【課題】ガラス基板の主平面の研磨において、上側研磨パッドへのガラス基板の張り付きを防止するとともに、ガラス基板のリーチング痕を防止し、主平面の面内における均一な平滑性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の形状付与工程と、ガラス基板の主平面研磨工程と、洗浄工程とを有し、主平面研磨工程において、研磨パッドの研磨面の実効面積率（（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００）を、上側研磨パッドにおいて７５〜９８％とするとともに、下側研磨パッドにおいて９９％以上（より好ましくは１００％）とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】離型剤を用いることなく、離型力を大幅に低減させて、被成形物からモールドを容易に離型させる。
【解決手段】モールド３０に形成されたナノメートルオーダーの所望のパターンを被成形材料に転写することで被成形物を成形するナノインプリント装置１において、モールド３０と被成形物との間に気体を吹き付け、モールド３０と被成形物との間に入り込んだ気体によって、モールド３０と被成形物との間の圧力を上昇させる。具体的には、モールド３０と被成形物との間の圧力上昇が、少なくともモールド３０と被成形物とを含む空間の圧力に近付くよう、気体を吹き付け、モールドと被成形物との間に入り込ませる気体の量を制御することで実現する。 （もっと読む）

【課題】セリウム系研磨剤を用いてガラスを研磨する工程の後に、ガラスに付着した該セリウム系研磨剤を、熱濃硫酸を用いることなく、且つ洗浄に対する高度の要求を満たすように洗浄する工程を含むガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ランタンを含むセリウム系研磨剤でガラスを研磨する研磨工程とその後に洗浄液で該ガラスを洗浄する洗浄工程とを含むガラス製品の製造方法であって、該ランタンを含むセリウム系研磨剤がＬａＯＦ結晶を含まないセリウム系研磨剤であり、かつ該洗浄液がアスコルビン酸およびエリソルビン酸の少なくとも一方を含む洗浄液であるガラス製品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカや酸化セリウム等の研磨材に由来する微粒子汚れを良好に除去できるハードディスク基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：ホスホン酸系キレート剤と、（Ｂ）成分：アニオン界面活性剤と、（Ｃ）成分：ノニオン界面活性剤とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．０５〜１５、（Ａ）成分／［（Ａ）成分＋（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分］で表される質量比が０．３５〜０．９５であり、純水で２質量％に希釈した希釈液の２５℃におけるｐＨが５．０以下であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は研磨用キャリアを構成する繊維からガラス基板を保護することを課題とする。
【解決手段】研磨用キャリア２０Ａは、繊維質シート体３０と、シート体３０に含浸される樹脂製含浸体４０とを積層した複合材料により成型される。繊維質のシート体３０は、繊維３２と樹脂製含浸体４０とを積層してなり、繊維３２の繊維質シート体３０を複数枚積層したものである。研磨用キャリア２０Ａは、樹脂材料のみにより形成された保持穴緩衝領域５０と、繊維質シート体３０と樹脂製含浸体４０により形成された保持穴補強領域６０とを有する。保持穴緩衝領域５０は、ガラス基板保持穴２１の内周壁面２５に複数の凹部２６が配されており、繊維が存在しないため、弾性変形しやすい。また、凹部２６は、内周壁面２５から外側の所定距離の範囲Ｌａ内に形成されている。 （もっと読む）

【課題】研磨ブラシを用いることなく、内周面取り部と内周側面部とを均一かつ安定的に研磨する方法を提供すること。
【解決手段】中央部に内周端面をなす円形孔を有する複数の円盤形状ガラス基板を、前記円形孔の位置をあわせて重ね合わせ、ガラス基板積層体を形成するガラス基板積層体形成工程と、前記ガラス基板積層体の中央部に形成された前記内周端面の内側の領域に砥粒を含む研磨液を封入する研磨液封入工程と、前記ガラス基板積層体の内周端面に対して前記砥粒が接触するように、前記研磨液が封入された前記ガラス基板積層体を振とうする振とう工程と、を含む、ガラス基板の内周端面研磨方法。 （もっと読む）

【課題】基板主表面の粗さをよりいっそう低減し、なお且つ異物付着等による表面欠陥を従来品より低減することができ、基板表面品質への要求が現行よりもさらに厳しいものとなっている次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨砥粒としてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨した後、前記ガラス基板を凝集剤を含む液に接触させることによってコロイダルシリカ砥粒を凝集させて除去する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の内周端部または外周端部を適切に研磨することができるようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】研磨ブラシを用いて円環状のガラス基板の端部を鏡面研磨する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の主表面と垂直な側壁部と、主表面と側壁部の間に介在する面取り部とを均一に研磨すべく、前記研磨ブラシの毛材の先端形状は、実質的に凹状である基本形態が中心軸に沿って繰り返された形状となっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨パッドの硬度を調整することなく、１次研磨工程でガラス基板の端部形状を隆起状態に仕上げること。
【解決手段】ガラス基板の表面を粗研磨する１次研磨工程と、ガラス基板の表面を精密研磨する２次研磨工程とを含み、１次研磨工程では、ガラス基板を外周端部が中央部よりも隆起した状態に仕上げ、２次研磨工程では、ガラス基板の前記隆起状態をなくすように研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、１次研磨工程では、研磨中にガラス基板の外周端部を研磨パッド２４と一時的に非接触状態とすることにより、ガラス基板の前記隆起状態を形成する。 （もっと読む）

【課題】表面粗さが小さく平滑性の高いハードディスク用ガラス基板を安定して製造すること。
【解決手段】研磨砥粒を含む研磨液を用いてハードディスク用ガラス基板５０の表面を研磨する研磨工程を含むハードディスク用ガラス基板５０の製造方法において、研磨工程では、研磨液中の研磨砥粒の電荷と同じ符号の電荷を付与した研磨液貯留タンク１５，１７を用いる。研磨液のｐＨは１〜５である。研磨砥粒はコロイダルシリカであり、コロイダルシリカをマイナス帯電させた研磨液を用いる。研磨液貯留タンク１５，１７は樹脂製である。研磨工程は、研磨液を循環使用する循環使用工程と、この循環使用工程の後、研磨液を掛け流し使用する掛け流し使用工程とを含み、掛け流し使用工程において、電荷を付与した研磨液貯留タンク１７を用いる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨剤の化学的研磨作用に大きく依存せずに、ガラス表面に対する高い研磨レートを確保すること。
【解決手段】ガラス基板の主表面に対して遊離砥粒を含む研磨液を供給しつつ研磨パッドを摺接させて研磨する工程を備える。研磨パッドの表面には、ガラス基板の主表面と摺接する摺接部と、摺接部間に形成される溝とを設ける。そして、研磨パッドの表面の１平方メートル当たりに形成されている摺接部のエッジの長さの合計を２００ｍ以上とし、かつ、研磨パッドの表面の全領域に対する摺接部の領域の面積比率である充填率を８０％以上とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端部の加工について砥石を使用しない新たな加工方法を用いた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、円環状のガラス基板の外周端部を加工する外周加工工程を有するこの外周加工工程では、ガラス基板を中心軸周りに回転させつつ、ガラス基板の外側から前記外周端部に向けてブラスト材を噴射させることでガラス基板の外周端部の一部を除去するように加工する。 （もっと読む）

【課題】研削工程及び／又は研磨工程における加工レートを向上させると共に、基板表面に残存する加工ダメージ層を低負荷で効果的に除去することが可能となり、表面の研磨加工によるダメージ発生を抑制し、耐衝撃性に優れた、強度信頼性の高い磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板表面に引張応力層を形成させる引張応力層形成工程を含み、前記引張応力層形成工程は精密研磨工程の前に備えることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記引張応力層形成工程は、ガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンの交換を行うイオン交換処理法を含み、前記イオン交換処理法はガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンのイオン半径よりもイオン半径が小さいイオンを含有する処理液に前記ガラス基板を浸漬させ、ガラス基板表面に引張応力層を形成させることが好適である。 （もっと読む）

【課題】研削工程、及び研磨工程における加工レートを向上させることで処理時間を短縮を可能としながら、平滑性やうねりの発生を抑制し、磁気記録媒体用のガラス基板として必要な特性を確保することのできる磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラスに組成揺らぎを持たせることが可能であるガラス組成において、組成揺らぎを促進させる熱処理温度でガラス基板の熱処理を行う工程、及び前記熱処理により分離したＳｉＯ_２濃度の薄い相の少なくとも一部を除去することで表面の加工性を向上させる工程を含み、前記ガラス基板のガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、前記熱処理温度がＴｇ〜Ｔｇ＋１００（℃）の範囲であることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定して均一な品質の磁気ディスク用ガラス基板を製造することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板前駆体を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造するものであって、該製造方法は、深さ方向に２相以上に分離した複数の液相を備えた洗浄浴を用いる洗浄工程を含み、該洗浄工程は、洗浄浴の液相中最下相に隣接する液相にガラス基板前駆体を浸漬させる工程であり、最下相に含まれる薬液成分の濃度は、最下相に隣接する液相に含まれる薬液成分の濃度よりも高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の主平面を、酸化セリウム砥粒を使用することなくかつ高い研磨速度で研磨して、加工の際に生じたキズやクラック等を除去し、平滑な主平面を有する磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研削工程と、主平面研磨工程とを備える。そして、主平面研削工程は、平均粒径０．０１μｍ〜１５μｍのダイヤモンド砥粒を有する固定砥粒工具を用いて研削する固定砥粒研削工程を有し、主平面研磨工程は、シリカ粒子、ジルコニア粒子等の酸化セリウム粒子以外の平均粒径５ｎｍ〜３０００ｎｍの砥粒を含む研磨液と、研磨パッドを用いて研磨する第１の研磨工程と、その後平均粒径が５〜５０ｎｍのシリカ砥粒を含む研磨液と研磨パッドを用いて研磨する第２の研磨工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】外周部の厚みが均一な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板前駆体を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造するものであって、該製造方法は、深さ方向に２相以上に分離した複数の液相を備えた洗浄浴を用いて実行される洗浄工程を含み、該洗浄工程は、洗浄浴の液相中最上相を除くいずれかの液相にガラス基板前駆体を浸漬させた後、最上相を通過させてガラス基板前駆体を引き上げる工程であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を洗浄する工程においてガラス基板の表面がより良好に洗浄される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。
【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板１に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、保持用治具７を用いてガラス基板１を洗浄液中に保持する工程と、洗浄液に超音波を印加し、ガラス基板１の表面に沿うように洗浄液中を伝播する超音波によってガラス基板１の表面を洗浄する工程と、を備え、ガラス基板１の表面に対して保持用治具７が超音波の伝播を遮る面積は、ガラス基板１の表面の面積に対して１％以下である。 （もっと読む）

【課題】強度が高く、かつ表面に傷やクラックが少ない磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたものであって、該ガラス基板前駆体の表面を研削する精ラッピング工程と、ガラス基板前駆体の外周端面および内周端面を研磨する端面研磨工程と、ガラス基板前駆体の表面を研磨する主表面研磨工程とをこの順に含み、端面研磨工程と主表面研磨工程との間に、ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）