【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正する第１アニール工程と、前記第１アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第１ラッピング工程と、前記第１ラッピング工程によって得られたガラス基板に再度熱を加えて形状を矯正する第２アニール工程と、前記第２アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削する第２ラッピング工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。また、前記第２アニール工程において加えられる熱の温度は、ガラス転移温度（Ｔｇ）より２０〜５０℃低いことが好適である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を洗浄する工程においてガラス基板の表面がより良好に洗浄される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。
【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、保持用治具７を用いてガラス基板１を洗浄液中に保持する工程と、洗浄液に超音波を印加し、ガラス基板１の表面に沿うように洗浄液中を伝播する超音波によってガラス基板１の表面を洗浄する工程と、を備え、ガラス基板１の表面に対して保持用治具７が超音波の伝播を遮る面積は、ガラス基板１の表面の面積に対して１％以下である。 （もっと読む）

【課題】強度が高く、かつ表面に傷やクラックが少ない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたものであって、該ガラス基板前駆体の表面を研削する精ラッピング工程と、ガラス基板前駆体の外周端面および内周端面を研磨する端面研磨工程と、ガラス基板前駆体の表面を研磨する主表面研磨工程とをこの順に含み、端面研磨工程と主表面研磨工程との間に、ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒を定盤に配置した両面研削装置を使用する場合に適した基板の製造方法を提供する。
【解決手段】定盤の面修正を行うための部材である修正部材５３の修正面と、定盤の研削面とを互いに押圧させて摺動させる修正工程を含み、修正工程は、修正部材５３の外周端部５３ａが固定砥粒（研削面）１１、２１の外周端部１１ａ、２１ａよりも外周側になるとともに、修正部材５３の内周端部５３ｂが固定砥粒（研削面）１１、２１の外周端部１１ａ、２１ａよりも内周側になるように、定盤の外周側に前記修正部材５３をオーバーハングさせ、かつ修正部材５３の外周端部５３ａが固定砥粒（研削面）１１、２１の内周端部１１ｂ、２１ｂよりも内周側になるとともに、修正部材５３の内周端部５３ｂが固定砥粒（研削面）１１、２１の内周端部１１ｂ、２１ｂよりも外周側になるように、定盤の内周側に修正部材５３をオーバーハングさせる。 （もっと読む）

【課題】優れた耐衝撃性及び平坦性を備え、かつ光学歪みのない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】溶融ガラスから略円環状を有するガラス基板を得る円盤加工工程と、前記円盤加工工程によって得られたガラス基板に熱を加えて形状を矯正するアニール工程と、前記アニール工程によって得られたガラス基板の表面を研削するラッピング工程と、前記ラッピング工程によって得られたガラス基板の表面を研磨する研磨工程と、前記研磨工程によって得られたガラス基板の残存応力を光学的に計測する応力計測工程と、を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記応力計測工程は、ガラス基板の複数箇所における複屈折量の測定を行うことが好適である。前記磁気情報記録媒体用ガラス基板に採用するガラス基板として、前記応力計測工程によって得られたガラス基板を選定する選定工程をさらに備えることが好適である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。
【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、線状の金属部材を含む保持用治具７を準備する工程と、保持用治具７を用いてガラス基板１を化学強化処理液中に浸漬し、ガラス基板１の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、保持用治具７の周囲は、ガラス基板１が化学強化処理液中に浸漬された状態で、ガラス基板１の周りに化学強化処理液の対流が生じるように開放されている。 （もっと読む）

【課題】アルミナ突き刺さり及び基板表面うねりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】下記（１）〜（４）の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。
（１）アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ａを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、
（２）平均一次粒子径（Ｄ５０）が４０〜１１０ｎｍであり、一次粒子径の標準偏差が４０〜６０ｎｍであるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｂを用いて前記工程（１）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、
（３）工程（２）で得られた基板を洗浄する工程、
（４）シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｃを用いて工程（３）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 フラボノイド化合物（Ａ）および水を必須成分として含有する電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】高い表面硬度を有し、高温で長時間熱処理しても非磁性を保つことができる磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金層と、このアルミニウム合金層の上に形成されたＮｉ−Ｐ−Ｗめっき層とを含む磁気記録媒体用基板である。前記Ｎｉ−Ｐ−Ｗめっき層が、７〜１５ｗｔ％のＰ、０．５〜５．０ｗｔ％のＷおよび残部Ｎｉからなり、前記磁気記録媒体用基板が、７００Ｈｖ以上の硬度を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面を酸化セリウム砥粒の使用をできるだけ抑えながら、かつ高い研磨速度で研磨し、面取り部等の端面にキズ等の加工変質層がない磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】内周端面の研磨と外周端面の研磨のうちの少なくとも一方を、平均粒径４μｍ〜２５μｍのアルミナ粒子、ジルコン粒子等の第１の砥粒を含有する第１の研磨液を用いて研磨する第１の端面研磨工程と、第１の砥粒より平均粒径が小さい第２の砥粒を含有する第２の研磨液を用いて研磨する第２の端面研磨工程との２段階の工程を順に行うことにより研磨する。 （もっと読む）

【課題】スクラッチ（傷）や異物付着等による表面欠陥を更に低減させることができ、基板表面品質がさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨砥粒としてコロイダルシリカを含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。ここで、上記研磨工程の前に、スルホン酸基を含むアクリル系ポリマーを含有する水溶液中に上記ガラス基板を浸漬させ、しかる後、上記研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】研磨後の板厚のばらつきを低減可能なガラス基板の製造方法及びその方法に用いられる反り方向検出装置を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、複数のキャリア１４のそれぞれの反り方向を特定する反り方向特定工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えてサンギヤ１３とリングギヤ１２間に複数のキャリア１４を配置するキャリア配置工程と、複数のキャリア１４の反り方向を揃えた状態で複数のガラス基板Ｇを研磨する研磨工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】アルミナ突き刺さりを低減できる磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】下記（１）〜（４）の工程を有する、磁気ディスク基板の製造方法。
（１）アルミナ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ａを用いて被研磨基板の研磨対象面を研磨する工程、
（２）平均一次粒子径（Ｄ５０）が５〜６０ｎｍであり、一次粒子径の標準偏差が４０ｎｍ未満であるシリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｂを用いて前記工程（１）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程、
（３）工程（２）で得られた基板を洗浄する工程、
（４）シリカ粒子及び水を含有する研磨液組成物Ｃを用いて工程（３）で得られた基板の研磨対象面を研磨する工程。 （もっと読む）

【課題】安定した品質を有し生産性の高い磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フロートバス内で溶融金属の上に溶融ガラスを浮かせて板状ガラスに成形する成形工程と、板状ガラスを冷却する冷却工程と、を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、フロートバスの出口からガラスの温度が歪点となる場所までの板状ガラスの温度降下速度を５０℃／ｍｉｎ以上とする。 （もっと読む）

【課題】
基板に付着したパーティクルは時間が経過するとともに除去しづらくなるが、基板の保管や運搬などで時間が経過した基板からこれらのパーティクルを除去するメディアイ工程でも、パーティクルを十分に除去することを目的とする。
【解決手段】
下記一般式（１）で表される脂肪族アルコールもしくはそのオキシアルキレン付加物の硫酸エステル塩、アルカリ、キレート剤および水を必須成分として含有することを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。
ＲＯ−（ＡＯ）ｎ−ＳＯ_３⁻・1/f Ｍ^f+ （１）
［式（１）中のＲが脂肪族炭化水素基；Ｍ^f+はアルカリ金属、アンモニウムまたはアミンのカチオン；ＡＯはオキシアルキレン基。ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を表し０〜２０の数である。］ （もっと読む）

【課題】板厚のばらつきが小さい板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で前記塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、前記プレス工程時における前記塊の全体における位置による粘度差を低減すべく、前記プレス工程前に、前記塊の温度を調整する温度調整工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な研磨レートを維持しつつ、スクラッチ（傷）等の表面欠陥を従来品より更に低減させることができ、基板表面品質への要求が現行よりもさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板を、表面に研磨パッドが配備された一対の定盤で挟み、ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨砥粒を含む研磨液を供給することでガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。ここで、摩擦係数が０．０２〜０．０５の範囲内となるように調整された研磨液と研磨パッドを用いて上記研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】熱によるスタンパの寸法変化を防止され、製造コストを削減可能なインプリント装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸パターンを有するスタンパ５６を、基板５２上に供給された紫外線硬化樹脂材料５４の上に配置し、該スタンパ５６の背面を流体を用いて加圧することにより該スタンパ５６を押圧し、紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化樹脂材料５４を硬化させ、前記基板５２の表面に前記凹凸パターンの反転凹凸パターンを形成するインプリント装置１０において、前記基板５２を保持する保持部材１４と、前記保持部材１４と対向する耐圧体１２と、前記紫外線の光源２０と、を有し、前記耐圧体１４はその底部に導光板１６を収容し、該導光板１６は前記保持部材１４と対向して配置されており、前記光源２０から発生した紫外線は、該導光板の側面１６ｂから入射して該導光板１６の前記保持部材１４側から出射し、前記紫外線硬化樹脂材料に照射されることを特徴とするインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】ポリッシュ工程において酸化セリウムを用いることなく、又はその使用量を低減しつつ、十分な耐衝撃強度が得られると共に、そのような磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】中心孔を有する円盤状のガラス基板の内外周端面に対して、少なくとも研削加工を施す工程を含み、研削加工を施す工程は、ダイヤモンド砥粒を金属からなる結合剤で固定したメタルボンドダイヤ砥石を用いて、ガラス基板の内外周端面を研削する１次研削加工と、ダイヤモンド砥粒を樹脂からなる結合剤で固定したレジンボンドダイヤ砥石を用いて、ガラス基板の内外周端面を研削する２次研削加工とを含む。 （もっと読む）

【課題】熱によるスタンパの寸法変化が防止され、製造コストが削減されたインプリント装置を提供すること。
【解決手段】表面に凹凸パターンを有するスタンパ５６を、基板５２上に供給された紫外線硬化樹脂材料５４の上に配置し、該スタンパ５６の背面を流体を用いて加圧することにより該スタンパ５６を押圧し、紫外線を照射することにより、前記紫外線硬化樹脂材料５４を硬化させ、前記基板５２の表面に凹凸パターンを形成するインプリント装置１０において、前記基板５２を保持する保持部材１４と、前記保持部材１４と対向する耐圧体１２と、を有し、前記耐圧体１２は、その底部に前記紫外線硬化樹脂材料５４に紫外線を照射するＬＥＤ１６を備え、且つ前記耐圧体１２の底部と前記保持部材１４とが対向するように配置されていることを特徴とするインプリント装置。 （もっと読む）