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Fターム[5D006DA03]の内容

磁気記録担体 (13,985) | 記録担体の形状、構造、機能 (2,643) | ハードディスク (1,349)

Fターム[5D006DA03]に分類される特許

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【課題】外周端面の外周側面部の表面粗さRaを複数箇所で測定した場合に、その最大値、標準偏差が所定の範囲内にあり、主平面研磨を行った場合に平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面において、中心角で15度間隔に設けた計24の外周端面測定箇所で表面粗さRaを測定したとき、前記外周端面の外周側面部の表面粗さRaの最大値が0.5μm以下であり、前記外周側面部の表面粗さRaの標準偏差が0.2μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。 (もっと読む)


【課題】 本発明により、室温で低いBsを示すとともに、高温においてBsの低下幅が小さい垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供できる。
【解決手段】 at%で、Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Mn,Ni,Cu,Al,B,C,Si,P,Zn,Ga,Ge,Snを1種以上、残部Co、Feおよび不可避的不純物からなり、下記の式(1)〜(3)を全て満たすことを特徴とした垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材。(1)0≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.5
(2)5≦Ti%+Zr%+Hf%+V%+Nb%+Ta%+B%/2
(3)0.3≦0.813×Fe%/(Fe%+Co%)−0.062×TNM+1.751≦1.2 (もっと読む)


【課題】平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが可能な磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び平行度に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主平面11と、外周端面12と、内周端面13と、を有する磁気記録媒体用ガラス基板10の製造方法であって、外周端面は外周側面部120と外周面取り部121とを有し、両面研磨装置を用いてキャリアに保持された磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程を有し、主平面研磨工程で研磨される前の磁気記録媒体用ガラス基板は、外周端面において、磁気記録媒体用ガラス基板の中心角で15度間隔に設けた計24の外周端面測定箇所で表面粗さRaを測定したとき、外周側面部の表面粗さRaの最大値は0.5μm以下、標準偏差は0.2μm以下である。 (もっと読む)


【課題】プリアンブルパターンでの同期取得または位相差型のバーストにおける位相差検出が良好に行えるビットパターンドメディア型の磁気ディスクおよびその磁気ディスクを搭載した磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】本実施形態の磁気ディスクは、複数のデータ領域であって各データ領域が、周方向に延在するようにそれぞれが配列された複数のトラックを有する、複数のデータ領域と、前記複数のデータ領域の間に半径方向に延在するように設けられたサーボ領域であって、それぞれが前記半径方向に延在する複数のガイドパターンと、隣接する前記ガイドパターン間に設けられ前記半径方向に沿って配列されたポストパターンと、前記隣接するガイドパターンの少なくとも一方の側に前記半径方向に沿って配列された少なくとも1列の複数のドットと、を有するサーボ領域と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】安定した情報の記録および再生を行なうことができる。
【解決手段】本実施形態に係る磁気媒体は、第1磁性層、第2磁性層、および非磁性層を含む。第1磁性層は、第1磁性体により形成され、磁化の方向に応じて前記情報が記録される。第2磁性層は、前記第1磁性体と磁気異方性が異なる第2磁性体により形成される。非磁性層は、前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に積層され、非磁性体で形成される。前記第1磁性層の磁化と前記第2磁性層の磁化とは、前記非磁性層を介した磁気の交換作用により、互いの磁化が反対方向を向いて結合することを示す反平行結合する。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体のような被エッチング材料の表裏両面へのプラズマ処理を行う際、基板の材質に関わらず被エッチング材料両表面に効率よくバイアスを印加し、両面処理ができるプラズマエッチング装置及びその方法を提供する。
【解決手段】略円環状の被エッチング材料に高周波電力を印加する一対の導電体を有し、略円環状の被エッチング材料の内縁を一対の導電体で挟持することで、略円環状の被エッチング材料の両面をエッチングするプラズマエッチング装置において、前記一対の導電体の一方に設置された導電体接続部材により、該略円環状の被エッチング材料の両面が電気的に導通するようにした。 (もっと読む)


【課題】マスクパターンの剥離性が良好で、磁気特性の劣化を抑制した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録層上に金属剥離層、マスク層を形成した後、マスク層に対して凹凸パターンを設け、凹凸パターンを金属剥離層及び磁気記録層に順に転写し、溶媒を用いて金属剥離層を溶解、除去する。金属剥離層は、アルミニウム、またはアルミニウム化合物のいずれかである。溶媒としてアルカリ溶液を用いる。 (もっと読む)


【課題】高密度磁気記録を行うには、磁性体を充填する細孔を微細にする必要があり、その微細な加工を短時間で行い、製造コストの低減ならびにスループットの向上を図る。
【解決手段】加工速度が早い加工装置により、基板に比較的大きな凹パターンを形成した後、その凹パターン内に薄膜を形成することにより、微細で均一なパターンを低コストかつ高スループットのプロセスによって、形成できる。この基板内に磁性体を埋め込むことで、パターンドメディアが形成される。また、この基板をインプリントモールド原版またはインプリントモールドとして用いることにより、磁気特性に優れた磁性層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】磁性粒子間の弱い均一な直接交換結合を用いた低結合型垂直記録媒体を提供する。
【解決手段】低結合型垂直磁気記録媒体10は、磁気記憶層17と、少なくとも1つの低飽和磁化層16とを備え、前記磁気記憶層は、約400から900emu/cm3の飽和磁化を有し、前記少なくとも1つの低飽和磁化層の飽和磁化は前記磁気記憶層の飽和磁化よりも低い。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】 磁気記録媒体は、垂直磁気記録層、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むRu非磁性下地層、及び非磁性基板を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも1つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びBからなる群から選択される少なくとも1種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 (もっと読む)


【課題】高周波のSNR特性とSquash特性を同時に満足する高記録密度化に対応した磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基体上に少なくとも軟磁性裏打ち層と、磁気記録層を含む。前記軟磁性裏打ち層は、第1の軟磁性層、第2の軟磁性層、交換結合制御層、第3の軟磁性層及び第4の軟磁性層を含み、これらの層が、非磁性基体側から前記の順に積層された構造を有する。前記第1及び第4の軟磁性層の比透磁率の周波数特性(10MHz時の比透磁率に比べて、比透磁率が50%低下させる周波数)は、両方とも、前記第2及び第3の軟磁性層の比透磁率の周波数特性を比較した場合の高い方の値よりも高く、前記第2及び第3の軟磁性層の比透磁率は、両方とも、前記第1及び第4の軟磁性層の比透磁率を比較した場合の高い方の値よりも高いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低保磁力を有する垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金、およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ti,Zr,Hf,Nb,Ta,Bを1種以上、W,Snの1種または2種を含み、残部CoおよびFeからなり、下記(1)〜(4)を満たすことを特徴とする、垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金。at.%で、
(1)6≦Ti%+Zr%+Hf%+Nb%+Ta%+B%/2≦24
(2)Zr%+Hf%≦14
(3)3≦W%+Sn%≦19
(4)0.20≦Fe%/(Fe%+Co%)≦0.90 (もっと読む)


【課題】保護層の厚さを2nm以下としつつも、優れた耐食性を有する磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】基板上に磁性層と、炭素系保護層とを含み、上記炭素系保護層の厚さが2nm以下であり、かつ、上記炭素系保護層表面の水滴に対する接触角が25度以上60度未満である。 (もっと読む)


【課題】耐食性、摺動耐久性、ヘッド浮上性を確保でき、信頼性を確保しながら磁気スペーシングを低減させる。
【解決手段】本発明の記録媒体は、磁気的な原理に基づき情報の読み出し・書き込みを行うヘッドにより、情報を記録・再生するための記録媒体であって、基板上に形成された磁性層と、該磁性層上に形成された保護層とを含み、該保護層が、該磁性層上に形成されていてシリコン、シリコンカーバイド、およびゲルマニウムからなる群から選択された材料を含む下地層と、該下地層上に形成されていて水素を含有するアモルファスカーボンを含むカーボン層とから構成され、該カーボン層に含まれる水素量が24.7at%以上46.8at%以下であり、該下地層の厚さが0.3nm以上1.8nm以下であり、該カーボン層の厚さが0.2nm以上1.7nm以下である。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)In(100−z)、原子比により30≦x≦80、1≦y≦20、3≦z≦65で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、InPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】1平方インチ当たり40ギガビット以上のような高記録密度での使用に供される磁気ディスクとして構成しても、サーマルアスぺリテイ障害を起こすことがなく、耐衝撃性にも優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。携帯電話、デジタルカメラ、携帯型「MP3プレイヤ」、PDA等の携帯情報機器や、「カーナビゲーションシステム」など車載用機器にも搭載できるように、例えば、外径30mm以下の小型磁気ディスクとして構成しても、安定した動作を実現できる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】端面部が鏡面加工されており、端面部の算術平均粗さ(Ra)が100nm以下である。 (もっと読む)


【課題】メッキ表面の平滑性に優れ、磁気ディスクの高容量化および高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Mg:2.0〜6.0%、Cu:0.005〜0.15%、Zn:0.05〜0.6%、Cr:0.01〜0.3%、Si:0.001〜0.03%、Fe:0.001〜0.03%を含有し、残部Alと不可避的不純物からなり、最長径が1μmを超えるAl−Cu−Mg−Zn系金属間化合物が0.2mm当たり1個以下である磁気ディスク用アルミニウム合金基板で、熱間圧延終了温度が280〜360℃、かつ熱間圧延終了時の板幅中央部と端部の表面温度の差が30℃以内となるように熱間圧延を行う。 (もっと読む)


【課題】 複数の磁気層および中間層を有するパターン化垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 パターン化垂直磁気記録媒体は、第1および第2の強磁性層(MAG1およびMAG2)を、MAG1とMAG2との間に第1および第2の非磁性中間層(IL1およびIL2)を備えた状態で有するディスクリートデータアイランドを有する。MAG1およびMAG2は、類似の厚さを有した類似のCoPtCr合金でもよく、IL1およびIL2の厚さは、MAG1およびMAG2が強固に交換結合されることを保証する。あるいは、MAG2は、「書き込み補助」層、例えば、交換スプリング構造における高飽和磁化の軟磁性材料でもよく、IL1は非常に薄く、それによってIL2が、MAG1と書き込み補助MAG2層間とのカップリング層として機能できる。 (もっと読む)


【課題】次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、きわめて低い比重を有する結晶化ガラスおよび情報記録媒体用結晶化ガラス基板を提供する。
【解決手段】結晶相としてRAl、RTiO、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有する結晶化ガラスであって、酸化物基準の質量%で、SiO40%〜60%、Al7%〜23%、TiO1〜15%、MgO1%〜20%、CaO0%〜10%、SrO0%〜5%、BaO0%〜5%、ZnO0%〜15%、FeO0%〜8%、P0%〜7%、B0%以上8%未満、の各成分を含有し、(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO+FeO)/(SiO+Al)の値が0.25以下、(ZnO+FeO)/MgOの値が0以上0.9以下、比重が2.67以下であることを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】磁気記録層の磁気特性を低下させることなしに結晶粒径の低減を可能とすることにより、低ノイズ化、SNR向上、記録容易性(Write−ability)向上といった性能向上を可能とする垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基体上に少なくとも下地層、中間層、垂直磁気記録層が順次積層された垂直磁気記録媒体であって、前記下地層がグラフェンシート層であることを特徴とする垂直磁気記録媒体である。 (もっと読む)


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