【課題】パターンにダメージが発生することを抑制または防止しつつ、パーティクルの除去率を向上させること。
【解決手段】噴射ノズル５から基板Ｗの上面に向けて複数の処理液の液滴を噴射させながら、基板Ｗに対して噴射ノズル５を移動させて、基板Ｗに対する液滴の衝突位置を移動させる。基板Ｗに付着しているパーティクルは、液滴の衝突によって除去される。基板Ｗの上面に向けて噴射された液滴の断面積と液滴の数との積である総液滴衝突面積は、基板Ｗの上面の面積の１４倍以上である。 （もっと読む）

【課題】被研磨体を安定的に研磨できる、研磨装置を提供すること。
【解決手段】吊り機構８０と、吊り機構８０に吊るされた上定盤４０と、上定盤４０に対向する下定盤３０と、上定盤４０及び吊り機構８０を軸継ぎ手５５を介して昇降させるピストンロッド５４及びシリンダ５２を有する昇降機構５０とを備え、上定盤４０と下定盤３０との間に配置された被研磨体を研磨する研磨装置であって、ピストンロッド５４に連動するフランジ部１２０と、吊り機構８０とフランジ部１２０との間に介在する制振機構１００とを備えることを特徴とする、研磨装置。 （もっと読む）

【課題】複数の研磨工程を経て所望の端部形状を有することとなる磁気ディスク用ガラス基板を提供。
【解決手段】先行研磨工程では、ガラス基板１の主表面の端部形状が、主表面の中央部と比べて隆起した形状となるように研磨パッド１０および酸化セリウム研磨砥粒４０を用いて遊星歯車運動による研磨を行う。把握工程では、先行研磨工程で得られるガラス基板の端部形状を予め把握する。決定工程では、先行研磨工程にて隆起した形状を相殺する方向に変化させることで端部形状を所望の形状とし、かつ、ガラス基板の表面粗さを、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２ｎｍ以下であり、最大山高さ（Ｒｐ）が２ｎｍ以下となるように後続研磨工程に用いる研磨パッドの硬度および研磨砥粒の粒径を決定する。後続研磨工程では、決定工程で決定された硬度の研磨パッド２０および決定された粒径の研磨砥粒としてコロイダルシリカ砥粒５０を用いて遊星歯車運動による研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】検査効率に優れたガラス基板検査システムを提供すること。
【解決手段】カセット３０からガラス基板２０を取り出す取り出し装置４０と、取り出し装置４０によりカセット３０から取り出されたガラス基板２０を検査する検査装置５０とを備え、カセット３０がガラス基板２０を収納可能な収納位置を複数有するガラス基板検査システム１０であって、収納位置毎に収納位置からガラス基板２０を取り出す動作を取り出し装置４０に行わせる実行部８１と、収納位置毎にガラス基板２０の有無を判定する有無判定部８２とを有し、実行部８１は、有無判定部８２によりガラス基板２０が無いと判定された収納位置に対する取り出し動作を取り出し装置４０に行わせない。 （もっと読む）

【課題】電子材料製造工程中の研磨工程において、従来の研磨液と比較して、研磨後の基板に付着するパーティクル数を低減する電子材料用研磨液および、この研磨液を使用して電子材料中間体を研磨する工程を含む電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機還元剤（Ｂ）および水を必須成分として含有することを特徴とする電子材料用研磨液、およびこの研磨液を使用して電子材料中間体を研磨する工程を含む電子材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】電子材料製造工程中の研磨工程において、従来の研磨液と比較して、研磨後の基板に付着するパーティクル数を低減する電子材料用研磨液および、この研磨液を使用して電子材料中間体を研磨する工程を含む電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭素数８〜３６の脂肪族アミンのアルキレンオキサイド付加物（Ｂ）および水を必須成分として含有する電子材料用研磨液、およびこの研磨液を使用して電子材料中間体を研磨する工程を含む電子材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】１平方インチ当たり４０ギガビット以上のような高記録密度での使用に供される磁気ディスクとして構成しても、サーマルアスぺリテイ障害を起こすことがなく、耐衝撃性にも優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。携帯電話、デジタルカメラ、携帯型「ＭＰ３プレイヤ」、ＰＤＡ等の携帯情報機器や、「カーナビゲーションシステム」など車載用機器にも搭載できるように、例えば、外径３０ｍｍ以下の小型磁気ディスクとして構成しても、安定した動作を実現できる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】端面部が鏡面加工されており、端面部の算術平均粗さ（Ｒａ）が１００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに供給される処理液をろ過するフィルタ１６を内部で保持するハウジング１７と、ハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６の温度を変化させるフィルタ洗浄機構２２とを含む。フィルタ洗浄機構２２は、ハウジング１７に保持されているフィルタ１６を加熱および／または冷却することにより、フィルタ１６の温度を変化させて、フィルタ１６に対する異物の結合力を低下させる。 （もっと読む）

【課題】主平面の研磨工程での研磨パッドの目詰まりを抑制して、ドレス処理の頻度を低減するとともに研磨速度を安定させ、主平面の平滑性に優れ、異なるロットのガラス基板間の板厚のばらつきが小さい磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研磨工程と、洗浄工程とを備え、前記主平面研磨工程は、前記ガラス基板の主平面を両面で５μｍ以上の研磨量で研磨する粗研磨工程を有する。そして、前記粗研磨工程では、気泡を含有し、研磨面に開口する前記気泡の平均直径が８０〜３００μｍであり、かつ１．１〜２．５％の圧縮率を有する研磨パッドと、砥粒を含有する研磨液を用いて主平面を研磨することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主平面研磨工程の前に発生するキズ等の欠陥を防止し、主平面の平滑性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で歩留まりよく得る。
【解決手段】中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板を形成するためのガラス素板であって、少なくとも一方の主平面に、樹脂を含有する保護膜を有する磁気記録媒体用ガラス素板である。磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス素板準備工程と、前記ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、前記ガラス基板の洗浄工程とを有し、前記磁気記録媒体用ガラス素板準備工程は、ガラス素板の少なくとも一方の主平面に樹脂を含有する保護膜を形成し、磁気記録媒体用ガラス素板とする保護膜形成工程を有する。 （もっと読む）

【課題】チッピングやクラックの発生を防止しつつ，経済的且つ衛生的に硬質脆性材料基板の側部を研磨できる研磨方法を提供する。
【解決手段】弾性母材２１に砥粒２２を分散又は付着させた弾性研磨材２０を基板１０’の側部に向かって圧縮空気と共に噴射する。噴射は，加工点Ｐで幅方向線Ｗと交叉し，接触線Ｔに対し２〜６０°の範囲から選択された所定の傾斜角θを成す噴射方向Ｄで，加工点Ｐを中心とした所定の加工領域Ｆに対して前記弾性研磨材の噴射を行うと共に，前記加工領域Ｆを前記被加工物１０の周方向に一定の速度で移動させ，移動した位置における各加工点Ｐ’において前記噴射方向Ｄを維持するよう，前記噴射ノズル３０と前記被加工物とを相対的に移動させる。基板１０’を重ねて処理する場合，基板１０’の幅方向に対しても一定速度で加工領域Ｆを移動させる。 （もっと読む）

【課題】表面状態が良好なガラス基板を簡易に生産性高く製造できるガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板の表面に研磨砥粒を含むｐＨ４．０以下の研磨液を供給し、研磨パッドにて前記ガラス基板の表面を鏡面に研磨する最終研磨工程と、前記最終研磨工程に続けて、ｐＨ４．０以下の酸性洗浄液を供給し前記研磨パッドにて前記ガラス基板の表面を擦り洗いする擦洗工程と、前記擦洗したガラス基板を最終洗浄する最終洗浄工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】メッキ表面の平滑性に優れ、磁気ディスクの高容量化および高密度化が可能な磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｍｇ：２．０〜６．０％、Ｃｕ：０．００５〜０．１５％、Ｚｎ：０．０５〜０．６％、Ｃｒ：０．０１〜０．３％、Ｓｉ：０．００１〜０．０３％、Ｆｅ：０．００１〜０．０３％を含有し、残部Ａｌと不可避的不純物からなり、最長径が１μｍを超えるＡｌ−Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系金属間化合物が０．２ｍｍ^２当たり１個以下である磁気ディスク用アルミニウム合金基板で、熱間圧延終了温度が２８０〜３６０℃、かつ熱間圧延終了時の板幅中央部と端部の表面温度の差が３０℃以内となるように熱間圧延を行う。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともＳｉＯ_２成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、研磨開始時における研磨液中の砥粒濃度が１５ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であり、研磨液中の砥粒の全重量に対する、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒の含有量が７０ｗｔ％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面が平滑で、且つ耐熱性に優れ、しかも表面硬度の高い磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板にベーマイト処理を施した後、加熱して酸化皮膜を形成する工程と、加熱後のアルミニウム基板表面に無機ポリシラザン含有溶液を塗布した後、加熱して表面硬度の高いＳｉＯ₂膜を形成する工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともＳｉＯ_２成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、前記研磨液中の砥粒濃度が２ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であり、前記研磨液中の砥粒の全重量に対する、前記Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒の含有量が７０ｗｔ％以上であり、前記研磨工程における加工圧力が１２０ｇ／ｃｍ^２〜１６０ｇ／ｃｍ^２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくともＳｉＯ_２成分を含む板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる研磨砥粒を少なくとも含有し、前記研磨液中の砥粒濃度が２ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であることを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性がさらに改善されたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板、及びＨＤＤ用磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】溶融したガラス素材を板状のブランクスに成型する成型工程と、ブランクスの表面を研削するラッピング工程とを含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、最終のガラス基板の厚みをｔとしたときに、ラッピング工程において、ｔ×０．１５以上の研削を行う。成型工程でブランクスの表面近傍に混入した異物や気泡あるいはキズ等の欠陥がラッピング工程で除去されるので、これらの欠陥が最終のガラス基板に残存する可能性が低くなり、ガラス基板が割れ難くなり、ガラス基板の耐衝撃性が向上する。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブへの搭載時の磁気記録媒体の変形が抑制され得るＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】中心部に円孔５０ａを有するＨＤＤ用ガラス基板５０は、円孔５０ａの半径をｒ、半径がｒ＋０．３０ｍｍである、円孔５０ａと同心の第１の円ｃ１と、半径がｒ＋４ｍｍである、円孔５０ａと同心の第２の円ｃ２との間にある、円孔５０ａと同心の円Ｃに沿って計測したガラス基板５０の厚みの最大値をｔｍａｘ、最小値をｔｍｉｎ、平均値をｔａｖｅとしたときに、ｔｍａｘ≦ｔａｖｅ＋０．０５μｍであり、かつ、ｔｍｉｎ≧ｔａｖｅ−０．０５μｍである。 （もっと読む）

【課題】面記録密度が高いＨＤＤ用磁気記録媒体であっても、外周端部のヘッドクラッシュを抑制し、記録領域の拡大に寄与する、ＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上のＨＤＤ用磁気記録媒体の製造に用いられるＨＤＤ用ガラス基板５０は、ガラス基板５０の主表面５１に定義された基準面からのガラス基板５０の外周端部の高さのズレ量をＡとしたときに、式（１）に従って算出されるＡの周方向のバラツキＸが３％以下であり、かつ、ガラス基板５０の外周端部の周方向のＴＩＲが０．４μｍ以下である。バラツキＸ（％）＝｛（ＭＡＸ−ＭＩＮ）／（ＭＡＸ＋ＭＩＮ）｝×１００…式（１）（式（１）中、ＭＡＸはＡの周方向の最大値、ＭＩＮはＡの周方向の最小値を表す。） （もっと読む）