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Fターム[5E317CC22]の内容

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【課題】作業効率を向上させ、かつ、貫通穴の形成と導電性材料の供給との位置合わせを容易に行う。
【解決手段】先端のテーパー部に射出穴2aが形成された穴あけドリル2を、紙基材15に対して射出穴2aの一部が紙基材15の反対側にて表出するまで突き刺し、穴あけドリル2を紙基材15から引き抜く際に射出穴2aから導電ペースト4aを射出する。 (もっと読む)


【課題】効率的かつ低コストで高精度の導電性バンプを形成する方法を提供する。
【解決手段】基板1上に導電性バンプ2を形成する方法であって、(イ)基板上に、導電性ペーストを塗工し、この導電性ペーストを硬化させて導電性バンプを形成する工程、および(ロ)前記の導電性バンプが形成された基板に、前記導電性バンプの非形成面側から導電性バンプの位置に合わせて微小突起3を押圧して、形成した導電性バンプの位置に合わせて前記基板を変形させる工程、を含むことを特徴とする、導電性バンプの形成方法。 (もっと読む)


【課題】配線基板の製造方法において、配線回路間の短絡を防止することである。
【解決手段】配線基板10を製造する方法において、コネクタ端子部に置かれる絶縁基板16に、銀ペーストで複数のリード配線層31〜37を形成し、リード配線層を形成した絶縁基板16に導電性ペーストを被覆して導電層20を形成するとともに、コネクタ端子部の回路基板本体側に形成される導電層を凹凸状にして、各々リード配線層の間に凹部42を形成し、凹凸状に形成された導電層におけるコネクタ端子部の回路基板本体側に絶縁性ペーストを被覆して保護層22を形成するとともに、凹部42におけるコネクタ端子部の先端側を露出させて絶縁溝44を形成し、各々リード配線層の間に形成された導電層をレーザ加工により所定幅で除去して絶縁路46〜49を形成し、絶縁路を絶縁溝44に接続させて各々リード配線層を絶縁する。 (もっと読む)


【課題】ビアとビアランドとの接続信頼性を向上させるとともに、ビアホールの拡径部を簡単に形成できる配線基板の製造方法を得る。
【解決手段】コア基板1上に乱反射加工を施したビアランド2bを形成し、基材上に樹脂層10を形成した後、樹脂層にレーザーを照射することによりビアランドに至るビアホール11を形成する。このとき、ビアランド2bでレーザーをビアホールの内壁に向かって乱反射させることにより、ビアホール11の底部を拡径させる。拡径部11aを含むビアホール11内に導電性ペースト12を充填してビアランド2bと導通させる。ビアホール11の底部を拡径させることで、ビアランド2bとの接続信頼性を高める。 (もっと読む)


少なくとも1つの面上に官能化グラフェンシートおよび少なくとも1種のバインダを含む電気伝導性インクの層が適用されている基材を含む、印刷電子デバイス。印刷電子デバイスを形成する方法がさらに開示される。
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【課題】セラミック基板を用いた導電性部材であって、ファインピッチに対応し、かつ少量であっても効率的に製造しうるものを提供する。
【解決手段】本発明が提供する導電性部材は、絶縁性のセラミック基板の一方の主面とこれに対向する他方の主面との間に形成された貫通孔がその孔内に導電性を付与されてなる導電性貫通孔を備え、この導電性貫通孔によって双方の主面が電気的に接続され、前記セラミック基板はビッカース硬度が5GPa以下であり、導電性貫通孔が、直径10〜500μm、アスペクト比2〜40、かつ孔径精度±20μm以下であり、さらに、その位置精度が基準位置に対して±20μm以下である。導電性貫通孔をなす貫通孔の少なくとも一つが、硬化のための熱処理を行った後のセラミック基板に対して、機械加工またはレーザー加工を行うことで形成されたものであったり、セラミック基板の少なくとも一方の主面に、導電性貫通孔と電気的に接続された導体配線パターンを備えたりすることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】実装の自由度が高く、かつ、薄型化した両面配線板を提供すること。
【解決手段】基材2の一面に第一絶縁部1が配され、その厚さ方向に延びる微細孔5を備えた基体3、少なくとも微細孔5を塞ぐように第一絶縁部1に配された第一導体4、少なくとも微細孔5を塞ぐように基材2の他面に配された第二導体7、及び、微細孔5内を満たすように配され、第一導体4と第二導体7とを電気的に接続する導電性ペースト6、から少なくともなる両面配線基板であって、第二導体7は基材2の内部に配され、かつ、第二導体7と基体3の他面3bとは略一面をなしていること。 (もっと読む)


【課題】特に、マイグレーション防止が必要なコネクタ部におけるリード配線層相互間の狭ピッチ化対応に好適な配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板は、コネクタ端子部を有する絶縁基板1と、銀成分を有し前記コネクタ端子部の絶縁基板1表面に平行配列して形成された複数条のリード配線層2〜8と、前記各リード配線層の一部を露出させる開口部hを有して前記各リード配線層の表面に被覆されたマイグレーション防止用の絶縁物保護層10と、前記開口部hを通じて前記各リード配線層2〜8の表面に接続された電極端子層2a〜8aとを備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、特に多層プリント配線板のための1つのプリント配線板層を製造するための方法であって、上に配置された支持シートを有したセラミックシートを使用し、前記支持シートを、少なくとも1つの導体路を形成するためにレーザーにより穿孔し、かつ/又は、前記支持シートとセラミックシートとを、少なくとも1つのスルーコンタクトを形成するためにレーザーにより一緒に穿孔し、次いで、プリントにより導体路及び/又はスルーコンタクトを形成し、この際に支持シートがプリントステンシルを形成し、次いで支持シートをセラミックシートから除去することを特徴とする、1つのプリント配線板層を製造するための方法に関する。
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【課題】セラミック基体に形成され狭エリア化および細幅化した表面導体層や裏面導体層とビア導体との導通が確実に取れ、且つ該ビア導体の端面がセラミック基体の表・裏面に露出せず、しかも該ビア導体が他の導体層と不用意に短絡しない配線基板を提供する。
【解決手段】表面3を有するセラミック層Sと、かかるセラミック層Sの表面3に形成された表面導体層6a〜6cと、上記セラミック層Sを貫通し、両端面7,8の径d1,d2が異なるビア導体Vと、を備え、かかるビア導体Vの両端面7,8のうち、小径d1側の端面7は、上記表面導体層6a〜6cの端部6に覆われるように該表面導体層6a〜6cの端部6付近に接続されている、配線基板1。 (もっと読む)


【課題】印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷回路基板の製造方法は、(a)熱可塑性樹脂を主成分とする絶縁層の表面に回路パターンを突出するように形成する段階と、(b)前記回路パターンを加圧して前記絶縁層に埋め込む段階と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高い導電性を有して配線接続にも用い得る貫通導体を形成可能な導体ペーストおよびその貫通導体が形成された厚膜回路用基板を提供する。
【解決手段】 貫通導体10を形成するための導電ペーストは、焼成収縮率が35(%)以下と小さい銀粉末が用いられると共に、これに窒化珪素粉末が添加されていることから、高い導電性を確保しつつ焼成収縮が抑制される。そのため、酸化雰囲気中で焼成処理が施されることにより、サーマルビアとしても配線接続用としても用い得る貫通導体10が得られる。 (もっと読む)


【課題】基板用ワークの貫通孔の周辺に導体ペーストが広がったり、貫通孔に対する導体ペーストの充填不良が生じたりすることなく、貫通孔に導体ペーストを充填する。
【解決手段】基板用ワークの貫通孔充填方法は、第1の面11Aおよび第2の面11Bを有するワーク本体11と、第1の面11Aに位置する第1の開口部12Aと第2の面11Bに位置する第2の開口部12Bとを有しワーク本体11を貫通する貫通孔12とを備えた基板用ワーク10における貫通孔12に導体ペースト40を充填する方法である。この方法は、少なくとも第1の開口部12Aを覆う部分は通気性を有する通気性シート20を、第1の開口部12Aを覆うように第1の面11Aに貼り付ける工程と、通気性シート20および第1の開口部12Aを通して貫通孔12内の気体を吸引しながら、第2の開口部12Bより貫通孔12に導体ペースト40を充填する工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】容易に3次元的な広がりを持った面に対し微細パターンを形成することができるパターン形成方法、該方法を用いた配線基板及び電子機器を提供する。
【解決手段】屈曲した複数の面又は湾曲した面をまたいでパターン形成材料を含む機能液を塗布し3次元構造を備えたパターンを形成するパターン形成方法であって、屈曲した複数の面又は湾曲した面を含む面に液滴吐出法を用いて機能液20に対して撥液性を示す撥液材料を含む液状体を配置し、撥液部16を形成する工程と、撥液部16が形成されていない親液部に機能液20を配置する工程と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】回路形成基板において層間接続の高信頼化を図る。
【解決手段】層間接続手段を配設した基板材料1と前記基板材料1を保持するストッカ9の両方もしくは一方に前記基板材料1のすべり防止手段を設ける、もしくは基板材料1に導電性ペースト5もしくは導電性ペーストを主体とする層間接続手段を配設する工程もしくは前記工程前において、基板材料の片面に前記層間接続手段中の一部成分を吸収もしくは吸着するシート材料を接着もしくは仮接着し、金属箔あるいはコア用回路形成基板あるいは基板材料のうち一つ以上と積層する工程で、前記シート材料を剥離する製造法、構成としたものである。 (もっと読む)


【課題】ビア導体のセパレーションを低減させること。
【解決手段】セラミックスからなる基体11と、第1の導体層12aおよび第2の導体層12bを有している。基体11は、第1の面11aおよび第2の面11bを有しているとともに、スルーホール11hを有している。第1の導体層12aは、活性金属からなり、スルーホール11hの第1の面11a側の端部に形成されている。第2の導体層12bは、活性金属からなり、スルーホール11hの第2の面11b側の端部に形成されている。配線基板は、11族の金属材料からなり、スルーホール11h内における第1の導体層12aおよび第2の導体層12bの間に形成された第3の導体層12cをさらに有している。 (もっと読む)


【課題】ビア導体におけるセパレーションの発生を低減させること。
【解決手段】基板11、活性金属の酸化物層15および導体層12を有している。基板11は、セラミックスからなり、スルーホールを有している。酸化物層15は、スルーホール11hの内側壁面に形成されている。導体層12は、活性金属からなり、酸化物層15の内側に形成されている。配線基板は、ビア導体13および導体パターン14を有している。ビア導体13は、11族の金属材料からなり、導体層12の内側に形成されている。導体パターン14は、スルーホール11h上に形成されている。 (もっと読む)


【課題】特に多層配線基板における導電ビアと導電層との接触界面部分の熱サイクル耐性を向上し高い接続信頼性を得ることができる回路配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】回路配線基板は、絶縁基板2aと、前記絶縁基板を貫通して形成されたビアホールVH2と、前記ビアホールに導電性ペーストを充填して形成された導電ビア2dと、前記絶縁基板の両面にそれぞれ配置され前記導電ビアの両端面に各々接続された回路配線用の導電層1b、2bとを備え、前記両方の導電層の少なくとも一方は、前記ビアホールに対応する層間コンタクト部2bcに形成された凹部Cを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】信頼性が向上した高密度の薄板パッケージを製造することができ、製造工程上の生産性も向上させることができる、印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷回路基板の製造方法は、一面に金属層が積層された導電性キャリアの金属層に第1回路パターンを形成するステップS210と、第1回路パターンが第1絶縁層に向かうように導電性キャリアと第1絶縁層とを圧着するステップS240と、導電性キャリアを選択的に除去してビアを形成するステップS250と、金属層を除去するステップS260と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】縦横に複数の基板部分を表面および裏面に沿って形成されたブレーク溝により分割してなる多数個取りセラミック基板において、表面および裏面に形成した導体層同士を確実に導通できる各基板部分を得る。
【解決手段】単層のセラミック層Sからなり、ほぼ矩形を呈する複数の基板部分10を縦横に隣接して有する基板本体2と、隣接する基板部分間における基板本体2の表面3および裏面の平面視で同じ位置に形成されたブレーク溝vと、該ブレーク溝vが直角に交差する位置ごとに形成され、基板本体を貫通する複数の貫通孔hと、該貫通孔hごとの内壁面に形成された筒形導体層16と、基板本体2の表面3における基板部分10ごとの四辺に沿って形成され、各コーナ付近で筒形導体層16と接続する表面導体層12とを含み、隣接する基板部分10ごとの表面導体層12は、筒形導体層16のみを介して互いに導通している多数個取りセラミック基板1。 (もっと読む)


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