【課題】高いＳＮＲを確保しつつ摺動耐久性を向上させることで、信頼性の向上および更なる高記録密度化の達成を図る。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体の製造方法の構成は、基板上に少なくとも、ＣｏＣｒＰｔ合金を主成分とする磁性粒子と酸化物を主成分とする非磁性の粒界部とからなる主記録層を成膜する主記録層成膜工程と、主記録層上にＲｕ合金またはＣｏ合金を主成分とする分断層を成膜する分断層成膜工程と、分断層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第１加熱工程と、第１加熱工程の後にＣｏＣｒＰｔを主成分とする材料からなる補助記録層を成膜する補助記録層成膜工程と、補助記録層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第２加熱工程と、第２加熱工程の後にＣＶＤ法によりカーボンを主成分とする保護層を成膜する保護層成膜工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックが形成された磁気記録層に保護層形成および潤滑剤塗布後にテープバーニッシュを行っても、耐腐食性を低下させることなく、平滑な表面を有し、かつ、信号特性や信頼性に優れたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板上に金属下地層を介して積層され、凹部状のディスクリートトラックにより分割して形成された磁気記録層１４の表面に、真空紫外領域の紫外線を照射し、該基板表面の帯電電圧を５０Ｖ以内に制御する工程Ｐ１１、前記磁気記録層の凹部に非磁性体を埋め込む工程Ｐ１２、表面平坦化工程Ｐ１４、保護層形成工程Ｐ１７、Ｐ１８、Ｐ１９および潤滑剤塗布工程をこの順に実施した後、テープバーニッシュ工程を施すパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】保磁力Ｈｃと逆磁区核形成磁界Ｈｎ、およびＳＮＲを総合的に向上させることにより、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体の製造方法の構成は、基板１１０上に、軟磁性層１３０を成膜する軟磁性層成膜工程と、軟磁性層成膜後の基板に加熱処理を施す加熱工程と、加熱処理によって温度が上昇した状態で、軟磁性層上に、Ｎｉを主成分とし、少なくともＢを１〜５ａｔ％含有する前下地層１４０を成膜する前下地層成膜工程と、前下地層の上方に、Ｒｕを主成分とする下地層１５０を成膜する下地層成膜工程と、下地層の上方に、ＣｏＣｒＰｔ合金を主成分とする磁性粒子と酸化物を主成分とする非磁性の粒界部とからなる主記録層１６０を成膜する主記録層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、および保護層を順に成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法である。前記下地層は複数層からなり、このうちの少なくとも１層は酸素を１０００〜１００００ｗｔｐｐｍ含有する。そして、前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも１回加熱処理を施す。この加熱処理は、基板表面温度で８０〜２３０℃の範囲で行う。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層のトラック相互間を磁気的に分離する分離層の充填材料として、充填後の表面が平滑であり、しかも耐食性に優れた非磁性金属を用いることにより、信頼性を損なうことなく、簡便な方法で製造でき、生産性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１上に少なくとも磁気記録層４を備え、該磁気記録層４のトラック相互間を磁気的に分離する分離層５を有してなる磁気記録媒体であって、前記分離層５が、クロムホウ化物（ＣｒＢ）、ニッケルホウ化物（ＮｉＢ）、クロムリン化物（ＣｒＰ）及びニッケルリン化物（ＮｉＰ）からなる群から選ばれる非磁性アモルファス合金からなる。 （もっと読む）

【課題】室温で大きな垂直磁気異方性エネルギーや高い保磁力を有し、熱特性かつ磁気特性が良好な垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１０１上に設けられた下地層１０２、ヒートシンク層１０３、及び中間層１０４と室温で垂直磁気異方性を有する磁気記録層１０５を有し、エネルギー照射により磁気記録層１０５の垂直磁気異方性を低下させた状態で記録を行う垂直磁気記録媒体とする。ヒートシンク層１０３は磁気記録層１０５から２０ｎｍ以内の距離、かつ中間層１０４と基板１０１間に形成され、熱伝導率が２３Ｗ／ｍ ｋ以上、９０Ｗ／ｍ ｋ以下の材料を用い、ラフネスＲａは０．３５ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】トラック間の磁気的な相互干渉を低減し、かつ記録密度を向上させるために、複合磁気記録層に設けた凹凸形状における凸部を、連続膜で設計した垂直磁気記録層と同等の膜厚で同等の垂直磁気記録特性を示すように高品質に形成されるディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基体１上に少なくとも磁気記録層５と犠牲層とカーボン保護層６とをこの順に積層する第１工程と、記録トラックとなる凸部を形成するように同心円状に形成したレジスト膜パターンをマスクとして開口部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層６を除去して凹部を形成する第２工程と、該凹部に露出する前記犠牲層と磁気記録層５とを非磁性化する第３工程と、前記凹部に挟まれる前記凸部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層６と前記犠牲層を除去する第４工程と、前記凹部と前記凸部の上にカーボン保護層６と潤滑層７をこの順に被着する第５工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブ磁気媒体用の部分酸化キャップ層を提供する。
【解決手段】部分酸化キャップ層を有する垂直磁気記録媒体は、第２酸化物層を第１キャップ層と結合して単一の部分酸化キャップを形成する。部分酸化層の酸化部分および非酸化部分は、同じターゲットからスパッタリングされ、金属元素の組成が同じである。酸化部分のＭｓは非酸化部分の約２倍である。酸化部分は、厚さが約５〜２５Åの範囲である。層組成はＣｏＰｔＣｒＢＴａを含むことができ、Ｃｒのａｔ％は約１８〜２４％、Ｐｔは約１３〜２０％、Ｂは約４〜１０％、Ｔａが約０〜２％である。 （もっと読む）

【課題】媒体表面荒れが抑制され、良好なヘッドの浮上性を確保することができるパターンド磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体およびＢＰＭ）の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に、カーボンからなる第１のハードマスク、Ｓｉ、Ｃｕなどからなる第２のハードマスクおよびレジストを形成し、レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、パターン化されたレジストをマスクとして、第２のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第２のハードマスクをマスクとして、第１のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第１のハードマスクの凸部に残存している第２のハードマスクを除去し、酸素ガスとフッ素系ガスの混合ガスによってマスク表面の汚染層を除去し、磁気記録層をパターニングし、前記第１のハードマスクを除去することを含む磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の表面に凹凸パターンを形成してパターンドメディア型磁気記録媒体を製造する際に、加工前の磁気記録媒体の初期磁気特性を低下させずに維持するパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０表面に、軟磁性層１１と、シード層１２と、中間層１３と、磁性層１４と、貴金属材料の第二保護層１７と、ダイヤモンドライクカーボンの第一保護層１５とをこの順に積層形成し、前記第一保護１５層表面に所要のレジスト１６パターンを形成後、該レジスト１６をマスクとして前記第一保護層１５を酸素系ドライエッチングで選択除去して前記第二保護膜１７を露出させ、前記第二保護層１７と磁性層１４とを不活性ガス系ドライエッチングで選択除去した後、前記レジスト１６を除去し、前記第一保護層１５を酸素系のドライエッチングで剥離し、前記第二保護層１７を不活性ガスを用いたドライエッチングで剥離する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】複数のチャンバと、複数のチャンバ内で非磁性基板を保持するキャリアと、キャリアを複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備えたインライン式成膜装置を用いて、非磁性基板８０の少なくとも一方の面上に形成された磁性層８３に、磁気的に分離された磁気記録パターン８３ａが形成されてなる磁気記録媒体を製造する際に、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行うと共に、保護層８４を形成する前に、磁性層８３の表面を水素プラズマに曝し、この磁性層８３の表面に形成された酸化膜を還元除去する。 （もっと読む）

【課題】記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程Ａと、磁性層２の面上を覆う炭素マスク層３を形成する工程Ｂと、炭素マスク層３の上にレジスト層４を形成する工程Ｃと、スタンプ５を用いてレジスト層４を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Ｄと、レジスト層４を用いて炭素マスク層３を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Ｅと、磁性層２の炭素マスク層３で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部７を形成する工程Ｆと、レジスト層４及び炭素マスク層３を除去する工程Ｇと、磁性層２の表面を水素プラズマに曝す工程Ｈと、磁性層２の上に保護層９を形成する工程Ｉとを含む。 （もっと読む）

【課題】クロストークを低減することができる磁気ディスクを提供すること。
【解決手段】データが磁化情報として記録される磁気ディスクであって、磁気ディスクの記録面に対して所定方向に磁化容易軸を有する磁性層と、磁性層上に設けられ、磁性層の各記録磁区からの磁場を、各記録磁区上方の所定の位置に向けて偏向させる磁場偏向部とを備える。磁場偏向部は、磁性層上のそれぞれの記録磁区上に設けられ、周囲の領域の透磁率より大きい透磁率を有する高透磁率部を有する。 （もっと読む）

【課題】 機械的ダメージや腐食に対して耐久性のある磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ドーナツ形の基板と、前記基板上の磁性膜と、前記磁性膜上の保護膜とを具備し、前記基板の主面が、外周端と内周端との間の中央部にある記録領域と、外周端または内周端からそれぞれ１００μｍ以上２０００μｍ以内の範囲にある端部領域と、前記端部領域と前記記録領域との間にあり記録がなされない隣接領域とに区分されており、前記端部領域における磁性膜の膜厚が前記隣接領域のそれよりも薄く、前記保護膜は前記磁性膜の凹部に埋め込まれたＳｉＯ_２からなる下部保護膜とダイヤモンドライクカーボンからなる最表面の保護膜とを含み、前記端部領域における保護膜の少なくとも一部の膜厚は前記隣接領域のそれよりも厚くなっていることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】炭素保護層を薄膜化した場合でも、高いスクラッチ耐性が得られる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板１の上に、磁化容易軸が前記非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層４と、炭素保護層５とを積層してなる磁気記録媒体において、垂直磁性層４と炭素保護層５との間に、Ｒｕ及びＣｏを含む中間層９を設ける。これにより、炭素保護層５ほどのスペーシングロスを生じさせずに、磁気記録媒体の表面を保護し、また、炭素保護層５の被覆率を高め、垂直磁性層４と炭素保護層５とを強固に接着して、磁気記録媒体のスクラッチ耐性を著しく高めることが可能である。 （もっと読む）

【課題】フィルタードカソーディックアーク装置において、パーティクル粒子の低減と高い成膜レートを両立させた成膜装置を提供すること。
【解決手段】成膜処理室へ誘導する屈曲した磁場ダクトの内壁を非磁性の金属繊維からなるウール材によって被覆し、かつウール材にバイアス電圧を印加することを特徴とする。
ウール材はアルミニウム合金、ステンレス合金または銅を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】イオン注入型によるディスクリートトラック媒体の分離域形成加工において、入射するイオンが被処理磁気ディスク基板の端面のような鋭角部に集中、アーキングと呼ばれる異常放電が発生し、磁性膜の破壊が発生してしまう。
【解決手段】被処理磁気ディスク基板（被処理基板）２０と同電位になるグリッド３０を被処理基板が保持された電極板４４の上面に設けた電極構造に対して、高電圧パルス３２を印加することで、グリッド表面のみに高電圧のシース４１を形成し、グリッドに囲まれた被処理基板表面にはシースを形成しないことで、アーキングを抑制する。さらに、グリッドを通過して照射されるイオンに晒される電極板上に配置された被処理基板の面積に対して、被処理基板に覆われた部分を除く電極板の面積が等倍以上とすることで二次電子を積極的に利用して、無損傷なイオン注入処理を行う。 （もっと読む）

【課題】よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に少なくとも軟磁性層と中間層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、中間層を連続するＮ層（但しＮは少なくとも３以上の整数）で構成し、まずＲｕを主成分とする１層目の成膜を行い、次いで、成膜時のガス圧を１層目より高く又は同一に設定して、Ｒｕもしくは酸素又は酸化物を含有させたＲｕを主成分とする２層目の成膜を行い、２層目以降は上層へいくほど酸素含有量が同一又は増加するように調整する。 （もっと読む）

【課題】さらなる薄膜化に耐え得る高い機械的強度と、潤滑層との高い親和性を有する保護層を備えた磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に磁性層５０と保護層６０と潤滑層７０を順に備える磁気ディスクであって、基板１０上に磁性層５０と保護層６０を順に形成した後、前記保護層６０を常圧下でのプラズマに曝し、しかる後、前記保護層６０上に前記潤滑層７０を形成する。上記プラズマは、窒素ガス、アルゴンガス、酸素ガス、フッ素系炭化水素ガスから選ばれる少なくとも１種のガス中で発生させたプラズマである。また、前記保護層６０は水素化炭素系保護層である。 （もっと読む）

【課題】近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで、良好な磁気特性、信頼性特性を有する磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層が設けられた磁気ディスクの製造方法であって、前記保護層はプラズマＣＶＤ法により成膜され、反跳分子散乱法を用いて測定される前記磁性層中の水素含有量が許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定し、該設定した成膜条件により前記保護層を形成する。 （もっと読む）