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Fターム[5E346HH33]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 目的、課題、効果 (10,213) | 製造・生産に関するもの (2,638) | 歩留・生産性の向上 (1,384)

Fターム[5E346HH33]に分類される特許

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【課題】導体層及び樹脂絶縁層が交互に積層されるとともに、第1の主面側とこの第1の主面と相対する第2の主面側の最表面にソルダーレジスト層が形成され、前記ソルダーレジスト層に形成された開口部から前記導体層が露出してなる配線基板において、導体層と半田バンプ等との密着性を改善した新規な配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板の最表面のソルダーレジスト層に形成された開口部から露出した導体層上に、Snを含む下地層を形成する。次いで、下地層のうち第1の主面側に位置する第1の下地層及び第1の主面と相対向する第2の主面側に位置する第2の下地層上に、それぞれ第1の半田及び第2の半田を供給する。次いで、第1の半田及び第2の半田を同時に加熱して、それぞれ第1の下地層及び第2の下地層と接続する。 (もっと読む)


【課題】最外層の樹脂絶縁層とICチップとの隙間をアンダーフィル材にて確実に封止することができる多層配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】多層配線基板を構成する最外層の樹脂絶縁層25は、内層側の樹脂絶縁層と同じ樹脂絶縁材料を主体として構成されるとともにシリカフィラー57を含んでいる。穴あけ工程において、最外層の樹脂絶縁層25に対してレーザ穴加工を施すことで、接続端子41を露出させる開口部43を形成する。デスミア工程において、開口部43内のスミアを除去する。フィラー減少工程において、高圧水洗処理を行い樹脂絶縁層25の表面にて露出しているシリカフィラー57を減少させる。 (もっと読む)


【課題】フレキシブルプリント配線板の製造工程における取り扱い性が良く、シワや折れ等の発生を防止して、歩留りを向上させることのできるフレキシブル銅張積層板用銅箔、この銅箔を用いたフレキシブル銅張積層板等を提供する。
【解決手段】フィルム状の絶縁性基材に積層されてフレキシブル銅張積層板を構成する、フレキシブル銅張積層板用銅箔であって、上記銅箔は、400〜450N/mm2 の抗張力を有するとともに、185〜205℃の温度で、20〜40分間熱処理することにより、上記抗張力が175N/mm2以下に低下するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】安価かつ信頼性の高いセラミック基板において、多層構造とする際に誘電体材料から鉛を排除した材料として環境対応を図る。
【解決手段】焼結したセラミック基体2と、セラミック基体の表面に形成された導電性金属の導体ペーストからなる第一の回路配線パターン3と、第一の回路配線パターンの表層に形成された誘電体からなる絶縁層8と、絶縁層の表層に第二の回路配線パターンと回路搭載部品を搭載するランドが形成された導体パターンと抵抗体4とが形成されており、回路搭載部品を搭載するランド部分以外を保護膜5でコートし、電子回路部品7を導電性接着剤で接続したセラミック基板において、誘電体は、アルミナ粉末とガラス粉末を溶剤で混練した低温焼成セラミック基板のグリーンシート11からなることを特徴とする多層セラミック基板とする。 (もっと読む)


【課題】部品内蔵時に発生する樹脂流動により導電性ビアの形状が大幅に歪む場合があり、電気的に安定したビア接続が得られず、更に前記導電性ビアと接続される銅箔は、はんだ実装される要件を満たさなければならないという課題があった。
【解決手段】第1の絶縁層102と、第2の絶縁層105とが積層されてなる多層基板部115と、この多層基板部115の最外層の第1の絶縁層102の内層側の配線パターン111に実装された回路部品112と、回路部品112を収容する収容部114とを有する部品内蔵基板101であって、回路部品112と、多層基板部115との間には、第2の硬化性樹脂106の硬化物を充填し、導電性ペースト110でビア109を形成してなる回路部品内蔵基板101とし、ビア109を、金属間化合物を主成分としてCu粒子同士の面接触部を跨ぐようにその周囲を覆う第1金属領域と、Biを主成分とする第2金属領域から構成する。 (もっと読む)


【課題】グリーンシート等の基板にキャビティパンチを行わずにキャビティを形成する超小型パッケージ基板の製造方法の提供。
【解決手段】(a)焼成済みLTCC基板またはLTCC基板用グリーンシートもしくはその積層体にキャビティ部に相当する厚みにレジストパターン膜を形成する工程、(b)前記レジスト膜上に、LTCC基板材料からなるペーストを塗布し、乾燥・硬化する工程、(c)研磨処理を行いレジストを表面に露出させる工程、(d)剥離剤でレジストを除去する工程、(e)焼成工程、(f)基板表面を研磨して、土手の平坦性及びキャビティの高さを調整する工程を含む超小型パッケージ基板の製造方法、超小型パッケージ基板、シリコンウエハ実装基板、その製造方法、MEMS素子、及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】部品内蔵基板の絶縁層に埋設されたチップ部品の外部電極を絶縁層上の電極層に接続するビア又はスルーホールのストレート性を高くする。
【解決手段】絶縁層2に埋設されたチップ部品3の外部電極4a、4bにつき、上面側の延長部分42の少なくともビア5の形成位置42aを、表面粗さの指標Rzにおいて、0<Rz<5μmを満たすように平坦化して表面の湾曲を解消し、それによって、絶縁層2に形成するビア5又はスルーホールのストレート性を高くする。 (もっと読む)


【課題】絶縁層の厚さのばらつきを抑制して信頼性の高い中間製品及びそれによる配線基板の製造方法を実現する。
【解決手段】本発明の配線基板の中間製品10は、コア基板とビルドアップ層とを備え、その平面構造は製品形成領域R1と、この製品形成領域R1を取り囲む製品外領域R2とに区分されている。中間製品10の所定の導体層においては、製品形成領域R1には複数の製品に対応する製品用導体層11が形成され、製品外領域R2にはダミー導体層が形成される。ダミー導体層は、製品用導体層11の面積率に対応する所定の面積率を有する導体パターンからなる第1領域21と、第1領域21の内周側に隣接配置され第1領域21よりも面積率が高い導体パターンからなる第2領域22とから構成される。 (もっと読む)


【課題】廃液処理が容易であり、かつスミアの除去効果が充分に得られるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂層(1a,2)と銅層(1b,3)とが積層された多層積層板にレーザー光を照射してビア(BV)を形成するプリント配線板の製造方法において、レーザー光を照射した後の前記多層積層板を非酸化性膨潤剤に浸漬する膨潤処理工程と、前記膨潤処理工程後の前記多層積層板にマイクロエッチング剤を接触させるマイクロエッチング処理工程と、前記マイクロエッチング処理工程後の前記多層積層板を液中に浸漬した状態で超音波を印加する超音波処理工程とを含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】半導体素子をワイヤを用いて電極パッドに圧着させる際に、接続強度を十分に確保できるフレキシブル多層配線板を提供する。
【解決手段】フレキシブル多層配線板30は、第1主面M及び第1主面Mに対向する第2主面Mを備える接着剤層1Aと、接着剤層1A上に配置された、第2主面Mと接する第3主面M及び第3主面Mに対向する第4主面Mを備える低弾性率素材で形成された絶縁性基材層2Aとを有する基材10Aを有する。フレキシブル多層配線板30は、基材10Aと同様の構成を備える基材10B,10Cと、最外郭基材10Dをさらに有する。最外郭基材10Dの接着剤層1D中には、接着剤層1Dよりも弾性率が高いビア層9A,9Bが埋設されている。 (もっと読む)


本発明のセラミックパッケージ台座は、クパッケージ基板(1)と、その上に印刷される回路配置層と、パッケージ固定層と、を含む。該回路配置層は少なくとも1つの金属スラリーエリア(3)を含み、金属スラリー(3)が設置されない空白エリア(2)には、さらに金属スラリーエリア(3)と対応する少なくとも1つの補償金属スラリーエリア(4)が設けられる。金属スラリーエリアと対称に分布する補償金属スラリーエリアを設けることによって、応力を減少させ、台座変形の状況を有効に改善することができる。
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【課題】接着層の絶縁性が劣化することを防止するとともに、接合の信頼性が低下することを防止することを課題とする。
【解決手段】積層回路基板1は、基板10Aおよび基板10Bの接続ランド12同士が導電材料13により接合され、複数の配線パターン11が電気的に結合された多層構造のプリント配線基板である。また、積層回路基板1は、基板10Aと基板10Bとの間に、ランド12同士を接合するための貫通孔31が形成されたプレート30を有する。プレート30は、導電材料13を形成する位置に対応する貫通孔31があり、貫通孔31の径の大きさが導電材料13の充填径よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】積層圧力で接着シートの材料が流動して導電性材料を押し流すことを防止しつつ、基板の製造を容易にすることを課題とする。
【解決手段】積層回路基板1は、基板10Aおよび基板10Bの接合ランド12同士が導電材料13により接合され、複数の配線パターン11が電気的に結合された多層構造のプリント配線基板である。また、積層回路基板1は、基板10Aと基板10Bとの間に、接着樹脂を溜め込むための調整用貫通孔31と導電材料13を供給するための貫通孔が形成されたプレート30とを有する。調整用貫通孔31は、接続される基板の配線面の残銅率から求められた体積分に等しい総体積をもつ樹脂溜まり用の孔である。 (もっと読む)


【課題】ビアホール内の樹脂残り及びビアホール内に露出する内層回路パターンの変形・貫通を起こさずに、可及的に少ないショット数でビアホールを形成する。
【解決手段】表面にコンフォーマルマスク7,8aが設けられた可撓性の絶縁ベース1と、この下に設けられた、加工用レーザの波長域において絶縁ベース材1よりも高い吸光度、及び絶縁ベース材1よりも低い分解温度を有する接着剤層12とを含む被加工層を除去することにより、ビアホール23,24を形成するレーザ加工方法であって、導電膜2Aの変形及び貫通を引き起こさず、かつ絶縁ベース材1を1ショットで除去可能な第1のエネルギー密度を有するパルス光を1ショット照射した後、第1のエネルギー密度より小さく、導電膜2Aの変形および貫通を引き起こさずに残りの被加工層を所定のショット数で除去可能な第2のエネルギー密度を有するパルス光を照射する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的信頼性を向上させる要求に応え配線基板の製造方法及びその実装構造体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】本発明の一形態にかかる配線基板の製造方法は、ポリイミド樹脂を含む第1樹脂層10aの一主面を金属層12で被覆する工程と、金属層12上に部分的に複数の導電層11を形成する工程と、アルカリ性の水溶液を用いて、導電層11の表面を粗化する工程と、導電層11の露出した表面を粗化する工程の後、第1樹脂層10aの一主面を露出させるために、平面視にて導電層11同士の間に配された前記金属層12の一部をエッチングする工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】配線形成エリアを画定する仮基板構成部材(内側金属箔)を精度良く内層に位置決め可能とし、最大限の配線形成エリアの確保に寄与すること。
【解決手段】仮基板の製造装置100は、テーブル42と、仮基板の製造過程で仮基板構成部材を位置決めする外形ガイド52と、積層された仮基板構成部材が動かないように保持する押えユニット46と、最終的に積層された仮基板構成部材を仮接着するためのヒータユニット48とを備えた治具と、この治具を構成する各部材に対し、それぞれの待機時の位置と使用時の位置との間を移動させる駆動機構とを具備する。外形ガイド52は、その使用時の位置に移動したときにその周縁が仮基板構成部材(少なくとも、外形サイズの小さい内側金属箔を含む)の外形サイズに応じたエリアを画定するように形成された段差部を有している。 (もっと読む)


【課題】電気検査用のプローブを半導体素子接続パッドに良好に接触させることが可能であるとともに、半導体素子の電極と半導体素子接続パッドとを良好に接続することが可能であり、かつ配線導体と保護用の樹脂層とが強固に密着し、両者間に剥がれが発生することが有効に防止された配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板1の上面に複数の半導体素子接続パッド6を含む配線導体3が埋入されているとともに絶縁基板1の上面および配線導体3上に半導体素子接続パッド6およびその周囲の絶縁基板1を露出させる樹脂層4が被着されて成る配線基板であって、配線導体3は樹脂層4の絶縁基板1側の面にセミアディティブ法により被着形成されたものであり、樹脂層4およびその下の絶縁層2の一部が半導体素子接続パッド6の上面より低い位置まで除去されて半導体素子接続パッド6およびその周囲の絶縁基板1が露出している。 (もっと読む)


【課題】配線基板内の断線、電子部品の電気特性の劣化を未然に回避することができる配線基板及び配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面電極を含む配線パターンを有するベース基板10と、表面電極上に形成された導電性ポスト14、14、・・・を樹脂で封止した封止樹脂層21とを備えている。導電性ポスト14、14、・・・をインクジェット法にて蛇腹形状に形成し、導電性ポスト14、14、・・・の幅の極大点近傍では、導電性ポスト14、14、・・・の幅は導電性ポスト14、14、・・・の長手方向に連続的に変動する。 (もっと読む)


【課題】 絶縁層間の空気残留に起因するデラミネーションを抑制できる多数個取り配線基板を提供する。
【解決手段】 絶縁層102が積層されてなり、配線基板領域107が縦横の並びに配列形成され、外周部に捨て代領域103が設けられた母基板101と、捨て代領域103において絶縁層102の層間に形成された枠状メタライズ層104と、枠状メタライズ層104と同じ層間において配線基板領域107内に形成された配線導体105および配線基板領域107の境界112を越えて配線導体105同士または配線導体105と枠状メタライズ層104とを接続するめっき用接続導体106とを備え、枠状メタライズ層104がめっき用接続導体106および配線導体105よりも薄い
多数個取り配線基板である。枠状メタライズ層104が比較的薄いため、積層時に絶縁層102間からの空気の排出が妨げられにくく、空気の残留に起因するデラミネーションを抑制できる。 (もっと読む)


【課題】能動素子及び受動素子が基板の内部に実装された埋め込み回路基板において、夫々の素子の連結状態をテストするための基板構造及びそのテスト方法を提供する。
【解決手段】回路基板及び前記回路基板の内部に実装された素子のテスト方法が開始される。本発明の一実施形態による回路基板は、回路基板の内部に実装されて、一つ以上の接続端子を含む能動素子、一端が前記能動素子の接続端子のうち一つと電気的に連結されて、他端が前記回路基板の表面の信号パッドと電気的に連結される受動素子、及び前記受動素子の前記一端と電気的に連結されるテストパッドを含む。本発明によれば、能動素子及び受動素子が基板の内部に実装された場合にも夫々の素子の連結状態を効果的にテストすることができて、回路基板の不良の有無を容易に判別することができる。 (もっと読む)


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