【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が５５０℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６２〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を６〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を７〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのいずれか１成分以上を合計で８〜２１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量合計が７０％以上、上記７成分の含有量合計が９５％以上であり、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１成分以上を合計で１％未満含有する、もしくはこれら３成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】複数の板状ガラスが積層された積層体から複数の磁気ディスク用ガラス基板を作製するときに、ガラス基板の真円度を所要のレベルまで向上させる。
【解決手段】複数の板状ガラスが積層された積層体を準備する積層体準備工程と、大径の円筒状の外周研削砥石と小径の円筒状の内周研削砥石とが同軸に配置される一体型コアドリルを軸を中心に回転させると共に、外周研削砥石と板状ガラスとが接触してなる外周研削面及び内周研削砥石と板状ガラスとが接触してなる内周研削面に研削液を供給させつつ、積層体の積層方向に移動させることで、積層体を研削加工する研削工程と、を有し、研削液が外周研削面に引き込まれるべく、コアドリルの回転方向と、外周研削面に対する研削液の供給方向とを調整することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）を−３０μｍ〜＋２３μｍとしてガラス基板を研磨する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、レーザ干渉計を用いて測定する磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が２．８μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （もっと読む）

【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６２．５〜６９％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５．５％、Ｌｉ_２Ｏを８〜１６％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜７％、ＺｒＯ_２を０〜３．５％含有し、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３が５３．３％以上、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１７〜２４％、上記６成分の含有量の合計が９７％以上である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol％表示にて、SiO₂とAl₂O₃を合計で70〜85％（ただし、SiO₂の含有量が50％以上）、Al₂O₃の含有量が3％以上、Li₂O、Na₂OおよびK₂Oを合計で10％以上、CaOとMgOを合計で1〜6％（ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い）、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂を合計で０％を超えて4％以下含み、SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂の合計含有量に対するLi₂O、Na₂OおよびK₂Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。 （もっと読む）

【課題】本発明は研磨パッドの全面に研磨用液を安定供給することを課題とする。
【解決手段】研磨用液供給装置１００は、研磨用液を貯留する液貯留部１１０と、液貯留部１１０に研磨用液を補給する液補給部１２０と、両面研磨装置２００の上定盤２０１と下定盤２０２との間に研磨用液を供給する複数の液供給チューブ１３０とを有する。液貯留部１１０は、環状に形成された多重溝１４０と、多重溝１４０を支持する支持部材１６０とを有する。多重溝１４０は、内側溝部材１４２と、外側溝部材１４４とが同心円状に配されている。内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４は、複数の液供給チューブ１３０を通して上定盤２０１に保持された上側研磨パッド３３０に連通される。 （もっと読む）

【課題】研磨時の被鏡面研磨面のスクラッチ・パーティクル等の欠陥が少なく、かつ、被鏡面研磨面の表面粗さが小さくなる安定した研磨特性が得られる仕上げ用研磨パッドを提供する。
【解決手段】異なる２種以上の層からなる研磨シート（ａ）とクッション層（ｂ）からなる研磨パッドであって、前記研磨シート（ａ）の表層が湿式凝固法で得られるポリウレタンを主成分とする多孔質ポリウレタン層（ｃ）であり、その他の層のいずれかが圧縮弾性率が０．０８ＭＰa以上０．２５ＭＰａ以下の発泡プラスチック層（ｄ）からなる研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】平坦性および板厚偏差に優れたガラスブランクを提供すること。
【解決手段】一対のプレス成形型５０、６０がプレス成形型本体５２，６２とガイド部材５４，６４とを備えた一対のプレス成形型５０、６０を用いて落下する溶融ガラス塊をプレス成形するプレス成形工程が、水平方向に対向配置された一対のプレス成形型５０、６０のガイド部材５４，６４同士が接触するまで溶融ガラス塊をプレスする第一のステップと、ガイド部材５４，６４同士が接触した状態でプレス成形型本体５２，６２により板状ガラス２６をさらにプレスし続ける第二のステップとを含む磁気記録媒体ガラス基板用ガラスブランクの製造方法、および、これを用いた磁気記録媒体ガラス基板製造方法、および、磁気記録媒体製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次、２次及び３次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを用い、ダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４μｍ〜１２μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１μｍ〜５μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｃは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が０．２μｍ以上２μｍ未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、第１、第２及び第３のラップ加工には、研削液として有機アミン水溶液を用い、１次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用いる。 （もっと読む）

【課題】ポリッシュ工程において酸化セリウムを用いることなく、又はその使用量を低減しつつ、十分な耐衝撃強度が得られると共に、そのような磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】中心孔を有する円盤状のガラス基板の内外周端面に対して少なくとも、研削加工を施す工程と、エッチング加工を施す工程と、ポリッシュ加工を施す工程とを、この順で含む。 （もっと読む）

【課題】５００℃という高温に加熱されても平坦度の悪化や結晶粒の粗大化を抑制することのできる磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板は、Ｍｇを３．５質量％以上６質量％以下含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、５００℃で１０秒間加熱された前後における平坦度の変化量が５μｍ以下であり、かつ５００℃で１０秒間加熱された前後における平均結晶粒径の変化量が１０μｍ以下である。本発明に係る磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法は、前記した組成からなる磁気ディスク用アルミニウム合金基板について行う積み付け焼鈍を、２℃／分以下の昇温速度で３５０℃以上となるまで昇温し、３５０℃以上で２時間以上保持し、次いで、２℃／分以下の降温速度で冷却するという条件で行う。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次ラップ加工及び２次ラップ加工には、ダイヤモンド砥粒が結合剤で固定されたダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂを用い、このダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂのラップ面２０ａは、平坦な頂部を有するタイル状の凸部２１が複数並んで設けられた構造を有し、１次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４〜１２μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、２次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１〜５μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、第１及び第２のラップ加工には、研削液として有機アミン水溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明は収納容器の各収納部にガラス基板を一枚ずつ確実に挿入することを課題とする。
【解決手段】ガラス基板装填装置１０は、移動テーブル２０と、固定ベース３０と、ガラス基板挿入機構４０と、テーブル駆動用空気シリンダ５０と、収納容器送り機構６０とを有する。ガラス基板挿入機構４０は、ガラス基板保持部１７０を昇降駆動用空気シリンダ１８０により昇降させると共に、昇降動作に連動してガラス基板Ｗを保持または開放する。収納容器送り機構６０は、移動テーブル２０がテーブル駆動用空気シリンダ５０の駆動力により複数の収納部７２の整列方向に移動する際、収納容器７０を一つの収納部７２の間隔（１ピッチ分）ずつ移動させるように、固定ベース３０に対する移動テーブル２０の移動位置（距離）を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次、２次及び３次ラップ加工には、それぞれダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃを用い、ダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４μｍ〜１２μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１μｍ〜５μｍ、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、ダイヤモンドパッド２０Ｃは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が０．２μｍ以上２μｍ未満、ダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％であり、１次ポリッシュ加工には、研磨剤として酸化セリウムを用いずに酸化ケイ素を用い、ポリッシュ加工を施す工程の前に、エッチング処理を施す工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】研磨後の被研磨物の表面粗さ及びパーティクルを低減できる研磨液組成物の製造方法。
【解決手段】一次粒子の平均粒子径が１〜１００ｎｍのコロイダルシリカを含有する被処理シリカ分散液を、ろ過助剤を含むフィルターでろ過処理する工程を有する研磨液組成物の製造方法であって、前記ろ過助剤は水銀圧入法による平均細孔径が０．１〜３．５μｍである、研磨液組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の板厚の仕上がり寸法バラツキをバッチ間で抑えることができる、研磨装置の提供。
【解決手段】毎回同じ目標板厚値Ａに従ってガラス基板の研磨処理を行う研磨手段として上定盤４０を備える、研磨装置であって、上定盤４０によって今回の研磨処理で研磨されているガラス基板の研磨中板厚値Ｔｃを測定するために上定盤４０のモーター駆動軸６１に対する相対位置を計測する接触式変位センサ６５と、上定盤４０によって前回以前の研磨処理で研磨されたガラス基板の仕上がり板厚値Ｔと目標板厚値Ａとの仕上がり誤差に基づいて、接触式変位センサ６５の計測結果に基づいて得られた研磨中板厚値Ｔｃの板厚補正値Ｔｐを算出する制御部９０とを備え、上定盤４０は、板厚補正値Ｔｐが目標板厚値Ａに到達するまでガラス基板を研磨する、ことを特徴とする、研磨装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は複数の被研磨体を研磨装置のキャリアに効率良く装填することを課題とする。
【解決手段】被研磨体装填治具１０は、第１の治具２０の上面に第２の治具３０を回動可能に重ね合わせてなる。第１の治具２０は、第１の平面部２２と、第１の平面部２２の外周に結合された補強用リブ２４とを有する。第１の平面部２２は、被研磨体としてのガラス基板が通過するための複数の挿入孔４０を有し、第２の治具３０は、第２の平面部３２にガラス基板が収納される複数の待機孔５０を有する。第１の平面部２２及び第２の平面部３２は、中心を貫通する中心位置決め部６０が設けられている。第１の平面部２２及び第２の平面部３２の中心位置をキャリア１１０の中心に位置合わせした後、挿入孔４０の周方向の位置を研磨装置のキャリアの各保持孔の位置に合わせた後、各待機孔５０を各挿入孔４０に一致させるように第２の平面部３２を周方向に回動させる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の内端面を含む全ての領域を洗浄することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法およびその情報記録媒体用ガラス基板を備えた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】洗浄工程において、超音波を走査させながらガラス基板１の洗浄を行なっている。これにより、ガラス基板１の全面を同時に洗浄することが可能となる。特に、ガラス基板１の孔１Ｈの内端部にも超音波が入り込むことにより、内端部の清浄度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成が、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３とＢ_２Ｏ_３との合計、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとの合計、ＭｇＯとＣａＯとＢａＯとＳｒＯとＺｎＯとの合計がそれぞれ所定量であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、ＣｅＯ_２の含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して９９〜９９．９９９９質量％であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して１０ｐｐｍ以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】表面粗さＲａが低減され、落下衝撃に強く、さらにヘッドクラッシュを起こしにくい情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アルミノシリケートガラス素材を研磨して情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法であって、前記アルミノシリケートガラス素材を粗研磨する粗研磨工程、及び粗研磨工程後の前記ガラス素材を精密研磨する精密研磨工程を含み、前記粗研磨工程において、（Ａ）酸化セリウムと、（Ｂ）ケイ酸ジルコニウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化アルミニウム、炭化ケイ素及び二酸化ケイ素からなる群より選択される少なくとも１つと、（Ｃ）ウレタンとを含み、前記（Ａ）：（Ｂ）：（Ｃ）の割合が、１〜９質量％：５〜２４質量％：７５〜９０質量％である、研磨パッドを用いて粗研磨を行うことを特徴とする、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）