【課題】処理対象物の表面に凹凸が生じることを防止できる生産性のよいイオン注入法を提供する。
【解決手段】本発明は、Ｘ_ｍＹ_ｎ（式中、Ｘ及びＹのいずれか一方を水素原子とし、いずれか他方を質量数が１１〜４０の原子とし、水素原子の数を１〜６、他方の原子の数を１〜２とする）で表される分子の中から選択される少なくとも１種を含む処理ガスを用い、この処理ガスを減圧下で導入してプラズマを形成し、プラズマ中で電離したイオンを引き出し、引き出したイオンを加速して処理対象物Ｗ内に注入するイオン注入法であって、処理ガスの分圧、イオンの注入エネルギ及びイオンの注入ドーズ量の少なくとも１つを制御して、処理対象物Ｗ表面に堆積する活性種の堆積速度よりも、加速したイオンによる活性種のエッチング速度を遅くする。 （もっと読む）

【課題】一定の加速電圧で処理対象物の厚さ方向全長に亘って均一なイオン濃度分布を得ることができる生産性のよいイオン注入法を提供する。
【解決手段】本発明は、減圧下で所定の処理ガスを導入してプラズマを形成し、このプラズマ中のイオンを引き出し、引き出したイオンを加速して処理対象物Ｗ内に注入するイオン注入法であって、処理ガスとして、Ｘ_ｍＹ_ｎ（式中、Ｘ及びＹを互いに異なる元素であって、その質量数が１、５〜４０の原子とし、ｍ＝１〜４、ｎ＝１〜１０とする）で表される分子の中から選択されるものを用いる。 （もっと読む）

【課題】 パターンド媒体における磁性ドットごとの反転磁界のばらつきを低減することで、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体は、基板、基板上に形成された補助層、補助層上に形成された少なくとも一層の垂直磁気記録層を含む。垂直磁気記録層は、磁性ドットパターンを有する。垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち１つの元素と、プラチナ及びパラジウムのうち１つの元素とを含有する合金材料からなる。また、この合金材料はＬ１_０構造を有し、（００１）面配向している。補助層は、磁性ドットパターンで覆われたドット状の第１の領域と、磁性ドットパターンで覆われていない第２の領域を有する。第１の領域は、（１００）面配向したニッケル及び鉄のうち１つの金属からなる。第２の領域は、第１の領域に用いられた金属の酸化物を含有する。 （もっと読む）

【課題】 良好な記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体は、基板と、基板上に設けられ、磁性材料を含有する磁気記録層と、保護層とを含む。磁気記録層は、面内方向に規則的に配列されたパターンを有する記録部と、記録部の飽和磁化よりも低い飽和磁化を有する非記録部を含む。非記録部は、磁性材料と、飽和磁化の値を該記録部の飽和磁化の値よりも低下せしめる失活種と、保護層の成分とを含有する。 （もっと読む）

【課題】ビットパターンを高密度に集積した場合にも，熱安定性と記録性に優れ，ビットパターンのトラック周期よりも広い記録素子及び再生素子の磁気ヘッドを用いることができるようにする。
【解決手段】円錐台状の記録ビットの下層に垂直磁気異方性の大きい熱安定層を，上層に飽和磁束密度の大きい高出力層を備える。外周部は高出力層を除去して熱安定性を向上した熱安定性領域２２とし，中心部は再生領域２１とする。また，外周部と中心部の間に垂直磁気異方性と飽和磁束密度を小さくした反転制御領域２３を設ける。 （もっと読む）

【課題】 プロセスダメージや工程増加を招くことなく、表面凹凸を小さくできる磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】 基板上に強磁性記録部を所望のトラックパターン又はビットパターンに形成した磁気記録媒体の製造方法であって、基板４０上に強磁性体膜４４を形成した後、強磁性体膜４４をトラック間又はビット間で分離するための領域にＢ薄膜５１を形成する。次いで、Ｂ薄膜５１にイオンを照射することにより、強磁性体膜４４のＢ薄膜５１が形成された部分を、Ｂ含有量を１５at％以上にして非磁性化する。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大きくすることなく、基板への入射イオンビームの均一性を図ったイオンビーム発生装置を提供する。
【解決手段】放電槽２でプラズマを発生させ、引き出し電極７より環状のイオンビームを引き出し、偏向電極３０によって、該イオンビームを環状の中心方向に屈曲させて基板Ｗに対して、傾斜した方向から入射させる。 （もっと読む）

【課題】イオン注入型によるディスクリートトラック媒体の分離域形成加工において、入射するイオンが被処理磁気ディスク基板の端面のような鋭角部に集中、アーキングと呼ばれる異常放電が発生し、磁性膜の破壊が発生してしまう。
【解決手段】被処理磁気ディスク基板（被処理基板）２０と同電位になるグリッド３０を被処理基板が保持された電極板４４の上面に設けた電極構造に対して、高電圧パルス３２を印加することで、グリッド表面のみに高電圧のシース４１を形成し、グリッドに囲まれた被処理基板表面にはシースを形成しないことで、アーキングを抑制する。さらに、グリッドを通過して照射されるイオンに晒される電極板上に配置された被処理基板の面積に対して、被処理基板に覆われた部分を除く電極板の面積が等倍以上とすることで二次電子を積極的に利用して、無損傷なイオン注入処理を行う。 （もっと読む）

【課題】キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行う際に処理ムラが生じることを防止したインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリアは、基板を内側に配置する孔部２９が設けられたホルダ２７と、ホルダ２７の孔部２９の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の支持部材３０とを備え、複数の支持部材３０に基板の外周部を当接させながら、これら支持部材３０の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能であり、キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバ内において、ホルダ２７が接地されると共に、複数の支持部材３０の内側には、外径が１００ｍｍ以下である円盤状の基板が嵌め込まれ、なお且つ、この基板とホルダ２７の孔部２９との間に形成される隙間Ｓが、半径方向に少なくとも１１ｍｍ以上ある。 （もっと読む）

【課題】対向して配置されたイオンビーム発生装置を備える基板処理装置をクリーニングする方法およびその機能を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板が配置される面Ｓを挟むように第１および第２のイオンビーム発生装置１ａ，１ｂが対向して配置され、前記基板の両面を処理する基板処理装置１００のクリーニング方法は、前記第１のイオンビーム発生装置１ａと前記第２のイオンビーム発生装置１ｂとの間から基板を退避させる退避工程と、前記第１のイオンビーム発生装置から前記第２のイオンビーム発生装置にイオンビームを照射して、前記第２のイオンビーム発生装置をクリーニングするクリーニング工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】複数のアノードを含むイオンビーム蒸着用のイオン源に関する。イオン源は、原材料の複数のゾーンを蒸着し、複数のゾーンのうちの少なくとも２つのゾーンの厚みを異なるようにする。
【解決手段】イオンビーム蒸着で炭素を蒸着する場合、プロセス室の数は制限されるので、２つまたは３つ以上のイオン源を利用することは、スペースの理由で不可能なこと、または費用の理由で現実的でないことが多いが、イオン源として、複数の同心のアノードを含み、異なる電圧が複数のアノードに印加することで、少くとも2つのゾーンの厚みを異ならせることができる。 （もっと読む）

【課題】小さな注入エネルギーで簡単にビットパターンドメディアを製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】第１磁性層５１および第２磁性層５３で非磁性層５２を挟み込む積層体が形成される。第２磁性層５３の表面から非磁性層５２に向かってイオンが注入される。その結果、第２磁性層５３の表面からイオンの注入方向に延びる注入領域で非記録領域２７が形成される。同時に、非記録領域２７で相互に隔てられる記録領域２６が形成される。こうした製造方法では、イオンのターゲットすなわち非磁性層５２は第２磁性層５３の表面から近い距離に配置される。イオンの注入エネルギーは小さく抑えられる。第２磁性層５３の表面の損傷は抑制される。注入エネルギーの抑制に基づき例えばイオン注入機の消費電力は低く抑えられる。ビットパターンドメディアの製造コストは抑制される。ビットパターンドメディアは簡単に製造される。 （もっと読む）

【課題】スペーシングロスを小さくして良好な磁気記録再生特性を発揮することができる磁気記録媒体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に、柱状の磁性粒子間に非磁性の粒界部を有するグラニュラ構造の磁気記録層と、前記磁気記録層上に設けられ、前記磁性粒子同士を交換結合させる作用を付与するための交換結合層とを具備する磁気記録媒体を製造するものであって、前記磁気記録層上に交換結合層を積層した後、前記交換結合層の全面に対してイオン照射を行うイオン照射工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】強磁性領域及び反強磁性領域の境界が狭くかつ強磁性から反強磁性への変化あるいは反強磁性から強磁性への変化が急峻であり、高密度化及び磁気ビット間の磁気分離が可能であり、表面性の劣化を抑制することができるパターンド媒体を提供すること。
【解決手段】デジタル磁気記録において用いられる磁気記録媒体において、非磁性の基板上に堆積された磁気記録層が、面内方向について、互いに反強磁性領域で分離された複数の強磁性領域を含んでなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】記録書き込み時のエラー発生を低減し、高密度な記録書き込みが可能な磁気記録媒体（パターンド媒体）を提供する。
【解決手段】ディスク基板と、前記基板上にトラック方向に沿って配列された複数の記録セルとを有し、前記記録セルは、強磁性パターンと、前記強磁性パターンのトラック方向に面する２つの側壁のいずれか一方の側壁に形成された、前記強磁性パターンよりも結晶磁気異方性定数Ｋｕが小さい軟磁性パターンとを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】ほとんど保磁力あるいは飽和磁化が無い非磁性部を記録層に形成することができ、優れた磁気特性の記録媒体を容易に得ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上にＣｒＰｔ₃からなる記録層１３’を形成する工程と、記録層１３’の表面にマスクパターン層１５’を形成する工程と、マスクパターン層１５’から露出した記録層１３’の各部にイオンを照射する工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 記録ヘッド等の形状に応じてトラック幅などを最適に設計し得るパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 ＰＳとＰＥＯとを含むジブロックコポリマー組成層を基板上に形成する工程、前記ジブロックコポリマー層を相分離させて、第１の方向に長手を有するシリンダー状又はラメラ状のＰＳからなる易エッチング領域を形成する工程、前記相分離ジブロックコポリマー組成層の上にインプリント用レジスト層を形成する工程、前記インプリント用レジスト層にインプリントを施し、前記第１の方向に交差する第２の方向に長手を有する凸部と凹部を含む凹凸を形成する工程、前記インプリント用レジスト層から前記凹部を除去して前記凸部を残置し、前記凹部の下層の前記ジブロックコポリマー組成層から前記ＰＳを除去してＰＥＯを含む耐エッチングパターンを得る工程、及び前記凸部と前記耐エッチングパターンとをマスクとして前記基板をエッチングする工程を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐腐食性に優れた二重保護層を備えた磁気記録再生ヘッド、磁気ディスク、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録再生ヘッド１００または磁気ディスク２００の清浄化された表面に、遷移金属酸化窒化物（ＭｅＯ_xＮ_y）からなる密着性向上のための下地層１８０（２８０）と、ＤＬＣ層１９０（２９０）とからなる２層構造保護膜を形成する。Ｍｅは、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗからなる遷移金属群から選択される単一遷移金属、あるいは２種以上の遷移金属の合金である。ｘは０〜３の範囲、ｙは０〜２の範囲とすることが好ましい。下地層１８０（２８０）のｘおよびｙの値を適切に調整することにより、応力補償性、優れた耐摩耗性および耐腐食性、化学的・機械的安定性、および低い導電性が得られる。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐腐食性に優れた二重保護層を備えた磁気記録再生ヘッドまたは磁気ディスクおよびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録再生ヘッド１０または磁気ディスク２０の清浄化された表面に、シリコン酸化窒化物（ＳｉＯ_xＮ_y）からなる密着性向上のための下地層１８０（２８０）と、ＤＬＣ層１９０（２９０）とからなる２層構造保護膜を形成する。ｘは０．０２〜２．０の範囲、ｙは０．０１〜１．５の範囲とすることが好ましい。下地層１８０（２８０）のｘ，ｙの値を適切に調整することにより、基板とＤＬＣ層との間の強い化学的結合、優れた耐摩耗性および耐腐食性、化学的・機械的安定性、および低い導電性が得られる。 （もっと読む）

【課題】成膜においてステップカバレージを向上させる。
【解決手段】アーク放電によりターゲットの正イオンを含むプラズマビームを生成し、そのプラズマビームを基板上に照射して薄膜を成膜する成膜方法において、プラズマビームに向けて不活性ガスを導入し、この導入した不活性ガスによりプラズマビームを散乱させ、散乱させたプラズマビームを基板上に照射する。プラズマビームを散乱させることで、プラズマビーム中に含まれる正イオンの進行方向を、基板面に対して一方向（垂直方向）に限らず種々の方向として、基板面に対するイオンの入射角を分散させ、これによって、側壁への膜付着の確率を高め、ステップカバレージを向上させる。 （もっと読む）