【課題】磁性体層を磁気的に劣化させることなくアッシングする技術を用いて磁気記録メディアを製造する技術を提供する。
【解決手段】主処理ガスのプラズマを磁性体層７の上に配置された非接触用層とパターニングされたフォトレジスト層に接触させて、非接触用層とフォトレジスト層をエッチング（アッシング）除去し、エッチング除去後に磁性体層７の上に保護層１８を配置する磁気記録メディアの製造方法であって、主処理ガスは水素を含有し、主処理ガスのプラズマをフォトレジスト層と非接触用層に接触させる前に酸素を含むガスから成る副処理ガスのプラズマをフォトレジスト層と非接触用層に接触させてフォトレジスト層の表面から一部を除去する磁気記録メディアの製造方法。 （もっと読む）

【課題】トラック間の磁気的な相互干渉を低減し、かつ記録密度を向上させるために、複合磁気記録層に設けた凹凸形状における凸部を、連続膜で設計した垂直磁気記録層と同等の膜厚で同等の垂直磁気記録特性を示すように高品質に形成されるディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基体１上に少なくとも磁気記録層５と犠牲層とカーボン保護層６とをこの順に積層する第１工程と、記録トラックとなる凸部を形成するように同心円状に形成したレジスト膜パターンをマスクとして開口部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層６を除去して凹部を形成する第２工程と、該凹部に露出する前記犠牲層と磁気記録層５とを非磁性化する第３工程と、前記凹部に挟まれる前記凸部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層６と前記犠牲層を除去する第４工程と、前記凹部と前記凸部の上にカーボン保護層６と潤滑層７をこの順に被着する第５工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、回転する研磨パッド１０１を非磁性基板１の表面に押し付けながら、この非磁性基板１の表面と研磨パッド１０１との間に研磨液Ｓを供給し、非磁性基板を回転又は揺動させることにより行い、研磨液Ｓは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その１次粒子径が１〜１０ｎｍの範囲、その２次粒子径が５０〜１００ｎｍの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を用いて磁気記録媒体を得る。
【解決手段】２−メチルー２ーアダマンチルアクリレート、２-エチルー２-アダマンチルアクリレート、及び１，３−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも１種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも１つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いた磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】プロセスダメージを除去して磁気特性の劣化を防止できる磁気記録媒体（パターンド媒体）の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁気記録層、エッチング保護層、および密着層を形成し、前記密着層上にレジストを塗付し、インプリントにより前記レジストに凹凸パターンを転写してレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして前記密着層をパターニングし、前記レジストパターンをマスクとしてエッチング保護層をパターニングし、前記密着層およびエッチング保護層のパターンをマスクとして磁気記録層をエッチングして磁気記録層の凹凸パターンを形成するとともに前記密着層のパターンを剥離し、前記エッチング保護層のパターンを剥離し、前記磁気記録層の凹凸パターンを非イオン化還元性ガスに曝すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁性層のパターン形状を精度よく形成できる、歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１に、磁性層２と、炭素により構成される炭素マスク層３と、Ｓｉ、ＳｉＯ_２、Ｔａのいずれかを主として構成される膜厚０．５ｎｍ〜２ｎｍの薄膜１０と、レジスト層４とを順次積層して、前記レジスト層４に前記磁気記録パターンを転写する工程と、前記レジスト層４をマスクにして前記炭素マスク層３を酸素を用いたイオンエッチングによりパターニングする工程と、前記レジスト層４と前記薄膜１０及び前記炭素マスク層３を除去する工程を有することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】従来の連続媒体から区別したパターニングされた媒体を識別するパターン転写ステップを統合した複数の基板の処理装置などの技術を提供すること。
【解決手段】ハードディスクドライブに用いるためのハードディスク上に磁気記録層をパターニングするためのインライン処理システム。ディスクは、ＭＤＣと呼ばれるラウンドプレート形状ホルダ（ｐｌａｔｅ−ｌｉｋｅ ｈｏｌｄｅｒ）の垂直方向に同時に両側に処理される。複数（１０個程）のディスクは、ＭＤＣのダイヤルキャリアでホールディングされ、１つの処理ステーションから他の処理ステーションに移動する。ＭＤＣのダイヤルキャリアは、１つまたは複数の処理源がディスクを同時に処理できるように各処理ステーションで、正常から７０°までの回転及び／または角度を提供する。このような構成は、時間節約及び要求される処理源の数と大きさの減少を提供する。磁気媒体のパターニングのためのマスク改善処理、及び充填と平坦化処理は共に用いられ、また開示される。 （もっと読む）

【課題】記録層の凹部や凸部の幅が比較的大きい領域と記録層の凹部や凸部の幅が比較的小さい領域とが混在する場合でも、表面の粗さの差を充分に抑制できることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】記録層３２を第１マスク層２２に基づいてエッチングして凹凸パターンに加工する工程と記録層３２及び第１マスク層２２の上に充填材３６を成膜して凹凸パターンの凹部を充填する工程との間に、第１マスク層２２に対するエッチングレートが記録層３２に対するエッチングレートよりも高いドライエッチング法により記録要素３２Ａ（記録層３２の凸部）の上に第１マスク層２２が残存するように記録要素３２Ａの上の第１マスク層２２の一部を除去する工程を設けた。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の表面に凹凸パターンを形成してパターンドメディア型磁気記録媒体を製造する際に、加工前の磁気記録媒体の初期磁気特性を低下させずに維持するパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０表面に、軟磁性層１１と、シード層１２と、中間層１３と、磁性層１４と、貴金属材料の第二保護層１７と、ダイヤモンドライクカーボンの第一保護層１５とをこの順に積層形成し、前記第一保護１５層表面に所要のレジスト１６パターンを形成後、該レジスト１６をマスクとして前記第一保護層１５を酸素系ドライエッチングで選択除去して前記第二保護膜１７を露出させ、前記第二保護層１７と磁性層１４とを不活性ガス系ドライエッチングで選択除去した後、前記レジスト１６を除去し、前記第一保護層１５を酸素系のドライエッチングで剥離し、前記第二保護層１７を不活性ガスを用いたドライエッチングで剥離する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】複数のチャンバと、複数のチャンバ内で非磁性基板を保持するキャリアと、キャリアを複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備えたインライン式成膜装置を用いて、非磁性基板８０の少なくとも一方の面上に形成された磁性層８３に、磁気的に分離された磁気記録パターン８３ａが形成されてなる磁気記録媒体を製造する際に、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行うと共に、保護層８４を形成する前に、磁性層８３の表面を水素プラズマに曝し、この磁性層８３の表面に形成された酸化膜を還元除去する。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行いつつ、記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の上に磁気記録パターンＭＰに対応した形状にパターニングされたレジスト層３を形成する工程と、レジスト層３を用いて磁性層２を部分的に除去する工程と、磁性層２が除去された面上を覆う非磁性層４を形成する工程と、磁性層２が表出するまで非磁性層４に研磨加工を施す工程と、磁性層２の表面を水素プラズマに曝す工程と、磁性層２の上に保護層５を形成する工程と、保護層５の上に潤滑膜６を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢを利用し、しかも内周から外周にわたり均一でしかも効率よく配列することが可能なＡＮＨを用いた磁気記録媒体の作製方法を提供する。
【解決手段】円板状の非磁性体基板上に少なくとも中間層を形成し、中間層の上にアルミニウム層を形成する工程と、収束イオンビームを照射してアルミニウム層表面に同心円状の複数の微小溝を設ける工程と、前記アルミニウム層を陽極酸化することによりアルミニウム層をアルミナ層に変換させると同時にアルミナ層に複数のナノホールを形成し、中間層を露出させる工程と、ナノホール内の露出した中間層の上に磁性体金属を選択的に堆積し、複数の磁性体記録要素を有する磁気記録層を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁性パターンの側壁へのダメージを防止し、プロセスダストや非磁性体の膜厚分布の発生を抑制できる磁気記録媒体。
【解決手段】基板上に形成された凸状をなす磁性パターンと、前記磁性パターン間の凹部に埋め込まれ、酸素原子濃度が基板側よりも表面側で高くなっている非磁性体とを有する磁気記録媒体。前記磁性パターン間の凹部に、酸素原子濃度が基板側よりも表面側で高くなっている非磁性体が複数層埋め込まれている磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】媒体表面荒れが抑制され、良好なヘッドの浮上性を確保することができるパターンド磁気記録媒体（ＤＴＲ媒体およびＢＰＭ）の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に、カーボンからなる第１のハードマスク、Ｓｉ、Ｃｕなどからなる第２のハードマスクおよびレジストを形成し、レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、パターン化されたレジストをマスクとして、第２のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第２のハードマスクをマスクとして、第１のハードマスクをエッチングして凹凸パターンを転写し、第１のハードマスクの凸部に残存している第２のハードマスクを除去し、酸素ガスとフッ素系ガスの混合ガスによってマスク表面の汚染層を除去し、磁気記録層をパターニングし、前記第１のハードマスクを除去することを含む磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】記録密度を大幅に増加させ、また磁気記録パターン部間領域の保磁力、残留磁化を極限まで低減できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の少なくとも一方の面上に磁性層２を形成する工程Ａと、磁性層２の面上を覆う炭素マスク層３を形成する工程Ｂと、炭素マスク層３の上にレジスト層４を形成する工程Ｃと、スタンプ５を用いてレジスト層４を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Ｄと、レジスト層４を用いて炭素マスク層３を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程Ｅと、磁性層２の炭素マスク層３で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部７を形成する工程Ｆと、レジスト層４及び炭素マスク層３を除去する工程Ｇと、磁性層２の表面を水素プラズマに曝す工程Ｈと、磁性層２の上に保護層９を形成する工程Ｉとを含む。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を簡便なプロセスで製造することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の上に磁性層２を形成する工程と、磁性層２の面上を覆うマスク層３を形成する工程と、マスク層３の上にレジスト層を形成する工程と、スタンプ５を用いてレジスト層をパターニングする工程と、レジスト層を用いてマスク層３をパターニングする工程と、磁性層２のマスク層３で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部６を形成する工程と、凹部６が形成された面上を覆う非磁性層７を形成する工程Ｇと、マスク層３が表出するまで非磁性層７の表面を平坦化する工程Ｈと、表出されたマスク層３を除去する工程Ｉと、非磁性層７の突起部分７ａを除去する工程Ｊと、突起部分７ａが除去された面上を覆う保護層８を形成する工程Ｋとを含む。 （もっと読む）

【課題】 機械的ダメージや腐食に対して耐久性のある磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ドーナツ形の基板と、前記基板上の磁性膜と、前記磁性膜上の保護膜とを具備し、前記基板の主面が、外周端と内周端との間の中央部にある記録領域と、外周端または内周端からそれぞれ１００μｍ以上２０００μｍ以内の範囲にある端部領域と、前記端部領域と前記記録領域との間にあり記録がなされない隣接領域とに区分されており、前記端部領域における磁性膜の膜厚が前記隣接領域のそれよりも薄く、前記保護膜は前記磁性膜の凹部に埋め込まれたＳｉＯ_２からなる下部保護膜とダイヤモンドライクカーボンからなる最表面の保護膜とを含み、前記端部領域における保護膜の少なくとも一部の膜厚は前記隣接領域のそれよりも厚くなっていることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】複数のワークピースの両面に、同時に、プラズマプロセスを行う必要がある。
【解決手段】プラズマ処理システムのプロセス空間の内側に、同時に複数のワークピースを支持する装置及び方法により解決する。装置は、プロセス空間の内部に支持されるべく構成されたキャリアプレートを有し、キャリアプレートの厚みを貫通する複数の第１の開口部を有する取付具である。キャリアプレートは、外側周辺縁部にて環状領域に載せてそれぞれのワークピースに接触すべく構成され、ワークピースの第１及び第２の面は、前記複数の第１の開口部のそれぞれ１つを通してプラズマに暴露される。 （もっと読む）

【課題】パターン形成を必要とする磁気記録媒体の製造に適用可能なレジスト除去方法を提供する。
【解決手段】パターン転写後に残存するレジスト残渣を除去するために酸素含有雰囲気中において、波長２４０ｎｍ以下の波長を有するエキシマＵＶランプを用いてパターン面を光照射する。 （もっと読む）

【課題】タクトタイムの短縮とともに、非磁性材の使用量（充填量）を低減でき、製造コストの抑制および低価格な磁気記録媒体を実現することができる磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体および情報記憶装置を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体２は、基板２０上に成膜された多層膜層３０と、多層膜層３０に積層された磁性記録層４０と、エッチングにより除去されるとともに、磁性記録層４０の一部として残存された磁性層の凹部４１に充填される非磁性材４２と、磁性記録層４０の一部として残存されている磁性層の底部４４を酸化により変質させることで形成される非磁性層４５とから形成する。 （もっと読む）