【課題】表面が平滑で、且つ耐熱性に優れ、しかも表面硬度の高い磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板にベーマイト処理を施した後、加熱して酸化皮膜を形成する工程と、加熱後のアルミニウム基板表面に無機ポリシラザン含有溶液を塗布した後、加熱して表面硬度の高いＳｉＯ₂膜を形成する工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、オフセットデータおよびサーボ領域を備えるパターン化磁気媒体を製造するための方法を提供する。
【解決手段】本発明は、パターン化磁気媒体を製造するための方法である。本方法は、別領域のパターニングに悪影響を及ぼす一領域へのパターニングを必要とせずに、データ領域およびサーボ領域の両方がパターン化されることを可能にする。本方法によって、パターン化されたデータ領域と、パターン化されたサーボ領域と、サーボ領域とデータ領域との間の中間領域と、が設けられる。前記中間領域は、互いに非対称になる可能性が高いが、それが必然ではなく、本方法が媒体をパターン化するため使用されたことを示している。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともＳｉＯ_２成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、研磨開始時における研磨液中の砥粒濃度が１５ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であり、研磨液中の砥粒の全重量に対する、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒の含有量が７０ｗｔ％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層の磁気特性を低下させることなしに結晶粒径の低減を可能とすることにより、低ノイズ化、ＳＮＲ向上、記録容易性（Ｗｒｉｔｅ−ａｂｉｌｉｔｙ）向上といった性能向上を可能とする垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基体上に少なくとも下地層、中間層、垂直磁気記録層が順次積層された垂直磁気記録媒体であって、前記下地層がグラフェンシート層であることを特徴とする垂直磁気記録媒体である。 （もっと読む）

【課題】 ヘッドと接触しても分解しない安定した化合物で、かつヘッドとディスクのスペーシングを低減できる化合物およびこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスクを提供する。
【解決手段】 式（１）で表される化合物、この化合物を含有する潤滑剤及び磁気ディスク
Ｃ_６Ｈ_４−（Ｏ−Ｚ−Ｒ−Ｘ）_２ （１）
式中Ｚは−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−、
Ｒは、−ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２−であり、ｎは０〜２０の実数、Ｘは−ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ_２）ｍＯＨ、−
ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨ、−ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−Ｃ_６Ｈ_５、−ＯＣ
Ｈ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ−Ｃ_６Ｈ_４−ＯＣＨ_３、ｍは１〜６の整数である。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともＳｉＯ_２成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、前記研磨液中の砥粒濃度が２ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であり、前記研磨液中の砥粒の全重量に対する、前記Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒の含有量が７０ｗｔ％以上であり、前記研磨工程における加工圧力が１２０ｇ／ｃｍ^２〜１６０ｇ／ｃｍ^２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブへの搭載時の磁気記録媒体の変形が抑制され得るＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】中心部に円孔５０ａを有するＨＤＤ用ガラス基板５０は、円孔５０ａの半径をｒ、半径がｒ＋０．３０ｍｍである、円孔５０ａと同心の第１の円ｃ１と、半径がｒ＋４ｍｍである、円孔５０ａと同心の第２の円ｃ２との間にある、円孔５０ａと同心の円Ｃに沿って計測したガラス基板５０の厚みの最大値をｔｍａｘ、最小値をｔｍｉｎ、平均値をｔａｖｅとしたときに、ｔｍａｘ≦ｔａｖｅ＋０．０５μｍであり、かつ、ｔｍｉｎ≧ｔａｖｅ−０．０５μｍである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れ、同一ロットで研磨されたガラス基板間の板厚偏差が小さい磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、中心部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板は内周側面と外周側面と両主平面とを有し、レーザ干渉計を用いて測定した、磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度ｂが、０．３μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】面記録密度が高いＨＤＤ用磁気記録媒体であっても、外周端部のヘッドクラッシュを抑制し、記録領域の拡大に寄与する、ＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上のＨＤＤ用磁気記録媒体の製造に用いられるＨＤＤ用ガラス基板５０は、ガラス基板５０の主表面５１に定義された基準面からのガラス基板５０の外周端部の高さのズレ量をＡとしたときに、式（１）に従って算出されるＡの周方向のバラツキＸが３％以下であり、かつ、ガラス基板５０の外周端部の周方向のＴＩＲが０．４μｍ以下である。バラツキＸ（％）＝｛（ＭＡＸ−ＭＩＮ）／（ＭＡＸ＋ＭＩＮ）｝×１００…式（１）（式（１）中、ＭＡＸはＡの周方向の最大値、ＭＩＮはＡの周方向の最小値を表す。） （もっと読む）

【課題】高周波のＳＮＲ特性とＳｑｕａｓｈ特性を同時に満足する高記録密度化に対応した磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基体上に少なくとも軟磁性裏打ち層と、磁気記録層を含む。この磁気記録媒体では、軟磁性裏打ち層は、非磁性基体側の軟磁性層、交換結合制御層、磁気記録層側の軟磁性層からなる積層構造を有するものであり、且つ、前記磁気記録層側の軟磁性層は、前記非磁性基体側の軟磁性層よりも比透磁率の周波数特性（１０ＭＨｚ時の比透磁率に比べて、比透磁率が５０％低下させる周波数）が高く、前記非磁性基体側の軟磁性層が前記磁気記録層側の軟磁性層よりも比透磁率が高いことを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたＨＤＤ用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を２回以上有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、１回目の化学強化工程と２回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、前記１回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記１回目の化学強化工程と２回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】表面が平滑な磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造するにあたり、研磨前の表面粗度を小さくすることにより研磨量を低減して生産性を高めると共に、コストを削減できる技術を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板にりん酸処理を施す工程と、りん酸処理後のアルミニウム基板表面に、酸素ガスと有機シロキサンガスを用いてプラズマ化学気相成長法によりＳｉＯ₂膜を形成する工程とを含む磁気記録媒体用アルミニウム基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面を酸化セリウム砥粒の使用をできるだけ抑えながら、かつ高い研磨速度で研磨し、面取り部等の端面にキズ等の加工変質層がない磁気記録媒体用ガラス基板を得る。
【解決手段】 中央部に貫通孔を有し、前記貫通孔を構成する内周側面と、外周側面、および互いに対向する１対の主平面を有する円盤形状のガラス基板において、前記内周側面および前記外周側面と前記主平面との交差部に、それぞれ内周面取り部および外周面取り部が形成された磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記内周面取り部と外周面取り部の少なくとも一方は、ガラス基板の表面を５μｍエッチングしてから評価される、直径または長径の最大径が１０μｍ以上のピット欠陥数が５個／ｍｍ^２以下である。 （もっと読む）

【課題】粒子サイズ制御用の複数の磁気層および中間二重核形成膜を有する垂直磁気記録ディスクを提供する。
【解決手段】垂直磁気記録ディスクは、磁気層間に２つの核形成膜（ＮＦ１およびＮＦ２）を有する、少なくとも２つの強磁性交換結合されたＣｏＰｔＣｒ酸化物磁気層（ＭＡＧ１およびＭＡＧ２）で形成された段階的異方性を持つ記録層（ＲＬ）を有する。ＮＦ１は、好ましくはＲｕまたはＲｕＣｒの様なＲｕ基合金である金属膜である。ＮＦ２は、約０．２〜１．０ｎｍの厚さにＮＦ１上に堆積される、好ましくはＴａ酸化物の金属酸化物膜である。ＭＡＧ２は、ＮＦ２上に堆積される。ＮＦ１およびＮＦ２により、ＭＡＧ１およびＭＡＧ２間に核形成膜を持たない段階的異方性を持つＲＬと比較して、ＲＬにおける平均粒子サイズの大幅な縮小が提供されると同時に、ＭＡＧ１およびＭＡＧ２の強固な交換結合も保証される。 （もっと読む）

【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が６８ＧＰａ以上で比弾性率が２７ＭＮｍ／ｋｇ以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より３．５ｍｍ以上外周側でかつ外周端面より３．５ｍｍ以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が０．５ｎｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より低ノイズ化およびＳＮ比等の性能が向上され、高密度磁気記録が実現可能な垂直磁気記録媒の提供。
【解決手段】垂直磁気記録媒体において、非磁性基板上に少なくとも、第１非磁性中間層、第２非磁性中間層、および磁気記録層が順次積層され、前記第１非磁性中間層をＣｏＣｒＲｕＷ合金から形成し、かつ前記第２非磁性中間層をＲｕ基合金から形成する。 （もっと読む）

【課題】パーティクル等の異物が基板表面に強固に付着する前に、基板表面に吸着し、これらの異物の強固な付着を防ぎ、後の洗浄工程で基板上の異物の残留を著しく減少させることが可能となる電子材料用表面保護剤を提供することを目的とする。
【解決手段】炭素数６〜２４の脂肪族第１級アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ１）、炭素数８〜３６の脂肪族第２級アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ２）、炭素数６〜２４の第１級アルカノールアミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ３）および炭素数８〜３６の第２級アルカノールアミンのアルキレンオキサイド付加物（Ａ４）からなる群から選ばれる１種以上のアルキレンオキサイド付加物（Ａ）並びに水を必須成分として含むことを特徴とする電子材料用表面保護剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】 倒立型Ｈｋ構造を有する垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 一実施形態によれば、垂直磁気記録媒体は、磁気異方性Ｋｕ_１を特徴とする第１粒状記録層と、磁気異方性Ｋｕ_２を特徴とする第１粒状記録層上方の第２粒状記録層と、磁気異方性Ｋｕ_３を特徴とする第２粒状記録層上方の第３粒状記録層と、を含み、Ｋｕ_３＜Ｋｕ_２＞Ｋｕ_１である。別の実施形態によれば、磁気媒体は、第１比率Ｘ_１における第１ＣｏＣｒＰｔ合金を有する第１記録層と、第１記録層上方に位置し、且つ、第２比率Ｘ_２における第２ＣｏＣｒＰｔ合金を有する第２記録層と、第３比率Ｘ_３における第３ＣｏＣｒＰｔ合金を有する第２記録層上方の第３記録層と、を含み、各比率は、それぞれのＣｏＣｒＰｔ合金中におけるＰｔの濃度をＣｒの濃度によって除算したものとして規定され、Ｘ_３＜Ｘ_２＞Ｘ_１である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、コアドリルによる加工効率を高めると共に、ガラス素基板の裏面側に発生するチッピングを小さくすることを課題とする。
【解決手段】コアドリル１０は、回転軸１２と、支持板１４と、円筒部１６と、研削部１８とを有する。また、研削部１８の先端部１９は、縦断面形状が同一の半径による円弧状に形成されている。そのため、ガラス素基板２０の表面に最初に接触する刃先の接触幅がガラス素基板２０の表面に対して小さくなっており、コアドリル１０を降下するのに連れてガラス素基板２０の表面に接触するコアドリル１０の刃先の接触幅が徐々に幅広に変化する。ガラス素基板２０が載置されるステージ４０の上面には、コアドリル１０の先端部１９が挿入される環状溝４２が形成されている。環状溝４２は、コアドリル１０の先端部１９と接触しないように半径方向の溝幅Ｘ１がコアドリル１０の先端部１９のドリル幅Ｘよりも大きく形成されている（Ｘ１＞Ｘ）。 （もっと読む）