【課題】ビットパターンド媒体を用い、記録時のフリンジ影響や再生時のクロストーク影響を改善できる磁気記録装置を提供する。
【解決手段】各々複数の磁性ドットを含む複数の磁性ドット列を含むデータ領域を有するビットパターンド媒体と、複数の磁性ドット列をカバーする幅を有する磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドをクロストラック方向へ移動させるアクチュエータとを具備し、第ｎ列の磁性ドット列に含まれる磁性ドットの保磁力が、第ｎ＋１列の磁性ドット列に含まれる磁性ドットの保磁力より大きい磁気記録装置。 （もっと読む）

【課題】データの記録領域として磁性細線でトラックを形成した磁気ディスクにおいて、再生方式によらずに高記録密度化の可能な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】磁気ディスクは基板上に磁性細線５を同心円状に備え、それぞれの磁性細線５は、相対的に飽和磁化の低い低Ｍs領域５ｅをイオン注入により形成されたことを特徴とする。磁性細線５は「０」または「１」のデータを連続して記録され、データを記録された領域は磁区として、磁性細線５の両端に接続した電極６１，６２にて供給されるパルス電流により磁性細線５中を断続的にシフト移動する。磁区は低Ｍs領域５ｅに到達しているときにその長さが伸長するため、この領域に再生領域５ｒを設けて、データを入射光のレーザースポットや磁気ヘッド２１で磁気の検出可能な磁区の大きさに拡大して再生でき、磁性細線５の低Ｍs領域５ｅ外においてはデータを長さＬbの磁区に圧縮して格納できる。 （もっと読む）

【課題】ＯＷ特性、ＳＮＲ、熱安定性を良好に維持しながら高トラック密度を可能とする垂直磁気記録媒体を実現すること。
【解決手段】非磁性基体上に磁気記録層を備えた垂直磁気記録媒体において、磁気記録層は、第１磁性層、第１交換結合制御層、第２磁性層、第３磁性層および第４磁性層をこの順に備えることを特徴とする。
前記第１磁性層、第２磁性層、第３磁性層および第４磁性層の垂直磁気異方性定数をそれぞれＫｕ₁、Ｋｕ₂、Ｋｕ₃およびＫｕ₄としたときに、Ｋｕ₄＞Ｋｕ₃＞Ｋｕ₂、かつＫｕ₁＞Ｋｕ₃＞Ｋｕ₂の関係を満たすことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 優れたパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に凹凸パターンを有するマスクを形成し、前記マスクの凹部に対応する前記磁気記録層の領域の磁性を失活することを含むパターンド媒体の製造方法であって、前記磁気記録層の上部に設けた注入深度調節層を介したイオンビームの照射によって、前記磁気記録層の磁性を失活することを含み、磁性の失活の進行に伴って、前記注入深度調節層の膜厚が減少し、イオンビーム侵入深さが深くなるパターンド媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反転磁界分散が小さい熱アシスト記録媒体、及びそれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、Ｌ１_０構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、ＴｉＮであり、かつ、該ＴｉＮが、ＢＣＣ構造、もしくはＮａＣｌ構造を有する下地層上に形成されていることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いる。また、ＢＣＣ構造を有する下地層として、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎのうちの少なくとも１種類を用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、スパッタリングにより薄膜を形成するために用いられる化合物の生成を抑制したＣｒＴｉ系合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｔｉを３５〜６５原子％含み、残部Ｃｒおよび不可避的不純物かなるＣｒＴｉ系合金において、Ｃｒ（１１０）のＸ線回折強度［Ｉ（Ｃｒ）］とＣｒ₂ Ｔｉ（３１１）のＸ線回折強度［Ｉ（Ｃｒ₂ Ｔｉ）］の強度比が［Ｉ（Ｃｒ₂ Ｔｉ）／Ｉ（Ｃｒ）］が０．５０以下であるＣｒＴｉ系合金およびＣｒＴｉ系スパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】歩留まりが高く、磁気ヘッドが安定浮上する高記録密度の磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】基板上に、磁性層、保護層、および潤滑層を順次積層し、被転写媒体を形成する工程と、被転写媒体に磁気パターンを転写する工程と、転写した被転写媒体の潤滑層の表面を平坦化する工程とを含み、切削効果のない部材を用いて潤滑層の表面をワイピング処理すること、または潤滑層の表面を加熱処理することにより潤滑層の表面を平坦化する。 （もっと読む）

【課題】ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 （もっと読む）

【課題】フッ素を実質的に含有せず、ハードディスク基板に用いられる加工性の悪いガラス基板に対しても、高い研磨速度で表面粗さを小さくし、かつ研磨傷の発生を抑制することが可能な酸化セリウム系研磨剤、及びガラス製ハードディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記（１）〜（５）を満たすガラス製ハードディスク基板製造用酸化セリウム系研磨剤、及び該研磨剤も用いたガラス製ハードディスク基板の製造方法である。（１）総酸化希土類量（ＴＲＥＯ）が９５質量％以上であり、かつ当該ＴＲＥＯに対する酸化セリウム量が９９質量％以上である。（２）フッ素の含有量が０．０５質量％以下である。（３）粉末Ｘ線回折から算出される前記酸化セリウムの結晶子径が７００〜１０００Åである。（４）平均粒子径（Ｄ₅₀）が０．４〜０．８μｍである。（５）前記ガラス製ハードディスク基板のビッカース硬度が５７０Ｈｖ以上である。 （もっと読む）

【課題】グラニュラ構造の垂直磁性層をスパッタリング法で形成するに際し、形成する磁性粒子を微細化し、また磁性粒子の粒界幅を広げ、今まで以上に高記録密度化に対応可能な電磁変換特性に優れた磁性層を形成可能とするターゲットを提供する。
【解決手段】磁気記録媒体のＣｏ系磁性層をスパッタリング法で形成するために用いるターゲットを、ＣｒまたはＣｒ合金を５モル％以上含み、ＣｏＯを５モル％以上含み、融点が８００℃以下の酸化物を合計で３モル％〜２０モル％の範囲内で含み、気孔率が７％以下とする。またターゲットに、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣｅＯ₂からなる群から選ばれる何れか１種を含有させる。 （もっと読む）

【課題】 効率的に且つ十分に非記録部の磁性が失活した磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に磁気記録層を含む磁気記録媒体において、前記磁気記録層は、記録部と非記録部とから成るパターンを有し、前記非記録部は、前記記録部が非磁性化した構造を有し、前記非記録部は、バナジウムおよびジルコニウムから成る群から選択される少なくとも１つの金属元素と、窒素、炭素、ホウ素および酸素から成る群から選択される少なくとも１つの元素とを含み、前記非記録部に含まれる窒素、炭素、ホウ素および酸素から成る群から選択される少なくとも１つの元素の含有量は、前記記録部に含まれる元素の含有量よりも多い磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少ない取代で高精度に面取部を鏡面研磨することにより、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止して信頼性と耐久性を向上させた磁気ディスク用のガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。
【解決手段】中心に内孔２を有する円盤状の磁気ディスク用ガラス基板であって、内周側の面取部２ｂが凹面をなすことを特徴とする。これによりラッチ（爪）などでガラス基板を把持する際に、保持性や確実性、位置精度などのハンドリング性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】無欠陥の無電解ニッケルメッキ膜の製造方法の提供。
【解決手段】スパッタ法を用いて、基材上に９９．９９％以上の純度および２．５μｍ以上の膜厚を有するアルミニウム層を形成する工程と、無電解メッキを用いて、アルミニウム層の上に無電解ニッケルメッキ膜を形成する工程とを含むことを特徴とする無電解ニッケルメッキ膜の製造方法。ここで、基材とアルミニウム層との間に９９．９９％以上の純度を有するチタン層を形成する工程をさらに含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録層の結晶粒の分離と結晶粒径の微細化を両立することで、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に、少なくとも軟磁性裏打ち層と下地層と中間層と垂直磁気記録層を有する垂直磁気記録媒体において、垂直磁気記録層を１層以上の磁性層から構成し、その内の少なくとも１層を、Ｃｏを主成分とする強磁性結晶粒と酸化物粒界から構成し、その酸化物をＣｅの酸化物と、Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｐｒ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｙｂ，Ｔａ，Ｗから選ばれる元素の酸化物を含む構成とする。また、Ｃｅの酸化物を含む磁性層の酸化物の総量を４モル％〜１５モル％の範囲内とする。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム膜を有する磁気記録媒体基板上にインプリント法を用いて陽極酸化アルミナナノホールを形成する場合において、細孔が高度に周期配列した陽極酸化アルミナナノホールを形成させるための磁気記録媒体用スタンパの製造方法、ならびにそれを用いる磁気記録媒体基板および磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板に電子ビーム描画方法により、等間隔のドット状または矩形状のパターンを描画し、異方性エッチングすることにより、アルミナノホールのサイズよりも十分小さい逆ピラミッド形状のピットを有する磁気記録媒体用スタンパを作製する。これを用いて陽極酸化アルミナナノホールを形成する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク表面のより外周側に拡大された記録再生用領域において所望な端部形状を有し、かつ、基板表面の粗さが従来に比べさらに低減した磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、キャリア内に収納したガラス基板の主表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給した状態で、前記ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させて前記ガラス基板の主表面を研磨する鏡面研磨工程と、製造されたガラス基板に対して前記ガラス基板の端部形状の評価を行う検査工程と、を有する、前記主表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１５ｎｍ以下である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記検査工程において、グライド領域の外周端部における主表面と浮上するグライドヘッドとの間の領域の面積が４８μｍ^２以下であるものを良品として判定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】全波長成分のうねりを低減できる製造方法を提供し、磁気ヘッドの接触を低減して磁気ヘッドの浮上走行安定性の向上した媒体を提供すること。
【解決手段】本発明の製造方法は、Ｎｉ−Ｐ系合金からなる下地層を有する基板の該下地層に、有機酸または無機酸と、第１の研磨材とを含む第１のスラリー液を供給しながら、アルミナ、チタニア、シリカおよびジルコニアよりなる群から選択される研磨材を０．１ｗｔ％から２５ｗｔ％の濃度で含有する第１の多孔質材料を用いて前記基板を研磨する第１研磨工程と、前記第１研磨工程により加工された下地層の表面を、有機酸または無機酸と、第１の研磨材よりも小さい粒径を有する第２の研磨材とを含む第２のスラリー液を供給しながら第２の多孔質材料で研磨する第２研磨工程からなる。 （もっと読む）

【課題】パターンマスクの除去効率を損なうことなく処理時間の短縮を図ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、磁性層１２を磁気分離するためのイオン注入工程に際して基板１１をレジストパターン１３の除去反応温度域にまで昇温させ、イオン注入後はその基板温度を利用してレジストパターン１３のアッシング処理を実施する。これにより、レジストパターンの除去効率を損なうことなく、レジストパターン除去のための処理時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層が溝（非記録領域）により分離されているような場合であっても、スライダの浮上量及び浮上姿勢を一定に保つことが可能な磁気記録媒体及びそれを備えた磁気ディスク装置を提供する。
【解決手段】記録領域３１０であるデータトラック３０８とその間に設けられた非記録領域（溝）３１２を備えたディスクリートトラックメディア（磁気記録媒体）３００において、データトラック３０８の位置を特定するディスクリートサーボ領域３０６の半径方向における幅Ｗを、磁気ディスク装置のスライダに設けられたセンターパッド端の幅ＳＬ未満とする。また、その磁気記録媒体を備えた磁気ディスク装置とする。 （もっと読む）

【課題】強化ガラス基板からなるハードディスクよりも衝撃に強く剛性が高いハードディスクを形成することが可能な基板を提供する。
【解決手段】基板１０は、スピネルからなる、ハードディスク用の基板１０である。基板１０のヤング率は１５０ＧＰａ以上３５０ＧＰａ以下であることが好ましい。また、前記基板の一方の主表面１０ａの平均粗さＲａの値が０．０１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下である。基板１０を構成するスピネルの組成としてはたとえばＭｇＯ・ｎＡｌ２Ｏ３（１≦ｎ≦３）が挙げられる。 （もっと読む）