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Fターム[5D112BA09]の内容

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【課題】本発明は、ガラス基板上の硝酸イオンコンタミネーション量を一定以下のものにし、ハードディスク装置に装着した場合にヘッドが硝酸イオンコンタミネーションに衝突するおそれの少ない情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法、情報記録媒体、及びハードディスク装置の提供を目的とする。
【解決手段】板状ガラス素材を硝酸塩を用いて化学強化する化学強化工程を含む製造工程を経て得られる本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、製造工程の最終工程としての最終洗浄工程で、前記板状ガラス素材10の表面に存在する硝酸イオン(NO)コンタミネーション量を50ng/cm以下になるように洗浄する。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】粗研磨行程を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法で、前記粗研磨行程は、ガラス素板の主面を、酸化セリウムを含有する研磨スラリーにて研磨した後に、前記研磨スラリーを研磨装置外に取り出す行程、前記取り出した研磨スラリー中の研磨剤のレーザ回折散乱法で測定された粒度分布の最大値が3.5μm以下であり、その粒度分布での累積50体積%径D50が0.5〜1.5μmとなるように分級する行程、前記分級した研磨剤を含む研磨スラリーにて、他の異なるガラス素板の主面及び端面を研磨する行程を備える製造方法。好ましくは、この分級した研磨剤が、酸化セリウムと、SiO,AlOを含むアルミノシリケートとを含有し、アルミノシリケートの含有量が、酸化セリウムの含有量に対して0.1〜30質量%である。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成におけるCeO濃度が0.02〜1質量%であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、CeOの含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して99〜99.9999質量%であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して10ppm以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】平坦性に優れたガラスブランクを製造すること。
【解決手段】溶融ガラス塊に対して、水平方向に対向配置され、プレス成形面52Aおよびプレス成形面62Aの温度が実質同一である一対のプレス成形型50、60を略同時に接触させた後にプレス成形して板状ガラス26を作製し、板状ガラス26を一対の成形型50,60によりプレスし続けた後に取り出す際に、板状ガラス26のプレス継続時間をガラスブランクの平坦度が10μm以下となるように制御する磁気記録媒体ガラス基板用ガラスブランクの製造方法、および、これを用いた磁気記録媒体ガラス基板製造方法、および、磁気記録媒体製造方法。 (もっと読む)


【課題】超臨界状態を実現するために必要な圧力よりも低い圧力環境下で、基板Wに設けられたパターンを倒壊させることなく基板Wを乾燥できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】乾燥処理ユニット30は、主に、乾燥処理チャンバ31、二酸化炭素供給機構32、第1窒素供給機構33、液体窒素供給機構34、第2窒素供給機構44、及び排出機構35を備える。置換液であるIPA液で覆われた基板Wが乾燥処理チャンバ31内に保持された状態で、液体二酸化炭素が基板Wの表面を覆う。乾燥処理チャンバ31内が、液体窒素供給機構34により冷却されることで液体二酸化炭素は固体二酸化炭素へと凝固する。そして排出機構35により、乾燥処理チャンバ31内を大気圧に戻すとともに、第1窒素供給機構33が気体窒素を供給することで昇温され、基板W表面の液体は昇華する。 (もっと読む)


【課題】従来の極細繊維からなる研磨布ではなし得なかった、極細繊維束が均一に分散した緻密化な表面状態と、優れた平滑性を有する高性能研磨布を提供する。
【解決手段】研磨布は、平均単繊維直径が0.05〜2.0μmの極細繊維が収束してなる極細繊維束が絡合してなる不織布と高分子弾性体から構成される研磨布であって、前記不織布の前記極細繊維束が構成する表面繊維立毛部分の前記極細繊維束の幅方向の平均サイズが50〜180μmである。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の研磨後の平坦性を向上させることが可能なガラス基板の研磨方法を提供する。また、上記研磨方法をガラス基板の洗浄方法に応用する。
【解決手段】ガラス基板の研磨方法は、ガラス基板4の主表面の延在方向に沿って、ガラス基板4よりも硬い粒子を含む流体と上記主表面とを高速で相対移動させることにより上記主表面を研磨するものである。ガラス基板の洗浄方法は、ガラス基板4の主表面の延在方向に沿って、ガラス基板4よりも軟らかい粒子を含む流体と上記主表面とを高速で相対移動させることによりガラス基板4を洗浄するものである。 (もっと読む)


【課題】凹凸形状が形成された基板を作製する。
【解決手段】高周波電源21から、基板16及び基板ホルダ12の少なくとも一方に対して高周波電圧を印加する。供給材料膜15から基板16へ供給材料を供給し、基板表面の下地材料上に供給材料による凸部を形成する。供給材料膜15は、基板16の表面へ供給材料を直接入射させることができない位置に配置されている。基板16の表面の下地材料の常温における表面エネルギーγsubと、供給材料の融点における表面エネルギーγspとは、γsub−γsp>0の関係にある。 (もっと読む)


【課題】第1面と第2面とを表面研削装置を用いて同時に研削する際に両面の削り量を略一致させることができる研削前板状ガラス素材及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の研削前板状ガラス素材の第1面の被研削加工部は、その表面粗さ(Ra)が0.1μm以上、2.0μm以下の範囲になるように構成され、第2面の被研削加工部は、その表面粗さ(Ra)が0.1μm以上、3.0μm以下の範囲で、且つ、前記第1面の表面粗さ(Ra)の1.2倍以上で3.0倍以下になるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】板状ガラス素材からガラスディスクを切り出して磁気ディスク用ガラス基板を製造する場合の加工品質を高め、しかも歩留りを高めることができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数枚の磁気ディスク用ガラス基板を切り出せるだけの大きさを有するガラスシート材を使用し、該ガラスシート材の一方側の主表面に対して、複数個の磁気ディスク用ガラス基板となされる領域の略周縁をなす曲線を描く切り筋を形成した後、ガラスシート材に温度変化を与えて該切り筋を進行させ、1枚のガラスシート材から複数枚のディスク状のガラス基板を切り出す磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】円盤状基板を梱包する梱包袋に穴あきが生じにくく、円盤状基板への異物の付着や円盤状基板表面の状態変化を抑制することができる円盤状基板の梱包体等を提供する。
【解決手段】複数のガラス基板10を収容する基板収容容器60と、ガラス基板10が収容された基板収容容器60を脱気した状態で密封する四隅を面取りした梱包袋70と、ガラス基板10が収容された基板収容容器60が密封された梱包袋70を複数個固定する固定手段と、を有することを特徴とするガラス基板10の梱包体90。 (もっと読む)


【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をAt(℃)とする時、原ガラスをAt(℃)から(At+120)℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】研磨液を供給するために研磨剤を流通させる樋を使用する場合でも、研磨液の流通に阻害が生じにくく、安定的に研磨を行なうことができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削する研削工程と、研削工程を経たガラス基板を研磨液を用いて研磨する研磨工程とを有する円盤状基板の製造方法であって、研磨工程に用いられる研磨機50は、研磨液槽101から樋104を介してガラス基板に対して研磨液を供給されるとともに樋104の内面が撥水性被材によって被覆されていることを特徴とする円盤状基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】一表面のみを情報の記録等に使用し、他表面を使用しない円盤状基板を製造する場合において、円盤状基板の生産能力をより向上させることができる円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】一表面に情報を記録するガラス基板10の製造方法であって、ガラス基板10の一表面、他表面、外周面、内周面を研削する研削工程と、ガラス基板10の内周面を研磨する内周研磨工程と、ガラス基板10の外周面を研磨する外周研磨工程と、一表面が研磨面となった2枚のガラス基板10を、ガラス基板10が合わせられた際の間隔を定める間隔規制部材を含む接着剤を用いて一表面とは反対側の他表面で接合する接合工程と、接合工程により接合された2枚のガラス基板10の各々の一表面を同時に研磨する研磨工程と、を有することを特徴とするガラス基板10の製造方法。 (もっと読む)


【課題】母材ガラス板を、加熱炉内で加熱して軟化させ、所望の厚さに延伸してガラス条を成形する場合に、平坦度の優れた薄肉棒状のガラス条を製造することができるガラス条の製造方法を提供する。
【解決手段】母材ガラス板を加熱炉内で加熱して軟化させ、所望の厚さに延伸してガラス条を成形する加熱延伸工程を含み、前記加熱延伸工程は、前記母材ガラス板の溶け始めの位置から、前記延伸の際に形成される前記母材ガラス板の輪郭線における変曲点の位置までの長さ、つまりメニスカス長22が、前記母材ガラス板の幅23の2/3以上となるように加熱する。 (もっと読む)


【課題】円形状基板を保持回転機構により保持して回転させ、テープ移送機構により研磨テープを間欠的又は連続的に移送させ、圧接機構によりテープ研磨機構の迂回研磨部と円孔の内周端面とを圧接し、研磨部揺動機構により迂回研磨部を円孔の内周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて研磨することにより円孔の内周端面をC面又はR面に研磨することができる。
【解決手段】研磨テープTを間欠的又は連続的に移送させるテープ移送機構Cと、迂回案内部Cにより側方に迂回案内された研磨テープの側方迂回部分Tを円孔Qの内周端面Mを研磨可能な迂回研磨部Kとするテープ研磨機構Dと、迂回研磨部を円孔の内周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて迂回研磨部により円孔の内周端面をC面又はR面に研磨するための研磨部揺動機構Fとを備えてなる。 (もっと読む)


【課題】DTメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にDTメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 (もっと読む)


【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】1次、2次及び3次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド20A,20B,20Cを用い、ダイヤモンドパッド20Aは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が4μm〜12μm、ダイヤモンド砥粒の含有量が5〜70体積%であり、ダイヤモンドパッド20Bは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が1μm〜5μm、ダイヤモンド砥粒の含有量が5〜80体積%であり、ダイヤモンドパッド20Cは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が0.2μm以上2μm未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が5〜80体積%であり、1次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面にNiPめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板を研磨する際に、前段の研磨工程で突き刺さったアルミナ砥粒を後段の研磨工程で効率良く除去可能な磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金基板の表面にNiPめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第1の研磨盤を用いてアルミナ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、磁気記録媒体用基板を洗浄した後に、第2の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と、を含み、粗研磨工程の最後に、アルミナ砥粒を含む研磨液の供給を停止し、代わりに砥粒を含まない洗浄液を供給して研磨盤からアルミナ砥粒を除去し、その後、第1の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら磁気記録媒体用基板の表面を研磨する中間研磨工程を設ける。 (もっと読む)


【課題】工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


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