【課題】ＭＲ変化率の高いＣＣＰ−ＣＰＰ型の磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドアセンブリ及び磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】強磁性体を含む第１磁性層と、強磁性体を含む第２磁性層と、第１及び第２磁性層の間に設けられ、絶縁層と前記絶縁層を貫通する導電部とを含むスペーサ層と、を有する磁気抵抗効果素子の製造方法であって、スペーサ層の母材となる膜を形成する第１工程と、前記膜に、酸素分子、酸素イオン、酸素プラズマ及び酸素ラジカルの少なくともいずれかを含むガスを用いた第１処理を施す第２工程と、前記第１処理が施された前記膜に、ヘリウムイオン、ヘリウムプラズマ、ヘリウムラジカル、ネオンイオン、ネオンプラズマ及びネオンラジカルの少なくともいずれかを含むガスを用いた第２処理を施す第３工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＣＰＰ構造の磁気抵抗効果素子の狭小化に伴い、基板上におけるＥＬＧ（抵抗検知素子）と実素子（磁気抵抗効果素子）のオフセットばらつきが無視できなくなり、ＭＲ素子高さの高精度化の隘路となっている。
【解決手段】ローバー５０の最終浮上面研磨工程において、実素子１の抵抗値が検知可能な領域で、ＥＬＧ２の抵抗値と実素子１の抵抗値を検知（測定）する（ステップ１００）。次に、ステップ１００で検知したＥＬＧ２の抵抗値と実素子１の抵抗値からＥＬＧ２と実素子１のオフセット値を計算する（ステップ１０２）。次に、計算したオフセット値を用いて、研磨停止の目標となるＥＬＧ２の最終抵抗値を補正し、最終ターゲットとする（ステップ１０４）。そして、ＥＬＧ２の抵抗値が最終抵抗値に達したとき、ローバー５０の浮上面研磨を停止する。 （もっと読む）

【課題】ＭＲ変化率の高いＣＣＰ−ＣＰＰ型の磁気抵抗効果素子の製造方法、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドアセンブリ及び磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】強磁性体を含む第１磁性層と、強磁性体を含む第２磁性層と、第１及び第２磁性層の間に設けられ、絶縁層と前記絶縁層を貫通する導電部とを含むスペーサ層と、を有する磁気抵抗効果素子の製造方法であって、スペーサ層の母材となる膜を形成する第１工程と、前記膜に、酸素分子、酸素イオン、酸素プラズマ及び酸素ラジカルの少なくともいずれかを含むガスを用いた第１処理を施す第２工程と、前記第１処理が施された前記膜に、クリプトンイオン、クリプトンプラズマ、クリプトンラジカル、キセノンイオン、キセノンプラズマ及びキセノンラジカルの少なくともいずれかを含むガスを用いた第２処理を施す第３工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ホイスラー合金が形成される下地層の選択自由度が高く、熱処理温度及び熱処理回数を低減し、ホイスラー合金の高いスピン偏極率を活用できる積層体を提供する。
【解決手段】 ＭｇＯ層３と接触するように、結晶質のホイスラー合金層１が配置されている。ホイスラー合金層１のＭｇＯ層３に対して反対の面側には、非晶質のホイスラー合金層４が配置されている。 （もっと読む）

【課題】浮上面を高精度の平坦面に形成することが可能な磁気ヘッドスライダの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法は、基板１１上に所定の薄膜を順次積層して磁気ヘッド１を形成する素子部形成工程と、前記基板１１を、前記磁気ヘッド１を有する磁気ヘッドスライダ１０毎もしくは複数の該磁気ヘッドスライダ１０が一列に連なったロウバー４毎に切断する切断工程と、前記磁気ヘッドスライダ１０の浮上面５側を、研磨プロセスによって浮上面形成予定位置の手前まで研磨する第１の研磨工程と、前記磁気ヘッドスライダ１０の浮上面５側をドライエッチングするエッチング工程と、前記磁気ヘッドスライダ１０の浮上面５側を研磨プロセスによって浮上面形成予定位置まで研磨する第２の研磨工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】磁気再生ヘッド全体の抵抗のばらつきを低減することが可能な磁気再生ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気再生ヘッドの製造方法は、磁気抵抗効果素子１３と抵抗素子２３とが並列回路に配置される磁気再生ヘッドの製造方法において、基体上に前記磁気抵抗効果素子１３を形成する工程と、前記磁気抵抗効果素子１３の抵抗値を測定する工程と、前記抵抗値の測定後に、前記抵抗素子２３を形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】信頼性及び歩留りの高い磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】下部磁気シールド層４、上部磁気シールド層２、下部磁気シールド層と上部磁気シールド層の間に形成された磁気抵抗効果膜３、磁気抵抗効果膜の膜厚方向に電流を流す手段とを含む磁気ヘッドにおいて、磁気抵抗効果膜は、固定層５１、非磁性層５２、酸化物層からなる絶縁障壁層５３、自由層５４がこの順番で成膜され、酸化物層にチタンとニッケルの少なくとも一方を含有する。 （もっと読む）

【課題】容易に実現することができ、磁気ヘッド（記録素子／再生素子）と記録媒体との間の間隔を高速かつ高精度に制御できるヘッドユニット、ヘッドジンバルアセンブリ及びそのヘッドユニットを用いた磁気記録装置を提供する。
【解決手段】スライダ１４の端面と磁気ヘッド（記録素子及び再生素子）１３との間に圧電アクチュエータ１８を配置する。圧電アクチュエータ１８は、導電体膜からなる電極と圧電体膜とを積層して形成され、ｄ33モードで駆動される。また、スライダ１８は、磁気ヘッド１３側が薄く、その反対側が厚いテーパー上に形成する。記録媒体（磁気ディスク）が回転すると、空気流によりスライダ１４が浮上し、圧電アクチュエータ１８の伸張方向が磁気ディスクの面に対し傾斜する。 （もっと読む）

【課題】
ライトヘッドの書込感度幅より狭いトラック幅を持つＤＴＭ等に対してデータの読み書きをしてライトヘッドの書込感度幅及び／又はリードヘッドの読出感度幅とを容易に測定することができる複合磁気ヘッドの書込幅及び／又は読出幅の測定方法を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、ディスクリートトラック方式あるいはビットパターンド方式の磁気記録媒体の半径方向に所定の速度Ｋでヘッドに所定のトラックあるいはこれに隣接するトラックを斜めに横断させてライトヘッドによりテストデータを書込み、リードヘッドによりトラックに斜めに記録されたテストデータを読出してヘッドのトラック走査時間に対する読出電圧についての読出特性のプロファイルを得て、リードヘッドのテストデータ走査時間に対して所定の移動速度Ｋを掛けることによりヘッドの半径方向の移動距離を得て書込感度幅を算出する。 （もっと読む）

【課題】平坦化研磨後に比較的に高い寸法精度で平坦化面を後退させることができる磁気抵抗効果素子の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気抵抗効果膜の素材層にエッチング処理を施し、エッチングマスク６６に基づき磁気抵抗効果膜の素材層から磁気抵抗効果膜４５を削り出す。絶縁膜６７、磁区制御膜の素材層６８、第１研磨ストッパ層６９、および、第１研磨ストッパ層６９の素材とは異なる素材を含む第２研磨ストッパ層７１を順次積層する。第２研磨ストッパ層７１の表面から平坦化研磨処理を施す。平坦面からエッチング処理を施す。第１研磨ストッパ層６９が露出した時点でエッチング処理を終了する。平坦面７３の後退は高い精度で制御されることができる。 （もっと読む）

【課題】
ライトヘッドの書込感度幅より狭いトラック幅を持つＤＴＭ等に対してデータの読み書きをしてライトヘッドの書込感度幅及び／又はリードヘッドの読出感度幅とを容易に測定することができる複合磁気ヘッドの書込／読出幅測定方法および測定装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、ＤＴＭ等のトラックに偏心がある状態で複合磁気ヘッド（ライトヘッド）によりテストデータを所定のトラックに書込み、複合磁気ヘッド（リードヘッド）をディスク半径方向に移動させかつ所定のトラックを横断させて所定のトラックからテストデータを読出すことで移動距離に対する読出電圧特性としてピークを持つ読出特性プロファイルを得て、この読出特性プロファイルに基づいて書込感度幅あるいは前記読出感度幅を算出するものである。 （もっと読む）

【課題】再生センサおよび主磁極層の突出量を独立して制御することが可能な再生記録磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】再生ヘッド１００Ａは、下部絶縁層２の内部における再生センサ６のセンサ先端部３１に近い側に、その再生センサ６を加熱して突出させるＤＦＨ（ダイナミックフライヒータ）３を含んでいる。記録ヘッド１００Ｂは、下部絶縁層１６の内部における主磁極層１８の記録磁極先端部１４に近い側に、その主磁極層１８を加熱して突出させるＤＦＨ１７を含んでいる。ＤＦＨ３，１７により、再生センサ６および主磁極層１８の突出量が独立して制御されるため、ガンマ比（再生センサ６の突出量／主磁極層１８の突出量）が１となるように調整される。 （もっと読む）

【課題】ウエハ段階においてリード素子の特性を的確に試験することを可能とし、とくに加熱下、冷却下におけるリード素子の特性を的確に試験することを可能にする磁気ヘッドの特性試験方法を提供する。
【解決手段】完成品と同一の寸法に形成された試験用のリード素子２２と、製品用のリード素子と、前記試験用のリード素子の近傍に配された伝熱部５０とを備えるウエハを被試験体とし、前記被試験体に対し、試験用の磁界を外部から作用させ、前記伝熱部５０に伝熱部材４０を接触させ、伝熱部５０を介して前記試験用のリード素子２２を加熱あるいは冷却することにより、加熱下あるいは冷却下における前記試験用のリード素子２２の電磁変換特性を試験する。 （もっと読む）

【課題】本発明は磁気抵抗効果素子を研磨する処理を有する再生ヘッドの製造方法、及びこの方法により製造される再生ヘッド、及びこの再生ヘッドを搭載した磁気記録再生装置に関し、研磨加工精度に拘らず磁気抵抗効果素子の素子高さ方向の長さ（MRh）の精度を向上させることを課題とする。
【解決手段】ＭＲ素子１２と、膜面垂直方向に電流を流すようＭＲ素子１２を挟むよう配置された一対の端子１１，１６とを有し、記録媒体の磁気的信号を再生信号として検出する再生ヘッドであって、上部端子１６をＭＲ素子１２の素子高さ方向に複数に分割して分割端子１６Ａ〜１６Ｅを設ける。 （もっと読む）

【課題】機械研磨実施後のロウバー上においてスメアが発生している薄膜磁気ヘッドの特定を可能にすると共に、当該薄膜磁気ヘッドのみに対してスメアの除去を行うことを可能にすることにより、ＰＴＲが深くなってしまう問題の解決を図る。
【解決手段】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法は、薄膜磁気ヘッド、および該薄膜磁気ヘッドに隣接して設けられるＥＬＧ素子、が複数連続して構成されるロウバーの状態で、ＥＬＧ素子の磁気抵抗効果型素子部の抵抗を測定し、第１の抵抗値として取得する工程と、薄膜磁気ヘッドの磁気抵抗効果型素子部の抵抗を測定し、第２の抵抗値として取得する工程と、第１の抵抗値と第２の抵抗値との差分により、薄膜磁気ヘッドの浮上面におけるスメアの発生有無を判定する工程と、スメアの発生が有ると判定された薄膜磁気ヘッドのみに対して該スメアの除去を行う工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜磁気ヘッドの磁気的特性の検査方法において高い周波数の交番磁界を十分に模擬する。
【解決手段】（１）第１の磁界印加素子７１の磁極先端部が対応する薄膜磁気ヘッドの磁界センサ部と対向し、かつ第２の磁界印加素子７２の磁極先端部が対応するラッピングガイドＬと対向するように、磁界印加バーＢ’をローバーＢに対して対向配置し、（２）ラッピングガイドＬに通電しながら、第２の磁界印加素子７２からラッピングガイドＬに磁界を印加し、少なくとも１つのラッピングガイドＬの出力電圧が最大となるように磁界印加バーＢ’とローバーＢとを相対移動させ、（３）磁界センサ部に通電しながら、第１の磁界印加素子７１から薄膜磁気ヘッドの磁界センサ部に、磁界強度を変化させながら交番磁界を印加し、磁界強度と磁界センサ部の出力電圧との関係を得る。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗効果素子のような微小な電流を流すだけで簡単に損傷してしまう微細な素子の抵抗特性等を評価する際に、素子を損傷させることなく、的確に特性を評価することができる微細素子の評価方法を提供する。
【解決手段】導電性を有する微細素子１０に電流を印加して微細素子の特性を評価する方法において、前記微細素子１０をレジスト１４により被覆する工程と、前記レジスト１４が被覆された微細素子１０に電流を印加し微細素子の特性を評価する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】制御された蒸気の供給を可能とする。
【解決手段】液体又は固体の物質を保持する保持部４と、保持部を冷却する冷却手段５と、保持部の温度を検知する検知手段６と、検知手段により検出した温度に基づき、冷却手段を制御する制御手段７と、を有し、制御手段により、冷却手段を用いて保持部の温度を制御することで、液体又は固体の物質の気化又は昇華を制御して、物質の蒸気を供給する。蒸気供給装置の置かれた雰囲気での、液体又は固体から気化又は昇華した蒸気の圧力を測定する手段９又は１０を有し、制御手段は、測定された圧力に基づき蒸気の圧力が所定の値になるように保持部の温度を制御する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、磁気ヘッドスライダの加工方法に関し、より詳細には磁気ヘッドのスロートハイトが所定の寸法となるようスライダのＡＢＳ面を研磨する加工に関する。
【解決手段】 本発明の磁気ヘッドスライダ加工方法は、ＡＢＳ面に機械的研磨を施した後に、そのＡＢＳ面に化学的機械的研磨を行いながら磁気ヘッドに磁界を印加し、センス電流を与えて得られる磁界印加前後の磁気ヘッドの出力に基づいて該化学的機械的研磨を制御する、よう構成する。 （もっと読む）

【課題】磁気媒体の作成において、良質の磁気媒体を作製できるようにする。
【解決手段】基板８の外側周囲を回転する磁界発生手段７を備えたマグネトロンスパッタリングのためのチャンバー１内に、基板８と第１及び第２ターゲット２１，２１とを、前記基板８の中心軸と前記第１及び第２ターゲット２１，２１の中心軸とが交差するように配置し、前記チャンバー１内を排気し、前記チャンバー１内にガスを導入し、前記排気及びガス導入された雰囲気下で、前記基板８を回転させ、前記磁界発生手段７を前記基板８の外周の周りにおいて当該基板８の回転と一体に回転させながら、グネトロンスパッタリング法により前記基板８の上に磁性膜及び異種材料膜を成膜する。 （もっと読む）