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Fターム[5D112GA20]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の各種処理、又は洗浄と乾燥 (3,406) | 非接触の処理 (852) | スパッタエッチング、ドライエッチング (320)

Fターム[5D112GA20]に分類される特許

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【課題】凸部間のばらつきを抑制したモールド構造体用原盤の製造方法等の提供。
【解決手段】原盤用基板の表面にレジスト層を形成し、該レジスト層を露光及び現像して、該原盤用基板の表面に、前記原盤凹凸パターンを形成するための略同心円弧状の原盤レジストパターンを形成する原盤レジストパターン形成工程と、前記略同心円弧状の原盤レジストパターンのうち、内周側のレジストパターンが外周側のレジストパターンよりも多く削られる条件で、又は外周側のレジストパターンが内周側のレジストパターンよりも多く削られる条件で、前記原盤レジストパターンを選択的にエッチングする選択的エッチング工程と、前記選択的エッチング工程後の原盤レジストパターンをマスクとして、前記原盤用基板をエッチングし原盤凹凸パターンを形成する原盤凹凸パターン形成工程とを含むモールド構造体用原盤の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】レジストの直下に剥離しやすい層を新たに設けることで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することが可能となる。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の製造方法は、ディスク基体110上に、磁気記録層122を成膜し、磁気記録層の上に保護層126を成膜し、保護層の上に剥離層130を成膜し、剥離層の上にレジスト層132を成膜し、レジスト層を加工することで当該レジスト層の厚みを部分的に変化させ所定のパターンを形成し、レジスト層を介在させた状態で磁気記録層にイオンを注入し、剥離層を溶剤で除去することによりレジスト層を除去することを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】レジストの直下に剥離しやすい層を新たに設けることで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の製造方法は、ディスク基体110上に、磁気記録層122を成膜し、磁気記録層の上に保護層126を成膜し、保護層の上に剥離層130を成膜し、剥離層の上にレジスト層132を成膜し、レジスト層および剥離層を加工することで当該レジスト層および剥離層の厚さを部分的に変化させ所定のパターンを形成し、所定のパターンに基づいて剥離層、レジスト層ごと磁気記録層をイオンミリングすることにより凸部と凹部を形成し、剥離層を溶剤で除去することによりレジスト層を除去することを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】フリンジ特性の劣化を招くことなく、所望のトラック密度を達成できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に強磁性層、カーボンハードマスク層、および残渣均一化層を積層し、残渣均一化層にレジストを塗付し、インプリントによりレジストに凹凸パターンを転写してレジストパターンを形成し、レジストパターンの凹部に残存しているレジスト残渣を除去し、レジストパターンをマスクとして残渣均一化層をパターニングし、レジストパターンをマスクとしてカーボンハードマスク層をパターニングし、残渣均一化層のパターンをマスクとして強磁性層をエッチングして強磁性層の凹凸パターンを形成することを含み、強磁性層をエッチングする際に、残渣均一化層のエッチング時間が強磁性層のエッチング時間よりも短いことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】サーボパターンが垂直記録方式に必要とされる方向で安定して磁化し、製造工程が複雑化されない磁気記録媒体を提供することを課題とする。
【解決手段】ドット13およびサーボパターン15が同一の磁性材料をもとに形成されているものの、ドット13には、磁気ヘッドによるデータの消去や書き換えができるくらいの比較的低い保磁力をもたせ、サーボパターン15には、ドット13が有する保磁力に比べて強い保磁力をもたせている。サーボパターン15にもたせる保磁力は、形状磁気異方性の影響が及ばないくらい十分に強いものである。 (もっと読む)


【課題】 真空成膜装置に含まれる基体を保持するキャリアを工夫することで、磁気記録媒体の成膜工程において基体の温度をそれぞれの成膜工程に適した温度に近づけることが可能となるため、磁気記録媒体の品質の向上を図ることができる。
【解決手段】 本発明による磁気記録媒体としての垂直磁気記録媒体100の製造方法は、真空成膜装置としてのDCマグネトロンスパッタリング装置200を用いて、ディスク基体110上に少なくとも磁気記録層122を成膜する成膜工程を含む垂直磁気記録媒体の製造方法であって、成膜工程では、キャリア208に取り付けられたグリッパ216をディスク基体に接触させてディスク基体を保持し、グリッパは複数の金属からなる積層構造であって、グリッパの表層216aを構成する金属はグリッパの下層216bを構成する金属より熱伝導率が高いことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】ソフト層を有するディスクリート型垂直磁気記録媒体においてソフト層に生ずる磁区によるノイズを効果的に抑制をなし得る記録媒体を提供する。
【解決手段】記録媒体が第1上部層4、第1下部層2および両層を反強磁性的に結合する第1中間層3を有し、第1下部層は第1上部層より保磁力が低い第2上部層2−3および第2下部層2−1と両層を反強磁性的に結合する第2中間層2−2とを有する。情報が記録される第1のトラック領域と、前記第1のトラック領域に隣接する第2のトラック領域との間の領域において、前記第1の上部層4が除去されている。 (もっと読む)


【課題】媒体の製造を同一のインライン式装置を用いて行い、これによりハンドリングによる汚染を低減し、生産性を高めることが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】記録磁性層と前記記録磁性層をパターニングするためのマスク層とが少なくとも積層された非磁性基板をキャリアに装着する装着工程と、前記記録磁性層のうち、前記マスク層に覆われていない箇所に対し、反応性プラズマ処理またはイオン照射処理を行って磁気特性を改質することで、残存した磁性体からなる磁気記録パターンを形成する改質工程と、前記マスク層を除去する除去工程と、前記記録磁性層上に保護膜を形成する保護膜形成工程と、前記キャリアから前記非磁性基板を取り外す取外し工程とをこの順で有し、前記改質工程、前記除去工程または前記保護膜形成工程の何れか一つ以上の工程を複数のチャンバに分けて連続処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】高い生産効率で製造でき、凹状の分離領域により磁性層からなる凸部間を分離でき、磁気ヘッドの浮上特性の安定性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】円盤状の基板の少なくとも一方の表面に、円環状の磁気記録領域Aと、磁気記録領域Aの縁部に沿って配置されたランディング領域Bとが備えられ、磁気記録領域Aに、磁性層からなる凸部43aと凸部43aの周囲に形成された凹状の分離領域44aとからなるデータパターン45が設けられたデータ領域41と、凸部43b、43cと分離領域44bとからなり、データパターン45と平面視で異なる形状を有するサーボパターン46が設けられたサーボ情報領域42とが備えられ、ランディング領域Bの少なくとも一部に、データパターン45の凸部43aの形状と同一の形状の凸部43dを有する凹凸パターン47が設けられている磁気記録媒体40とする。 (もっと読む)


【課題】光源の消費電力を増大させることなく、情報の記録に要する時間を短縮した情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明に係る情報記録媒体1aは、基板11上に、連続して形成されている記録層12を有している。記録層12は、複数の凸部12aを有しており、隣接する凸部12aの間には、誘電体13を介して金属体14が設けられている。 (もっと読む)


【課題】表面の平滑性が高く、また、耐環境性の高い、ディスクリート磁気記録媒体やパターンド磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも、記録層、保護膜を有する磁気記録媒体の製造方法において、基板上に連続した記録層を形成する工程、パターニングしたレジスト層を形成する工程、このレジストパターンに基づいて記録層を部分的に除去する工程、記録層および記録層を除去した箇所に活性エネルギー線硬化性官能基を有する有機ケイ素化合物を塗布する工程、有機ケイ素化合物を活性エネルギー線により硬化させる工程、有機ケイ素化合物をエッチングして磁性層を表出させる工程、保護膜を形成する工程をこの順で行う。 (もっと読む)


【課題】被加工基材の端部から表面への微小粉末の回り込みが抑制されるレジストパターン形成方法等の提供。
【解決手段】レジストパターン形成方法は、被加工基材10の少なくとも端部11の微小粉末を除去するクリーニング工程と、端部の微小粉末が除去された被加工基材の表面に、インプリントレジスト層を形成するインプリントレジスト層形成工程と、複数の凸部と、該凸部の間に形成される凹部とからなる凹凸部を表面に有する凹凸型の該凹凸部を押し当て、該凹凸部のパターンが反転した、レジストパターンを前記被加工基材の表面に形成するレジストパターン形成工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】パターニングされた凹凸部を有する磁性層の表面をより高精度、簡便かつ低コストに平坦化することができ、平坦化により磁気ヘッドの走査性と読み書き(read/write)性を向上させることができるようになることで、更に高記録密度化を促進することができるパターン表面の平坦化方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】基板の表面に、該表面を基準として複数の凸部が配列されたことによって形成された凹凸部を有する磁性層上に、該凹凸部における凹部の深さ以上の厚さに非磁性材料を埋設して非磁性層を形成する非磁性層形成工程と、前記非磁性層表面に樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、前記樹脂層表面に平板を大気圧以上の圧力でプレスする平板プレス工程と、前記樹脂層及び前記非磁性層をエッチングして磁性層上に平坦な非磁性層を形成するエッチング工程とを含むパターン表面の平坦化方法である。 (もっと読む)


【課題】基板の外縁部の一定の幅のみを正確に安定してリンスすることができ、リンスすべき外縁部の幅が狭くてもリンスする外縁部の幅の制御を容易に行うことができるエッジリンス装置を提供する。
【解決手段】塗液の塗布された被処理基板2の両主面2aの外縁部に付着した塗液を除去するエッジリンス装置であって、被処理基板2の厚み方向が水平方向となるように被処理基板2を保持する保持機構3aと、被処理基板2を周回りに回転させる回転駆動機構と、リンス液の収容された容器41とを備え、容器41の上面からリンス液の液面が露出されており、回転している被処理基板2の外縁部がリンス液に浸漬される位置に、容器41が移動自在に配置されているエッジリンス装置とする。 (もっと読む)


【課題】情報記録媒体の製造コストを低減する。
【解決手段】情報記録媒体製造用の凹凸パターンを形成するための露光パターンPを描画可能に構成され、ビーム出力部は、その有効描画幅が各パターンPSO1,PSO2・・の幅および長さよりも狭い電子ビームEBを出力可能に構成され、制御部は、基準信号生成部によって基準信号S1が出力されたときに予め規定された時間t1w,t2w・・だけ待機した後にビーム出力部に電子ビームEBを出力させてパターンPSO1,PSO2・・における幅方向の一部(描画領域PSO11,PSO12・・)を描画する部分描画処理と、部分描画処理による描画位置を回転中心側に有効描画幅の範囲内で変更する描画位置変更処理とを交互に複数回実行して露光パターンPを描画すると共に、部分描画処理の都度、待機時間を変化させて上記の各描画位置をスキュー角θOに対応させて回転方向に沿って位置ずれさせる。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィ工程を用いないで、規則化されたブロックコポリマーの相分離構造を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にブロックコポリマー層を形成する工程と、加熱した前記ブロックコポリマー層の表面に凸部を有するモールドの前記凸部を押し当て、前記ブロックポリマーを構成する複数のセグメントを規則的に配列させて前記ブロックコポリマー層にパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法。前記ブロックコポリマー層をブロックコポリマーのガラス転移点以上の温度に加熱する。前記モールドの凸部を押し当てて形成されたブロックコポリマー層の凹部の間に、ブロックコポリマー層のパターンを形成される。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンの記録層を有し、表面が充分に平坦な磁気記録媒体を製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】被加工体40の上に第1マスク層(暫定被覆材)42と異なる充填材18を成膜して凹部16を充填し、記録要素14Aの上の第1マスク層42の側面の少なくとも一部が露出するように充填材18の余剰部分の少なくとも一部をドライエッチング法により除去し、加工用ガスとして充填材18及び第1マスク層42の両方と化学的に反応してこれらを除去する性質を有する反応性ガスを用い、且つ、第1マスク層42に対するエッチングレートが充填材18に対するエッチングレートよりも高く、更に充填材18に対するエッチングレートが記録層14(記録要素14Aの上の第1マスク層42の下面に接する下層)に対するエッチングレートよりも高いドライエッチング法により第1マスク層42を除去する。 (もっと読む)


【課題】基板の両面に位置するモールドの位置合わせが可能となり、両面同時の光インプリントを高精度に行うことができ、スループットが向上する光インプリント用モールド及び該光インプリント用モールドを用いた光インプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】樹脂組成物が塗布された基板の両面に凹凸パターンを形成するための一組の光インプリント用モールドであって、前記一組の光インプリント用モールドが、いずれもインプリントの際に前記基板の両面における該一組の光インプリント用モールドの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを少なくとも2つ有し、前記アライメントマークが、前記モールドと前記基板とが接触しない非接触領域に設けられている光インプリント用モールドである。 (もっと読む)


【課題】磁性層のエッチングに使用した磁性層上のエッチングレジストを、磁性層の磁気特性を劣化させること無く完全剥離する工程を含むパターン化磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層のエッチングに用いたエッチングレジストの剥離工程が、磁性層または保護層上のエッチングレジストに、減圧下にエキシマVUVレーザを照射する工程、および磁性層または保護層上に残存するレジストをレジスト剥離剤溶液に浸漬して洗浄除去する工程、からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】より好ましいデータの読み取りおよび書き込みを行うことが可能な磁気記録媒体、および、そのような磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題としている。
【解決手段】本発明により提供される磁気記録媒体Aの製造方法は、基板11上に磁性膜を形成する工程と、上記磁性膜を覆うように保護層14を形成する工程と、上記磁性膜の一部を露出させるように保護層14に貫通部を形成する工程と、上記磁性膜のうち貫通部から露出する部分を除去し、保護層14の残部が積層した状態で互いに離間する複数の記録部13aを形成する工程と、保護層14の残部を覆うとともに、複数の記録部13aの間を充填するように非磁性層を形成する工程と、保護層14の残部が露出するように非磁性層に化学機械研磨を施して非磁性部13bを形成する工程と、を含んでいる。 (もっと読む)


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