【課題】異物除去性能および搬送性能に優れ、特に、真空吸着方式で基板を保持する基板処理装置を用いた場合であっても異物を効率よく除去し得るクリーニング機能付搬送部材を提供すること。そのようなクリーニング機能付搬送部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材の少なくとも片面に凹部が設けられ、該凹部にクリーニング層が設けられている。本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、本発明のクリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む。 （もっと読む）

【課題】異物除去性能および搬送性能に優れ、特に、エッジ付近を含むテーブル全面にわたって異物を効率よく除去し得るクリーニング機能付搬送部材を提供すること。そのようなクリーニング機能付搬送部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材の少なくとも片面にクリーニング層が設けられ、該クリーニング層は、コーティング式の塗布手段と噴射式の塗布手段とを組み合わせて形成された塗布層である。本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、上記のクリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む。 （もっと読む）

【課題】 様々な形状の基板に応じて基板の下方を支持して収納することのできる基板収納キャリアを提供すること。
【解決手段】 支持部材５を配設する部位が係合溝３の溝形成方向において変更可能とした。 （もっと読む）

【課題】カセットからのフレームの搬出を円滑に行い、スループットを低下させないワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】カセット１７へ収納されたフレームＦを把持する把持部６と、把持部６が設けられた把持本体部と、把持本体部を移動させるアーム部３と、把持本体部をアーム部３に対し、水平方向へ揺動自在に接続する支持部４とを備えたワーク搬送装置１により、プリアライメントレール１８等に干渉するフレームＦを円滑に搬出することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】外乱の影響を良好に除去できる位置決めデバイス、及びそれを備えるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】位置決めデバイスの制御方法において、位置決めデバイスは、ステータおよび前記ステータに対して移動可能なムーバと、ステータに対するムーバの位置を示す位置信号を生成するための位置センサと、位置信号を受信するとともにこれを設定点信号と比較して誤差信号を取得し、位置信号の少なくとも１つの信号成分に基づいて少なくとも１つのムーバ制御信号を生成するコントローラとを有し、当該コントローラは可変ゲインＶＧＥを有している。位置センサとコントローラとを含む位置決めデバイスは、制御ループを定義する。予め定義された範囲内の大きさを有する誤差信号に対しては、当該範囲外の大きさを有する誤差信号に対する値よりも高い値にゲインが選択的に設定される。 （もっと読む）

【課題】脆弱な基板などを位置合わせする際に、基板に加わる押圧力を緩和し、基板の割れを抑制した位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】基台５上に載置された基板４の対向する側面を、第一押圧手段１と第二押圧手段２とで挟むようにして基板４を所定位置に合わせる位置合わせ装置において、前記押圧手段３の少なくとも一方は、前記基板４よりも弾性率が低い低弾性部材６を有して成ることを特徴とした。 （もっと読む）

【課題】基板を保持する個々の保持ローラの加工精度や位置精度を過度に高めることなく、基板を確実に定位置で保持して回転させることができる基板保持回転装置を提供する。
【解決手段】第１基板保持回転装置１は、基板Ｗの周端面に当接することにより、基板Ｗを挟持して保持するための４本の保持ローラ６，７を備える。２本の保持ローラ６は、ローラ保持部材５６によって回転自在、かつ、一体的に保持されている。残り２本の保持ローラ７は、それぞれ、アーム３４に回転自在に保持されており、コイルばね４１を介して第２または第３シリンダ１３，１４の駆動力が伝達されるようになっている。保持ローラ７は、保持ローラ６によって定位置に位置決めされた基板Ｗの周端面に一定の押し付け力で押し付けられて弾性的に当接する。また、保持ローラ７は、コイルばね４１が伸縮することにより、基板Ｗの周端面に追従することができる。 （もっと読む）

【課題】移載用の伸縮アーム先端に積み込んだ時点でカセットが適正に積み込まれているか否かを、簡易な機械的な装置で、かつ電源不要で検出可能とした無人搬送機における搬送物の適正載置位置検出装置を提供すること。
【解決手段】無人搬送機に搭載する移載機本体１０側に検出器３ａ、３ｂを、移載機１の伸縮アーム２１、２２、２３先端部に検出器３ａ、３ｂより発光する光線を検出器３ａ、３ｂに向かって反射するようにした反射器４ａ、４ｂを対として互いに対向して配設し、かつ伸縮アーム２１、２２、２３先端部の定位置に搭載されるカセットＫにて、反射器４ａ、４ｂ前面側に配設されるシャッタ機構５のシャッタプレート５２を開くようにする。 （もっと読む）

【課題】電極モジュールの数を増大させた場合にも交換が容易に行える静電保持装置及びそれを用いた真空環境装置並びにアライメント装置又は貼り合わせ装置を提供すること。
【解決手段】複数の電極群１１２ａ、１１２ｂを保持部として電極群１１２ａ、１１２ｂへ所定の高電圧を印加して保持対象物Ｗ１，Ｗ２を静電気力により保持する静電保持装置１００である。低電圧から静電保持に必要な所定の高電圧へ変換するための高圧発生回路又は高電圧発生源１１４を各電極モジュール１１０毎に配設している。また、この高圧発生回路又は高電圧発生源１１４は、密閉又は封止されている。この高圧発生回路は、電圧増幅回路を含んで構成されてもよい。また、この高圧発生源は、電池と昇圧回路とを含んで構成されてもよい。 （もっと読む）

【課題】汚染物質を含まず、層の損傷を引き起こすことがないリソグラフィ装置用静電クランプ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１層および第２層は誘電体であり、電極７、９ａ、９ｂは、アルミニウムまたはシリコンなどの従来の材料で形成される。１つまたは複数の容積１５、１７、第１または第２誘電体材料の材料で満たされ、汚染物質が第１部分７と第２部分９ａ、９ｂの間の容積に入り込むことが阻止される。 （もっと読む）

【課題】基板を平面精度を向上すると共に、基板の平面精度が向上しても基板が基板保持装置に密着して離れないリンキング現象を抑えた基板保持装置を提供する。
【解決手段】 基板８を支持するための凸部１１を備え、該凸部上に支持される該基板を負圧１２、１３または静電気力による吸引にて吸着保持する基板保持装置９において、前記凸部における基板保持面の表面粗さをＲａ＝０．０１〜０．０３にする。
【効果】リンキング現象に起因したデフォーカスによる素子欠陥をなくし、素子製造の歩留まりを向上させる。 （もっと読む）

【課題】既存の構成を生かしながら簡単、かつ安価に基板の生産形態の多様化に対応する。
【解決手段】メインパネル４を備えた複合処理装置１と、この複合処理装置１に対して基板を搬入出するインデクサー装置２と、露光装置３と、メインパネル４にイーサネットＥ１を介して接続されるホストコンピュータ５とをそれぞれ備えた２つの処理システム部Ａ，Ｂが並び、複合処理装置１に設けられる基板受け渡しユニットを介して両処理システム部Ａ，Ｂ同士が連結されるとともに、両処理システム部Ａ，Ｂのメインパネル４同士がイーサネットＥ３で互いに接続されている。 （もっと読む）

【課題】複数の露光装置を有効活用することによって、より効率良く基板を処理する。
【解決手段】基板処理システムは、インデクサー部２等を含む複合処理部をもつ基板処理装置１と２つの露光装置１０１，１０２とを備えている。基板処理装置１は、露光装置１０１，１０２に基板を出し入れするインターフェース部６０と、何れの露光装置で露光処理を行うかを指定可能な入力装置１１４等と、指定内容に従ってインターフェース部６０およびインデクサー部２を制御する制御部１１０とを備える。制御部１１０は、先行ロットが特定の露光装置１０１（又は１０２）のみを指定するものであり、かつ後続ロットの指定が少なくとも上記特定の露光装置以外の露光装置１０２（又は１０１）を含むものである場合には、先行ロットの全基板の搬入が完了する前に、後続ロットの基板の搬入を開始させる。 （もっと読む）

静電チャック（ESC）の洗浄方法であって、ESCのセラミック表面を誘電性流体に浸す工程と、ESCのセラミック表面を導電性表面から離して、誘電性流体がESCのセラミック表面と導電性表面との間に満たされる工程と、誘電性流体を超音波攪拌すると同時にESCに電圧を印加する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、従来技術における欠点を回避又は軽減すること、及び分離作業後の分離された部品及び／又は基板の取り扱いを改善することである。
【解決手段】 本発明は、板状基板（２０）から複数の部品（３０）を製造する方法であって、
第１の真空板（３）に固定された板状基板（２０）から部品（３０）を横方向に分離するステップと、
第１の真空板（３）に部品（３０）を吸引するステップと、
分離された部品（３０）を第１の真空板（３）から取り外すステップと
を含む、板状基板から複数の部品を製造する改善された方法に関する。 （もっと読む）

【課題】基体の特定位置に正確かつ容易に取り付けることができると共に、基体から容易に取り外すことができる粘着性シート及びこの粘着性シートを備えた保持治具の提供。
【解決手段】気体を流通する通気孔２１を有する基体２０に装着されるところの、表面に非粘着部又は弱粘着部及び強粘着部を有し、強粘着部で被粘着物３０を粘着保持し、通気孔２１から気体を圧入又は排気して、非粘着部又は弱粘着部を基体２０から突出させ、又は強粘着部を基体２０側に陥没させることによって、被粘着物３０を分離可能な粘着性シートであって、粘着性シートの端部近傍に、平面における仮想的なＸＹ座標において、基体２０の特定位置に対してＸ方向及びＹ方向に位置決め可能なＸ方向規制部１１及びＹ方向規制部１２を有する粘着性シート１０、及び、この粘着性シート１０と、粘着性シート１０を固定し、気体を流通する通気孔２１を有する基体２０とを備えた保持治具１。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一方の面側に複数の構造体が設けられた基板に、十分に補強効果を有するサポート基板を接着剤に気泡を混入させることなく貼り合わせ、他方の面側から加工する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、一方の面（１０ａ）側に複数の構造体（１２）が設けられた基板（１０）の他方の面（１０ｂ）側を加工する方法であって、構造体（１２）により構成される凹凸パターンが嵌合するように凹凸が設けられた保護基板（１６）を、一方の面（１０ａ）側に接着剤により貼り合わせる第１工程と、他方の面（１０ｂ）側を加工する第２工程と、基板（１０）から保護基板（１６）を剥離する第３工程と、を含む基板（１０）の加工方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】異物除去性能および搬送性能に優れ、かつ、所定の粒子径を有する異物を特に効率よく除去し得るクリーニング機能付搬送部材を提供すること。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材と、該搬送部材の少なくとも片面に設けられたクリーニング層とを有する。クリーニング層は、算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以下であり、かつ、最大高さＲｚが１．０μｍ以下である凹凸形状を有する。好ましくは、クリーニング層の平面１ｍｍ^２あたりの実質表面積は、シリコンウェハミラー面の平面１ｍｍ^２あたりの実質表面積の１５０％以上である。 （もっと読む）

【課題】搬送効率に優れた搬送制御システムおよび搬送制御システムの制御方法を提供する。
【解決手段】搬送制御システムは、複数の搬送媒体が搬入されるとともにこれら搬入された搬送媒体を処理して搬出する複数の製造装置と、複数の製造装置間で前記複数の搬送媒体を搬送する搬送装置と、複数の製造装置の稼動を制御し、かつ、複数の製造装置間の搬送パターンを固定するとともにそれぞれ一定の時間間隔で搬送を行うように搬送装置を制御する制御装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 厚さが薄い基板であっても確実に安定して搬送し、かつ基板の片面のみを面内均一性が得られるように処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板１１の片面を処理液１２によって処理する基板処理装置１０は、処理液１２が収容される処理液槽１３と、処理液槽１３に回転自在に設けられる複数の搬送ローラ１４と、搬送される基板１１の非処理面１１ｂを臨み基板１１の上方に設けられてガスを噴射する噴射ノズル１７とを含み、搬送ローラ１４は、回転軸部材１５に装着されるローラ部材１６の位置が、基板１１の幅方向の中央部にある第１搬送ローラ１４ａと、基板１１の両端部付近にある第２搬送ローラ１４ｂとを有し、鉛直方向におけるローラ部材１６の回転頂部の位置が、第２搬送ローラ１４ｂの方が第１搬送ローラ１４ａよりも高くなるように配置される。 （もっと読む）