説明

Fターム[5D112GA20]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の各種処理、又は洗浄と乾燥 (3,406) | 非接触の処理 (852) | スパッタエッチング、ドライエッチング (320)

Fターム[5D112GA20]に分類される特許

21 - 40 / 320


【課題】アルミニウム膜を有する磁気記録媒体基板上にインプリント法を用いて陽極酸化アルミナナノホールを形成する場合において、細孔が高度に周期配列した陽極酸化アルミナナノホールを形成させるための磁気記録媒体用スタンパの製造方法、ならびにそれを用いる磁気記録媒体基板および磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板に電子ビーム描画方法により、等間隔のドット状または矩形状のパターンを描画し、異方性エッチングすることにより、アルミナノホールのサイズよりも十分小さい逆ピラミッド形状のピットを有する磁気記録媒体用スタンパを作製する。これを用いて陽極酸化アルミナナノホールを形成する。 (もっと読む)


【課題】パターンマスクの除去効率を損なうことなく処理時間の短縮を図ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、磁性層12を磁気分離するためのイオン注入工程に際して基板11をレジストパターン13の除去反応温度域にまで昇温させ、イオン注入後はその基板温度を利用してレジストパターン13のアッシング処理を実施する。これにより、レジストパターンの除去効率を損なうことなく、レジストパターン除去のための処理時間を短縮することができる。 (もっと読む)


【課題】保護膜の膜質を損なうことなく処理時間の短縮を図ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、磁性層12を磁気分離するためのイオン注入工程に際して使用されるレジストパターン13のアッシング工程において、基板11を保護膜14の成膜に適した温度にまで昇温させ、上記アッシング工程後はその基板温度を利用して保護膜14の成膜処理を実施する。これにより、保護膜14の膜質および成膜効率を損なうことなく、保護膜14の成膜のための処理時間を短縮することができる。 (もっと読む)


【課題】 原盤からのパターン再現性が良好なスタンパーを製造する。
【解決手段】 スタンパの製造工程において、導電層として、導電物質に対する緩衝剤の組成比が原盤側から厚さ方向に減少し、かつ凹凸パターンを有する導電層を、化学気相成長法を用いて形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、非磁性部を構成する樹脂の選択の幅を広げることが可能であり、かつ磁気記録媒体の表面を平滑な面にすることのできる磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】非磁性基板の表面に磁性層を形成し、次いで、磁性層のうち、非磁性部の形成領域に対応する部分をエッチングすることで、非磁性部が形成される溝と、磁性層よりなる磁気記録部とを形成し、次いで、磁気記録部の表面に、溝を埋め込むように活性エネルギー線硬化性官能基を有した樹脂を塗布し、次いで、板材の平滑な面が樹脂の表面と接触するように、板材を樹脂に押圧して、樹脂の表面を平滑な面にし、次いで、板材を樹脂から除去し、その後、平滑な表面を有した樹脂のうち、磁気記録部の表面よりも上方に位置する部分をエッチングにより除去することで、溝に非磁性部を形成する。 (もっと読む)


【課題】優れたパターン形状を有した磁気記録媒体(DTR媒体およびBPM)の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録層上に、金属材料を主成分とする第1のハードマスク、酸素ガスに耐性のある材料を主成分とする第2のハードマスク、カーボンを主成分とする第3のハードマスクおよびレジストを形成し、前記レジストに対してスタンパをインプリントして凹凸パターンを転写し、その下の層に順次パターンを転写した後、前記磁気記録層を構成する元素よりも、前記第1のハードマスクの金属材料に対して高い反応性を有する剥離液を用いて前記第1のハードマスクを剥離することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】サーボ情報を別途書き込む必要のない磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】データを記録するデータ領域と、上記データ領域に隣接し、磁気ヘッドの制御情報が記録されたサーボ情報とを備え、上記データ領域には、溝又は非磁性体により画成されたドットからなるパターンが形成されており、上記サーボ領域には、上記ドットからなるパターンは形成されておらず、平坦な領域に磁気情報が書き込まれている。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録密度が高く磁気信号の記録の信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、基板と、基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素14を構成する記録層16と、を有し、記録要素14の側壁部14Aの核形成磁界Hns、記録要素14の中央部14Bの核形成磁界Hnc、側壁部14Aの保磁力Hcs及び中央部14Bの保磁力Hccが次の式(I)及び式(II)
Hnc<Hns (I)
Hnc/Hcc<Hns/Hcs (II)
の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録密度が高く磁気信号の記録の信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、基板12と、基板12の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素14を構成する記録層16と、を有し、記録層16の材料はCo、Cr及びPtを含む磁性粒子と、Crを含み磁性粒子の間に存在する非磁性材料と、を含む材料であり、記録要素14を構成するCo、Cr及びPtの原子数の合計値に対する記録要素14を構成するCrの原子数の比率が記録要素14の側壁部14Aにおいて記録要素14の中央部14Bにおけるよりも低くなるように記録要素14中にCrが偏って分布している。 (もっと読む)


【課題】 磁性パターン間の磁気的干渉を分断してノイズを低減でき、しかも腐食の原因物質を含まない磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Coを含有する強磁性記録層からなる磁性パターンと、前記磁性パターン間を分断する非磁性層とを具備し、前記非磁性層は前記磁性パターンと同じ構成元素からなり、前記非磁性層のCo濃度は前記磁性パターンのCo濃度の60%以下であり、前記非磁性層のCo濃度は表面側よりも下地側で高い磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】装置全体を大きくすることなく、基板への入射イオンビームの均一性を図ったイオンビーム発生装置を提供する。
【解決手段】放電槽2でプラズマを発生させ、引き出し電極7より環状のイオンビームを引き出し、偏向電極30によって、該イオンビームを環状の中心方向に屈曲させて基板Wに対して、傾斜した方向から入射させる。 (もっと読む)


【課題】優れた電磁変換特性が得られる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1の少なくとも一方の面上に磁性層2を形成する工程と、磁性層の上に剥離層3を形成する工程と、剥離層3の上にマスク層4を形成する工程と、マスク層4の上にレジスト層5を形成する工程と、レジスト層5の表面を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程と、パターニングされたレジスト層5を用いてマスク層4及び剥離層3をパターニングする工程と、磁性層2のマスク層4及び剥離層3で覆われていない箇所を部分的に除去する工程と、マスク層4及び剥離層3を磁性層2の上から除去する工程とを含み、マスク層4及び剥離層3を除去する際に、実質的に酸素、窒素、ハロゲンを含まない還元性のガスを用いて剥離層3を還元除去することによって、この剥離層3と共にマスク層4を磁性層2の上から除去する。 (もっと読む)


【課題】記録部とガードバンド部の間にできた遷移領域の記録層劣化を改善し、表面平坦化のために充填した非磁性充填層が記録部の記録層上に残らないようにしたパタン型の垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体において、記録層の最上層に、パタン構造に追従した垂直磁化連続膜132を形成することにより、遷移領域22やガードバンド部23の記録層の特性を改善する。また、その製法において、垂直磁化連続膜132を非磁性充填層除去の際に一部除去することにより、非磁性充填層14が記録部21に残らないようにする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、イオン照射方式により製造した磁気記録媒体において、サーボ信号の出力を向上させることを課題とする。
【解決手段】基板の少なくとも一方の表面上に、磁気情報の記録再生を行うための磁気記録領域と、前記磁気記録領域を磁気的に分離するための非記録領域とが、基板の面内方向において規則的に配置された磁気記録層を有する磁気記録媒体であって、前記非記録領域は、透磁率が2H/m以上、100H/m以下であり、さらに前記非記録領域の表面は、前記磁気記録領域の表面に対して凹部を形成し、かつ、前記凹部の深さは0.5nm以上2.0nm以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】優れた電磁変換特性が得られる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1の少なくとも一方の面上に磁性層2を形成する工程と、磁性層2の面上を覆うマスク層3を形成する工程と、マスク層3の上にレジスト層4を形成する工程と、レジスト層4の表面を磁気記録パターンに対応した形状にパターニングする工程と、パターニングされたレジスト層4を用いてマスク層3をパターニングする工程と、パターニングされたマスク層3を用いて磁性層2を部分的に除去する工程と、マスク層3をレジスト層4と共に磁性層2上から除去する工程とを含み、マスク層3及びレジスト層4をドライエッチングにより除去する際に、実質的に酸素、窒素、ハロゲンを含まない還元性のガスを用いる。 (もっと読む)


【課題】加工工程におけるレジストの縮小による記録層のDuty比の低下を防止する。
【解決手段】 BPM(Bit Patterned Media)、DTM(Discrete Track Media)等のパターン記録媒体の製造工程において、記録層を含む被加工体に形成されたレジストパターン上にレジスト保護膜を堆積する堆積工程と、パターン底部に残る前記レジスト保護膜を除去することで、前記マスクに成形するレジスト保護膜加工工程と、前記レジストパターンと前記レジスト保護膜をマスクとして、ドライエッチングにより記録層をパターン形状に加工する記録層加工工程と、を経る。 (もっと読む)


【課題】 秩序立った核形成層を有する垂直型磁気記録ディスクおよび垂直型磁気記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と、基板上の下層と、下層の上に設けられ、粒状強磁性Co合金とSi、Ta、Ti、およびNbの1つ以上の1つ以上の酸化物との連続層を備える垂直型磁気記録層と、下層と記録層との間に設けられ、記録層のCo合金からなるアレイを備えた核形成層とを備える。 (もっと読む)


【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを適切に且つ高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層2の加工された面上を覆う非磁性層4の表面を磁性層2が表出するまで研磨する際に、磁性層2のうち最上層を構成する磁性粒子を、Crの含有量が5〜24原子%のCoCr系合金で形成し、非磁性層4を、Crの含有量が15〜80原子%のCoCr系合金で形成することによって、磁性層2の表面に対して非磁性層4の表面が盛り上がったり、逆に凹んだりすることを防止し、これらの表面を連続的に平坦化することができる。 (もっと読む)


【課題】製造工程中にある基板表面の劣化を防ぎ、加工形状のばらつきおよび放電が安定するまでのロス時間を抑制し、加工したパターン形状が安定し信頼性にすぐれたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基板10上に少なくとも金属下地層11、12、13、磁気記録層14、カーボン層15をこの順に積層した後、連続型の真空装置に搬入し、複数のプロセス処理用真空チャンバーでプロセス処理する際に、前記複数のプロセス処理用真空チャンバーを、それぞれ圧力調整用チャンバーを介して相互に連結させ、それぞれの圧力調整チャンバーに不活性ガスを導入するとともに、前記各圧力調整チャンバーの圧力を隣接する前記各プロセス処理用真空チャンバーの圧力に対して±25%以内の圧力とする。 (もっと読む)


【課題】機能性ポリマーにより表面を平坦化するシステム、方法および装置を提供する。
【解決手段】ハードディスクドライブ用の磁気媒体ディスクの表面は、均一な自己限界厚さの単分子層厚さの膜を形成する表面グラフトポリマー鎖で平坦化される。厚さは、選択されるポリマーの分子量によって制御される。ポリマー膜を、溶媒蒸気によって膨潤させることにより、トポグラフィにおける可変幅のギャップを充填することができる。ポリマーを、放射線または熱処理により適所に架橋することができる。 (もっと読む)


21 - 40 / 320