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Fターム[5F031CA20]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理の対象物 (12,583) | その他の対象物 (127)

Fターム[5F031CA20]に分類される特許

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【課題】 サファイア基板裏面を高スループットで研削加工、ラップ研磨加工し、基板を薄肉化・平坦化することができる異物の付着が少ないサファイア基板を製造する平坦化加工装置の提供。
【解決手段】 基板のローディング/アンローディングステージ室W1、基板ラップ研磨ステージ室W3、基板の研削加工ステージ室W2内に各々の機械要素を収納した平坦化加工装置1であって、研削加工ステージで1枚の基板を研削加工し、その研削加工基板を多関節型基板搬送ロボットで基板ラップ研磨ステージ室にインライン化し、その基板ラップ研磨ステージ室内で同時に2枚の基板をラップ研磨加工するように設計したフットプリントの小さい平坦化加工装置1。 (もっと読む)


【課題】接着シートをウエハに貼付して切断する際に、切り残し部分を生じさせることのないシート貼付装置及び貼付方法、並びに、シート切断装置及び切断方法を提供する。
【解決手段】接着シートSを繰り出す繰出手段12と、繰り出された接着シートSを半導体ウエハWに押圧して貼付する押圧手段14と、接着シートSを半導体ウエハWの大きさに合わせて切断するカッター刃51を含む切断手段15とを備える。切断手段15は、半導体ウエハWの外縁に沿ってカッター刃51を一方向a1に移動させて接着シートSを切断し、その後に、一方向とは反対の方向a2にカッター刃51を移動させる。これにより、一方向a1の切断時に切り残し部分SRが生じても、反対の方向a2の切断によって切り残し部分SRを切断することができる。 (もっと読む)


【課題】成膜装置の稼働率と被処理物の処理効率を向上させることができるハースライナーカバー交換機構を提供する。
【解決手段】小径孔16Bと大径孔16Aとで構成された鍵穴状の穴16が形成された鍔部10Bを有し成膜装置のハース14の上部に設けられるハースライナーカバー10を交換するハースライナーカバー交換機構であって、垂直方向に移動可能となり、かつ垂直方向に延びる軸30の軸回りに回転可能になるハンド36を有し、ハンド36は穴16に引っ掛けてハースライナーカバー10を保持する保持部38を備え、ハンド36が軸の軸回りに回転するときの回転方向の接線は小径孔16Bから大径孔16Aに延びる穴16の中心線と一致し、保持部38が穴16に挿入された状態でハンド36が軸30の軸回りに回転することにより保持部38と穴16が係合する。 (もっと読む)


【課題】近接スキャン露光方法でも共取りが可能で、高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】基板Wを所定方向に搬送する基板搬送機構と、パターンMp1〜Mp4を形成した複数のマスクMをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部11a、11cと、複数のマスク駆動部と、複数のマスク保持部の上部に配置される複数の照射部とを備え、所定方向に搬送される基板Wに対してマスクMを介して露光用光を照射し、基板にマスクMのパターンを露光する近接スキャン露光装置であって、マスクMに複数のパターンが配置され、露光動作中にマスク駆動部を駆動し、パターンMp1〜Mp4を切り替えるマスクパターン切り替え機能を備えることにより一定速度で基板が搬送され続ける近接スキャン露光方法でも共取りが可能で、高精度に露光を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】ゴム系材料からなるワークの冷却切削を行う際に、ワークを効率良く冷却する搬送治具を提供する。
【解決手段】
本発明の搬送治具は、ゴム系材料を含んで構成されるワーク10の冷却切削に用いられる搬送治具100であって、第1の面においてワーク10を搭載するように構成され、第1の面とは反対側の第2の面において冷却チャック70に接触するように構成された固定板20と、ネジ25を用いて固定板20に固定された断熱板30と、固定板20に接触することなく、ネジ35を用いて断熱板30に固定されたワーク支持枠体40とを有する。 (もっと読む)


【課題】 外部から露光装置内へ搬入されたレチクルを効率的に温調し、スループットを向上させた露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、レチクルのパターンをウエハに露光する露光装置において、ロードポートからレチクルステージまでのレチクル搬送系路内に配置され、前記レチクルの温度を検知する温度検知手段と、前記レチクルを前記ロードポートから前記レチクルステージに搬送する際に、前記温度検知手段によって検知されたレチクル温度とレチクルステージ雰囲気温度または前記レチクルステージ上のレチクルチャック温度のいずれか一方との差分を算出する手段と、前記算出された差分が所定の範囲内である場合、前記レチクルをレチクル保管棚に搬送せずに前記レチクルステージへ搬送するように制御を行う制御手段とを有する。 (もっと読む)


【課題】真空チャックに求められる吸着力で、吸着面の一部に載置される被吸着物を確実に吸着する真空チャックを提供する。
【解決手段】大気圧をP1、真空チャック1に求められる最小吸着力をFminとし、到達圧力がPu、排気効率がSeの真空ポンプ5で背面側が吸引される吸着パッド2が、吸着パッドの単位表面積と該単位表面積内に露出する貫通孔の総開口面積との比である開口率nと、多数の貫通孔による吸着パッド全体のコンダクタンスCが、


を満たす。(1)式を満たす真空チャック1は、被吸着物に覆われない吸着パッド2の一部から空気漏れがあっても、Fmin以上の吸着力で被吸着物を確実に吸着保持する。 (もっと読む)


【課題】基板ホルダに塵埃をなるべく付着させないような技術が求められている。
【解決手段】複数の半導体基板を接合して製造される半導体デバイスの製造方法であって、重ね合わされた複数の半導体基板を加熱して接合する接合ステップと、接合ステップにより接合された複数の半導体基板を冷却室で冷却する冷却ステップと、接合ステップに先立って複数の半導体基板を冷却室に載置し、複数の半導体基板の温度と冷却室の温度差によって生じる熱泳動により複数の半導体基板に付着した塵埃を除去する塵埃除去ステップとを有する。 (もっと読む)


【課題】長尺のシート状基板Sを真空処理室2を通して搬送し、シート状基板Sに所定の処理を施す真空処理装置における基板搬送装置であって、真空処理室2の上流側と下流側に夫々連設した上流側補助真空室3や下流側補助真空室3に繰出しローラや巻取りローラを収納せずに、且つ、真空処理室2を大気解放せずにシート状基板Sを搬送できるようにしたものを提供する。
【解決手段】上流側補助真空室3の入口部と、下流側補助真空室3の出口部と、真空処理室の入口部及び出口部とに,夫々シート状基板Sを挟むようにして閉じる仕切り弁4を配置する。また、上流側補助真空室3と下流側補助真空室3とに、夫々所定長さ分のシート状基板Sを引き込み、引き込んだシート状基板を引き出し自在に保持する基板引き込み機構5,5を配置する。 (もっと読む)


【課題】基板移載に用いるロボットの動作速度の増加を抑えつつ、基板のキャリアへの移載速度を向上し、高スループット化に寄与するロボットを提供する。
【解決手段】ロボットは、駆動機構と、駆動機構に回動可能に連結された第一アーム3と、第一アームに回動可能に連結された第二アーム4と、第二アームの先端に回転可能に配設されたX形状のエンドエフェクター6とを備えており、エンドエフェクターの4つの先端部のうち、2つには一方向に向けて基板9を保持可能なピック8を備え、残りの2つには逆方向に向けて基板を保持可能な保持部を備えて構成されている。 (もっと読む)


【課題】インライン型基板処理装置を製造するに際し、その作業効率を向上させることの可能な製造システム及び製造方法を提供する。
【解決手段】
インライン型基板処理装置の製造システムは、複数のチャンバが縦列に連結されてなるインライン型基板処理装置を少なくとも1つのチャンバから構成されるユニット毎に製造するものである。当該製造システムは、一のユニットに係る複数の製造工程に対応付けられて複数のユニットが配置される複数の作業スペース11〜17,21,22,31〜33,41,51〜53,61と、複数の工程の各々に対応付けられて工程毎の作業の準備に用いられる複数の作業準備スペースとを備える。また、複数の作業スペースにおける作業が終了する毎に、当該工程に対応する作業スペースから当該工程の次の工程に対応する作業スペースまでユニットを搬送する搬送装置を更に備える。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハ全面を均等に押さえることができ、複数の厚みの半導体ウエハや、反った半導体ウエハにも、同一仕様の収納方法により対応ができ、半導体ウエハの割れを防止することができる半導体ウエハの収納容器および収納方法を提供する。
【解決手段】積層可能な複数のトレイ2と、積層された複数のトレイを密封して覆うラミネート袋10とを備え、ラミネート袋が真空脱気されて用いられる。トレイは、上下が開口した筒状の本体部と、本体部の内腔を上下の空間に区画する隔壁14と、隔壁より上部の本体部を貫通した通気孔5とを有し、隔壁によりウエハ載置部が形成され、隔壁の下部の空間により気体室7が形成され、気体室の開口部は、気体室を不通気に密閉する伸縮可能な密閉膜8により封口されている。 (もっと読む)


【課題】重ね合わせ装置において、複数のステージに基板を保持させる。
【解決手段】複数の基板を重ね合わせる重ね合わせ装置であって、一の基板を保持する第一ステージと、他の基板を保持しつつ第一ステージに近接して、他の基板を一の基板に重ね合わせる第二ステージと、第一ステージおよび第二ステージの一方に設けられ、第一ステージに対して進退して、下方から支持した一の基板を第一ステージに保持させ、且つ、第二ステージに対して進退して、下方から支持した他の基板を第二ステージに保持させるプッシュアップピンとを備える。 (もっと読む)


【課題】パレット保持の信頼性及び動作の信頼性を確保し、生産性を向上する。
【解決手段】基板支持装置が、基板12を搭載するパレット8と、パレットを鉛直姿勢した状態で、パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構15と、パレットの中心部を回転可能に保持するパレット中央保持機構13と、装置本体を移動する移動機構11と、を備え、パレット両端保持機構は、パレットの径方向両端部を板厚方向の両側から把持する機構で、移動中はパレット両端保持機構がパレットを保持し、パレット両端保持機構からパレット中央保持機構への受け渡し時は、双方の保持機構によってパレットが保持され、基板処理時はパレット中央保持機構によってパレットの中心部を回転可能に保持し、パレット両端保持機構による保持は解除される。 (もっと読む)


【課題】回転塗布時の基板上における物質層厚さの均一性を改善した基板塗布装置を提供する。
【解決手段】装置は、基板2を軸Aの回りに保持し回転させる保持回転手段を含む。円板3が基板の下方に備えられる。円板は、基板に対して同軸に配置され、基板と少なくとも同じ直径を有し、基板と同期して回転できる。円板により、基板の塗布中、基板の縁部と下方における空気渦が防止される。その結果、均一な塗膜を得ることが可能となる。伝統的な把持システムによって装置への基板の出し入れをするために、出し入れの間、基板と円板の間隔が拡げられる。 (もっと読む)


【課題】被チャッキング物を、その表面平滑性を確保しつつ適度な力でチャッキングすることができ、かつ被チャッキング物から簡単に剥離することができるチャッキング用粘着シートおよびチャッキング用粘着テープを提供する。
【解決手段】側鎖結晶性ポリマーを含有し、該側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度で粘着力が低下するチャッキング用粘着シート1である。側鎖結晶性ポリマーを含有する粘着剤層を基材フィルムの片面に設けてなり、前記側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度で粘着力が低下するか、または基材フィルムの両面に粘着剤層を設けてなり、少なくもと被チャッキング物側の粘着剤層が側鎖結晶性ポリマーを含有し、該側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度で粘着力が低下するチャッキング用粘着テープである。 (もっと読む)


【課題】サセプタの貫通孔内においてリフトピンを滑らかに昇降させることのできる構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。
【解決手段】チャンバー60と、チャンバー60内に設けられ、基板10’が載置されると共に、貫通孔63が設けられたサセプタ61と、貫通孔63内に挿通され、基板10’を昇降自在に支持するリフトピン62と、リフトピン62における下端62i側の外周面62gに形成された、貫通孔63の内周面63nに接触する接触部位62p1と、リフトピン62における上端62t側の外周面62gに貫通孔63の長さよりも短く形成された、貫通孔63の内周面63nに対し非接触となる非接触部位62p2と、リフトピン62の下端62iに当接した状態でリフトピン62を昇降させ、リフトピン62の上端62tに支持された基板10’を昇降させるリフトバー65と、を具備していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 パターニングデバイスとパターニングデバイス支持体との間のずれが考慮されるリソグラフィ装置のパターニングデバイスに位置測定システムを提供する。
【解決手段】 本発明は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構成された基板支持体と、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、少なくとも基板のターゲット部分へのパターン付放射ビームの投影の間、パターニングデバイス上に提供されたグリッド又は格子を用いてパターニングデバイス支持体上に支持されたパターニングデバイスの位置量を連続して決定するように構成されたエンコーダタイプの測定システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 (もっと読む)


【課題】テーブル板の表面の傾斜移動が抑制された昇降テーブルを提供すること。
【解決手段】基台(11)、基台上に設置された昇降装置(12)、下端部が昇降装置に可動接続具(41)を介して固定され、上端部にてテーブル板(13)を支持している軸体(14)、前記基台上の昇降装置の周囲に立設された支柱(15)に支持されている、前記軸体を上下に移動可能に収容する外筒(16)を持つ直動軸受(17)を含み、前記の可動接続具が、昇降装置に固定された支持板と、支持板上に複数の球体を介して滑動可能に支持された可動板とを有するスライドユニット、および前記可動板に固定されている、上方に開口する球状の空洞部を持つハウジングと、前記空洞部に収容された球体と、この球体の頂部に備えられている、前記のハウジングの開口を通って軸体の下端部に固定された支持軸とを有する球面軸受からなる昇降テーブル。 (もっと読む)


磁力によって浮上する一体式ステージ位置決めシステムは、3相リニアモータと、一体式ステージに接続され、強磁性体ベースと相互作用するコイル巻線とを含む。3相リニアモータを励起して、X軸方向の動き、Y軸方向の動き及びZ軸を軸にした回転を提供できる。一体式ステージは、空気軸受上で浮上する。一体式ステージに接続された複数のコイル巻線は、磁力によって空気軸受に予圧を加える役割を果たすことができる。複数のコイル巻線を励起して、Z軸方向の動き、並びにX軸及びY軸を軸にする一体式ステージの回転を提供してもよい。 (もっと読む)


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