源の製造方法であって、前記パターニング工程は前記導電層上にナノ構造炭素材料を形成するナノ構造炭素材料形成工程を含み、このナノ構造炭素材料形成工程が、大気圧または大気圧近傍の圧力下で高周波電圧を対向する電極間に印加して放電プラズマを発生させる大気圧プラズマ法により行われることを特徴とする電子放出源の製造方法である。 （もっと読む）

基板上にナノ構造材料のパターニングされたコーティングを成膜する方法は、（１）前記ナノ構造材料を含む溶液又は懸濁液を形成する工程；（２）前記基板の少なくとも１つの表面の一部にマスクを形成する工程；（３）前記溶液中に電極を浸す工程であって、その上に前記電極の１つとして機能する前記ナノ構造材料が成膜されるか又は少なくとも前記電極の１つに電気的に接続される工程；（４）前記２つの電極の間に所定の期間の間、直流電流電界及び／又は交流電流電界を印加し、それによって前記溶液中のナノ構造材料を前記基板電極に向けて移動させて付着させる工程；（５）その後の随意的な処理を行う工程、を含む。
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