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Fターム[5E346HH33]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 目的、課題、効果 (10,213) | 製造・生産に関するもの (2,638) | 歩留・生産性の向上 (1,384)

Fターム[5E346HH33]に分類される特許

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【課題】実装された半導体装置に供給する電源のノイズを低減できる実装基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様である実装基板100は、板状部材1、電源回路21、ビア31及び32を有する。板状部材1は、表面にLSIケース51、LSI52及びピン53からなる半導体装置が実装される。電源回路21は、半導体装置が実装される領域の板状部材1内に埋め込まれ、電源電圧及び接地電圧を出力する。ビア31は、半導体装置と電源回路21との間の板状部材1内に形成され、電源回路21から出力される電源電圧を半導体装置に供給する。ビア32は、半導体装置と電源回路21との間の板状部材1内に形成され、電源回路21から出力される接地電圧を半導体装置に供給する。 (もっと読む)


【課題】多層ビルドアップ配線基板を容易に得ることを可能とする複合体を提供する。
【解決手段】本発明に係る複合体1は、シリコンウェーハ2と、シリコンウェーハ2の一方の表面2a上に積層された絶縁樹脂層3と、絶縁樹脂層3のシリコンウェーハ2側と反対の表面3a上に積層されており、金属により形成された金属層4と、金属層4の絶縁樹脂層3側とは反対の表面4a上に積層されており、金属層4の上記金属が酸化した酸化層5と、酸化層5の金属層4側とは反対の表面5a上に積層された銅層6とを備える。上記金属は、ニッケルであるか、又は銅よりも酸化還元電位が卑な金属である。 (もっと読む)


【課題】セラミックシートと内部電極とを同時に焼成し、外部電極を形成することによって、セラミックシートと外部電極との間の固着強度を向上すると共に、平坦工程を行うことができるセラミック基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のセラミックシート10を準備し、各々のセラミックシート10上に内部電極11及び各層の内部電極11を互いに接続するビア12を形成し、最外層のセラミックシート10上に開口13を形成し、該複数のセラミックシート10を一括して積層し、該一括して積層された積層体を焼成し、積層体の上下面を研磨して平坦化し、該焼成工程で形成された開口13に外部電極14を形成する。 (もっと読む)


【課題】信頼性に優れる多層配線基板の製造方法およびこの製造方法によって製造れた信頼性の高い多層配線基板を提供すること。
【解決手段】導体パターン前駆体層110が形成された複数の成形体200を積層してなる積層体400を得る第1工程と、該第1工程で得られた積層体400を焼成する第2工程とを有する多層配線基板の製造方法であって、第1工程は、各成形体200を、第1の基板100上に導体パターン前駆体層110を形成した後、第2の基板120を積層することにより得、得られた複数の成形体200を積層することにより積層体400を得る。また、第1の基板100および第2の基板120のうちの一方は、導体パターン前駆体層110よりも剛性が高く、他方は、導体パターン前駆体層110よりも剛性が低い。 (もっと読む)


【課題】ビア内に充填されたビア導体が脱落することを抑制でき、かつセラミックグリーンシートの変形を抑制することができるセラミック基板の製造方法および多層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミック基板の製造方法は、以下の工程を備えている。一面1aに開口するビア2を有するセラミックグリーンシート1の一面1aに感光性樹脂3を介在してキャリアフィルム4を貼り付けた状態で、ビア2を通じて感光性樹脂3に第1の光L1が照射される。第1の光L1が照射された感光性樹脂3に接するようにビア2内にビア導体が充填される。キャリアフィルム4を通じて、少なくとも感光性樹脂3のセラミックグリーンシート1と接着する部分に第2の光L2が照射される。第2の光L2が照射された感光性樹脂3とキャリアフィルム4とがセラミックグリーンシート1から剥離される。 (もっと読む)


【課題】リードのピッチが比較的小さい電子部品であっても、電子部品の位置決め精度を向上させることができるとともに、無鉛はんだによる部品実装時のはんだ上がり性を向上させて、実装強度を向上させることができるプリント基板を提供する。
【解決手段】プリント基板1における複数の部品取付用スルーホール2の列の両端の近傍には、一端あたり4つの受熱用スルーホール3が設けられている。複数の部品取付用スルーホール2は、一対の端側スルーホール2A,2Eと、中心側スルーホール2B〜2Dとを含んでいる。端側スルーホール2A,2Eは、複数の部品取付用スルーホール2のうち列の両端にそれぞれ配置されている。中心側スルーホール2B〜2Dは、複数の部品取付用スルーホール2のうち列の両端以外の箇所に配置されている。中心側スルーホール2B〜2Dの形状は、列方向に対する直交方向に沿う方向を長軸方向とする長孔状である。 (もっと読む)


【課題】ビア導体の接続信頼性を高めることができる多層配線基板を提供すること。
【解決手段】多層配線基板において、下層導体層41と上層導体層42とを隔てる樹脂層間絶縁層33にビア穴51が形成され、ビア穴51内に下層導体層41と上層導体層42とを接続するビア導体52が形成されている。樹脂層間絶縁層33の表面は粗面であり、ビア穴51は樹脂層間絶縁層33の粗面にて開口している。ビア穴51を包囲する開口縁は、開口縁の周辺領域よりも低くなった段差部53とされ、段差部53の表面粗さは、開口縁の周辺領域の表面粗さよりも大きくなっている。 (もっと読む)


【課題】歩留まりが高く、かつ信頼性に優れる多層配線基板の製造方法およびこの製造方法によって製造れた信頼性の高い多層配線基板を提供すること。
【解決手段】 導体パターン前駆体層110が形成された複数の成形体200を積層してなる積層体400を得る第1工程と、該第1工程で得られた積層体400を焼成する第2工程とを有する多層配線基板の製造方法であって、第1工程では、各成形体200を、第1の基板100上に導体パターン前駆体層110を形成した後、第1の基板100の導体パターン前駆体層110が形成された面上に第1の基板100よりも厚さの薄い第2の基板120を積層することにより得、得られた複数の成形体200を積層することにより積層体400を得る。 (もっと読む)


【課題】 絶縁基体と内部配線層との間のセパレーションを防止できるプローブカード用セラミック配線基板を提供する。
【解決手段】 ムライト質焼結体は前記内部配線層の周囲の少なくとも一部に存在する第1の領域と該第1の領域以外の第2の領域とを有し、X線回折にて測定したとき、前記第1の領域におけるムライトのメインピーク強度に対するアルミナのメインピーク強度比が0.4以上であるとともに、前記第2の領域におけるムライトのメインピーク強度に対するアルミナのメインピーク強度比が0.3以下である。 (もっと読む)


【課題】積層体を構成する各階層の位置がずれることのないホットプレス装置および多層プリント基板のプレス方法を提供する。
【解決手段】互いに向かい合う熱盤により積層された被処理部材を押圧して多層プリント基板を製造するホットプレス装置であって、複数枚の、突起部と突起部に嵌合させるための穴部とを複数備え、被処理部材の積層方向に移動可能な熱盤と、熱盤のそれぞれを、積層方向に加圧する加圧機構と、を備え、被処理部材は、熱盤の間に配置され、加圧機構によって、互いに嵌合された状態で加圧された熱盤により押圧される。 (もっと読む)


【課題】別のビアホールの加工が要らなく、回路設計の自由度を高めることができる電子部品内装型プリント基板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)一面に支持テープと支持基板が付着され、空洞115が厚さ方向に形成されたベース基板110を準備する段階、(B)活性面がベース基板110の一面と一致するように空洞115内に電子部品120を配置する段階、(C)ベース基板110の他面全体にRCC(Resin Coated Copper Foil)またはプリプレグ(prepreg)絶縁材130を積層して電子部品120を埋め込む段階、及び(D)電子部品120の活性面が露出されるように、支持テープと支持基板を除去し、ベース基板110の一面に電子部品の接続端子125と接続する接続パターン145を含む第1回路層140を形成する段階を含んでなる、電子部品内装型プリント基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 小型軽量のチップコンデンサを確実に実装できる多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】 チップコンデンサを搭載するためのパッド58up、58umは、レーザにより形成される開口151uにより露出される。即ち、形状性に優れるレーザにより開口を形成することでパッドの形状が略同一になる。従って、チップコンデンサのプラス端子に接続するパッド58upと、チップコンデンサのマイナス端子に接続するパッド58umとで、半田量及び半田濡れ性が略同等になる。このため、マンハッタン現象が生じ難い。 (もっと読む)


【課題】 デラミネーションがなく、かつセラミックグリーンシートが金型や周辺部材へ貼り付いてしまうのを抑制された電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、セラミック粉末と積層時の加熱により溶融する溶融成分とを含む接着用セラミックグリーンシート層4の上面に、平均粒径の大きい第1のセラミック粉末を主成分とする第1のセラミックグリーンシート層1と、第1のセラミック粉末よりも小さい平均粒径0.05〜1μmの第2のセラミック粉末を主成分とする第2のセラミックグリーンシート層2とを、第1のセラミックグリーンシート層1が最上層に位置するようにしてセラミックグリーンシートを作製する工程を有する電子部品の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 室温で低圧結合処理を用いて、製造するのに高価でもなく扱いにくくもない堅い可撓性のあるケーブル組立品を形成するためのシステム及び方法を提供すること。
【解決手段】 本開示の1又はそれ以上の態様においては、堅い可撓性のあるケーブル組立品を製造する方法が開示される。本方法は、導電性の表面を有するポリイミド膜の1又はそれ以上の層を配置して1つのスタックにすること、上記ポリイミド膜の1又はそれ以上の層に接着剤を付与し、上記スタックの上部部分及び底部部分に上部ポリイミド膜及び下部ポリイミド膜を配置して、堅い可撓性のある回路基板を形成すること、上記ポリイミド膜の1又はそれ以上の層が製造の間に互いに関して移動しないように、上記堅い可撓性のある組立品を形成する適切な圧力及び温度を選択すること、を含む。 (もっと読む)


【課題】コイルの磁気特性を改善し効率を向上することができるコイル内蔵基板を提供する。
【解決手段】積層方向から透視すると、第1のコイル要素32a〜32dが互いに重なり合う外コイル領域32の内周より内側において、第2のコイル要素34a〜34dが互いに重なり合う。空隙部40は、積層方向に透視すると第2のコイル要素34a〜34dが互いに重なり合う内コイル領域34の内周と外コイル領域32の外周との間に環状に延在し、コイル要素34b,34cの一部が露出するように形成される。第1及び第2のコイル要素32a〜32d,34a〜34dが有する一定の線幅をA、空隙部40の幅をBとすると、1.5≦B/A≦2.0である。空隙部40の個数は、第1のコイル要素32a〜32dと第2のコイル要素34a〜34dの合計個数の半分より少ない。 (もっと読む)


【課題】内層に電子部品を埋め込み樹脂で埋め込んだ部品内蔵型多層プリント配線板に於いて、内蔵した電子部品下の僅かなボイドの発生も抑制することができる部品内蔵型多層プリント配線板の提供。
【解決手段】外部に2つ以上の電極端子を有する電子部品を、埋め込み樹脂で内層に埋め込んだ部品内蔵型多層プリント配線板に於いて、当該電子部品の電極端子の下部にスペーサが配されている事を特徴とする部品内蔵型多層プリント配線板。 (もっと読む)


【課題】 熱可塑性樹脂からなる層間絶縁体層を有し、高周波信号の伝送特性に優れ、その多層化が容易になるフレキシブル配線板を提供する。
【解決手段】 フレキシブル配線板10では、熱硬化性樹脂からなるベースフィルム11の一主面に信号配線12とグランド配線13が配設されている。そして、信号配線12、グランド配線13およびベースフィルム11に接合一体化した熱可塑性樹脂からなるカバーレイフィルム14が形成されている。ここで、カバーレイフィルム14の一主面に外部端子15が所定の導体パターンに配置され、その表面にメッキ層(図示せず)が形成されている。また、ベースフィルム11の下方には、第1グランド層16と裏側樹脂フィルム17がこの順に接合し一体化している。 (もっと読む)


【課題】支持ベースフィルムに絶縁樹脂層が形成された絶縁樹脂フィルムを配線回路基板に積層・転写する積層装置において、品質的に安定して支持ベースフィルムを剥離する。
【解決手段】所定のサイズにカットした絶縁樹脂フィルム110を配線回路基板の所定の位置に仮付けし、支持ベースフィルム111の仮付け部112aの位置に対応した先端部に接着層113を形成する。基板を上下の搬送フィルム131で挟んだ状態で真空ラミネート、平面プレスする過程で、支持ベースフィルムと搬送フィルムとを接着層113を介して接着させる。最終的に、搬送フィルム巻き取りガイドロール53により搬送フィルム131と接着層113と支持ベースフィルム111とを配線回路基板より剥離して基板を排出することで、所定のサイズにカットされた支持ベースフィルム111を、搬送フィルム131とともに巻き取って回収する。 (もっと読む)


【課題】積層される配線層の最下層と最上層間の相対的な位置ずれを最小にすること。
【解決手段】配線層を積層する側の面の周囲部R2に開口部OP1,OP3,OP5が形成され、側端面につながる箇所に外部からの照射光を上記の開口部に指向させる光照射用部材20a,20c,20eが設けられた支持基板10を用意する。次に、この支持基板10の開口部が形成されている側の面に絶縁層34を形成後、該絶縁層上の、周囲部の内側の領域R1に配線層35を形成するとともに、開口部が形成されている位置に対応する領域に複数のアライメントマークM1,M3,M5を形成する。以降の工程において絶縁層にビアホールの形成等を行う際に、上記の光照射用部材を用いて上記の開口部を通過させた光により、上記の複数のアライメントマークのうち対応するアライメントマークを検出し、検出したマークを位置基準として位置合わせを行う。 (もっと読む)


【課題】半導体チップなどの電子部品が実装される配線基板の製造方法において、基板に貫通電極を信頼性よく形成すること。
【解決手段】厚み方向に貫通するスルーホールTHを備えた基板10を用意する工程と、基板10の下面に保護フィルム20を配置する工程と、スルーホールTH内に樹脂部30を充填する工程と、保護フィルム20を除去する工程と、基板10の下面にシード層40を形成する工程と、スルーホールTH内から樹脂部30を除去する工程と、シード層40をめっき給電経路に利用する電解めっきによりスルーホールTH内に金属めっき層を充填して貫通電極50を得る工程とを含む。 (もっと読む)


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