【課題】基板上に形成された塗布膜を減圧雰囲気下で熱処理するにあたり、処理室内へのパージガスの供給量が少ない場合でも基板への昇華物の付着を抑制することができる熱処理装置を提供すること。
【解決手段】処理室２１の天井の中央部に、基板載置台３１と対向するように当該処理室２１にパージガスを導入するためのガス供給ノズル５１を設けて、処理室２１の底部に当該処理室２１内を減圧雰囲気とするための排気口６４ａ、６４ｂを設ける。また、処理室２１の中央部にウエハＷを水平に載置するための基板載置台３１を設けると共に、この基板載置台３１を加熱するヒータ３３を設けて、前記基板載置台３１の外縁から外方に突出し、当該基板載置台３１の周方向に沿って形成されると共に処理室２１の底面との間に空間を形成する整流部３４を設ける。 （もっと読む）

【課題】バルブに双向性を付与して取付け作業の簡素化や迅速化を図ることができ、しかも、必要に応じてガス供給ポートの数等を迅速に増やすことのできるパージバルブ及び基板収納容器を提供する。
【解決手段】容器本体の底板３の貫通孔４に嵌着されるバルブケース２１と、バルブケース２１にコイルバネ２７を介し往復動可能に挿入支持され、バルブケース２１を開閉する中空の内圧調整弁体３９と、内圧調整弁体３９内にコイルバネ４１を介し往復動可能に挿入支持され、内圧調整弁体３９を開閉する外圧調整弁体４４と、バルブケース２１と内圧調整弁体３９及び外圧調整弁体４４との間に介在されるガス濾過用のフィルタ４８とを備える。バルブケース２１の一端部から他端部方向にガスが流通する場合には、外圧調整弁体４４を往動させてその閉じた内圧調整弁体３９との間を開放し、バルブケース２１の他端部から一端部方向にガスが流通する場合には、内圧調整弁体３９を往動させてその閉じたバルブケース２１との間を開放する。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】高いシール性を確保し、ケース素材を原因とした半導体ウェーハの有機物汚染を解消可能で、航空輸送時の気圧変化によるウェーハやケースの変形、破損を防止できるウェーハケースを提供する。
【解決手段】各金属製の容器本体と蓋とを、第１，第２の波形シール部を有したシール構造で密閉するウェーハケースとし、第１，２の波形シール部を含む容器本体および蓋の各シール面の表面粗度を０．８Ｓ〜１．６Ｓとした。そのため、高いシール性を確保しながら、ウェーハケースの素材を原因とした半導体ウェーハの有機物汚染を解消できる。 （もっと読む）

【課題】基板加工装置等の位置決めピンに支持された場合の容器本体の高さを低く抑え、容器本体を支持するのに必要な容積を低減し、容器本体を略正確に位置決めでき、しかも、バルブと所定の装置を接続して気体の漏洩を抑制できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ収納用の容器本体１の開口した正面を開閉する蓋体２０と、容器本体１の底板３に嵌着されてその内外のガスを置換する複数のパージバルブ３０と、底板３に配設される複数の位置決め具４０とを備え、基板加工装置に支持される基板収納容器であり、複数の位置決め具４０を、基板加工装置に接触して容器本体１をＺ方向に位置決めする複数のＺ方向位置決め具４１と、基板加工装置の位置決めピンに嵌合して容器本体１をＸＹ方向に位置決めするＸＹ方向位置決め具４３と、位置決めピンに嵌合して容器本体１をＸ方向に位置決めするＸ方向位置決め具４６とから構成する。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する基板収納容器を閉鎖・密閉する際に、ガスケットを嵌合保持溝へ挿入する作業が容易であり、かつ、基板収納容器のシール性能のばらつくことが少ない基板収納容器及び基板収納容器の蓋体の製造方法を提供する。
【解決手段】開口を有し、基板を収納する容器本体２と、開口部を閉鎖する蓋体３と、容器本体２と蓋体３との間に介在するガスケット７を有する基板収納容器１において、蓋体３を筐体４とカバープレート６と筐体４の外側に設けられる枠体５とから形成し、前記枠体５は、前記筐体４と前記カバープレート６との間に挟持されていて、前記筐体４と前記枠体５との間にガスケット７が挟持されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウエハカセットのドアの開閉に要する時間を短縮してスループットを向上したウエハローディング・アンローディング方法および装置の実現。
【解決手段】取り出し口に設けられた開閉されるドア13を有し、複数のウエハWを収容するウエハカセット10を載置するウエハカセット載置部26と、ドア13を移動するドア移動機構22-25と、ウエハカセット10との間でウエハを搬出・搬入するウエハ搬送アーム30と、を備え、通常時はドア13を閉め、ウエハを搬出・搬入する直前にドアを開き、ウエハを搬出・搬入した後ドアを閉じるウエハローディング・アンローディング装置であって、ドア移動機構は、搬出・搬入するウエハのウエハカセット内の収容位置に応じて、ドアの開き位置を変化させる。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する基板収納容器を梱包して輸送するときに、外気温が変化しても基板収納容器に収納した基板が結露したり、汚染されてしまうことを防止できる基板収納容器及びその梱包体を提供する。
【解決手段】開口を有し基板を収納する容器本体と、開口を閉鎖する蓋体とを有する基板収納容器１であって、この基板収納容器１を、梱包袋１１と、緩衝材１３と、梱包箱１４とからなる梱包資材を使用して梱包するときに、基板収納容器１または梱包資材の少なくとも１つに保温層１２を設けて、基板収納容器１を取り囲むことを特徴とする。前記保温層１２は、空気層を有しているようにすること、また、調湿剤を有しているようにすること、また、前記基板収納容器１が、外周部に保護部材８を備えてるようにし、これを梱包する基板収納容器１の梱包体とすること、が好ましい。 （もっと読む）

【課題】、組み立ての自由度が高く、メンテナンス作業等の容易化を図ることができる搬送室を提供すること。
【解決手段】少なくとも処理室が接続される複数の側壁を有する筐体５１と、筐体５１の上部開口を塞ぐ蓋部材５２とを具備し、蓋部材５２は、筐体５１内の搬送装置をメンテナンスするための開口７３が設けられた固定蓋７１と、固定蓋７１の開口７３を開閉可能に設けられた開閉蓋７２とを有し、開閉蓋７２は、上面が平坦であるとともに、内部に空間７７を有し、空間７７内に、筐体５１内部の検出動作を行うセンサー８０が取り付けられてユニット化されている。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰの蓋部を開けることなくＦＯＵＰ内のウェーハに対する検出処理を適切に行うことができるとともに、ウェーハの損傷を防止しつつ構造の簡素化を図ることが可能なウェーハ検出機構を提供する。
【解決手段】開閉可能な蓋部１２を有するＦＯＵＰ１の内部に高さ方向へ複数段に亘って収容したウェーハＷに対して検出を行うウェーハ検出機構Ｘを、蓋部１２に設けた各ウェーハＷのエッジを保持し得るリテーナ１２Ｂと、リテーナ１２Ｂの弾性変形又は移動を検出することでウェーハＷの少なくとも有無を検出する検出部Ｓとによって構成した。 （もっと読む）

【課題】基板搬送空間の雰囲気が基板収容器に進入することを防止または抑制すること。
【解決手段】インデクサ空間と外部空間とは、隔壁７によって形成されている。隔壁７には、収容器載置台６に載置される基板収容器Ｃの基板出入口１０が対向する通過口８が形成されている。通過口８に対する収容器載置台６の反対側には、通過口８の全域を覆う略箱状のカバー２０が設けられている。カバー２０の対向壁２１には、基板収容器Ｃからの基板Ｗを出し入れの際にハンド１５が通過する横長の開口２８が形成されている。開口２８の高さ方向の幅は、基板収容器Ｃにおける基板Ｗの積層間隔Ｎの２倍程度の大きさに設定されている。カバー２０を支持する支持部材には、カバー２０を昇降させるためのカバー昇降駆動機構が結合されている。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰの蓋部を開けることなくＦＯＵＰ内のウェーハに対するマッピング処理を適切に行うことができるとともに、構造の簡素化及び不要なコストアップ抑制を図ることが可能なマッピング機構を提供する。
【解決手段】高さ方向へ複数段に亘ってウェーハＷを載置し得るウェーハ載置部と開閉可能な蓋部１２とを有するＦＯＵＰ１に対してマッピングを行うマッピング機構Ｍを、ロードポートに設けた投光部２４１及び受光部２４２と、投光部２４１と受光部２４２との間においてＦＯＵＰ１におけるウェーハ載置部の各段部に載置されたウェーハＷの少なくとも一部を横切り得る光路Ｌ上に設けられ光を透過させる窓部１２Ｂ、１２Ｃとから構成した。 （もっと読む）

【課題】一方向に搬送される基板を一時的に退避させる基板バッファユニットにおいて、バッファ空間の空気洗浄を効率的に行うことのできる基板バッファユニットを提供する。
【解決手段】基板搬送路を搬送される基板Ｇを一時的に収容し、前記基板搬送路から退避させる基板バッファユニット１００であって、上面が開放された箱状の筐体１と、前記基板搬送路から前記筐体内に搬入された基板を載置する載置部６と、前記載置部を前記基板搬送路から外れた所定位置に移動可能に設けられた箱状の棚部２と、前記棚部の一側面に設けられ、前記載置部に清浄空気を導入する空気導入口６ａと、前記棚部に接続され、該棚部内の空気を吸引して前記筐体外に排気する排気手段３０と、前記棚部よりも下方の前記筐体側面に設けられ、該筐体内の雰囲気を排気する排気窓４０とを備える （もっと読む）

【課題】容器本体の棚板から基板を適切に浮上させ、容器本体の開口した正面部に蓋体を圧入する際の圧力増加を抑制できる基板収納容器及び基板の取り出し方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハＷ収納用の容器本体と、容器本体の正面部に嵌合圧入される蓋体とを備え、容器本体の背面壁２内に、半導体ウェーハＷの周縁部後方を遊嵌支持する断面略Ｕ字形の支持溝３を形成し、容器本体の両側壁内に、半導体ウェーハＷの周縁部側方を支持するティースを形成し、容器本体の背面壁２に対向する蓋体の対向内面に、半導体ウェーハＷの周縁部前方を保持するフロントリテーナを装着する。支持溝３を、蓋体の嵌合圧入時に半導体ウェーハＷのティースからの浮上を案内する緩高配の第一の傾斜底面４と、蓋体の容器本体からの取り外し時に半導体ウェーハＷのティースへの滑落を案内する急高配の第二の傾斜底面５とから形成する。 （もっと読む）

【課題】振動や衝撃で保持片や保持溝が回転するのを抑制し、保持溝から基板が外れて磨耗、汚染、破損するおそれを排除できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】複数枚の半導体ウェーハ１を整列収納する容器本体と、この容器本体の開口した正面部を着脱自在に開閉する蓋体とを備え、この蓋体の半導体ウェーハ１に対向する対向内面に、複数枚の半導体ウェーハ１を保持する基板保持具３０を装着する。また、基板保持具３０を、蓋体の半導体ウェーハ１に対向する対向内面方向から半導体ウェーハ１に接近する第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂと、この第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂにそれぞれ形成されて半導体ウェーハ１の周縁部２前方を保持する保持溝３６とから構成し、各保持溝３６の半導体ウェーハ１の周縁部２前方との接触部３９を第一、第二の保持片３４Ａ・３４Ｂの肉厚Ｔの範囲内に位置させる。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送を行うにあたり、基板にパーティクルが付着することを抑制し、基板の処理システムで製造される製品の歩留まりを向上させる。
【解決手段】基板搬送装置は、内部に基板を収容し、側面に基板の搬入出口９８が形成された基板収容容器９１と、基板収容容器内９１の基板Ｗの裏面に向けて所定のガスを噴射するガス噴射部９２と、ガス噴射部９２から供給される前記所定のガスの供給量を調整し記基板収容容器内９１の基板Ｗを所定の高さに制御する制御部９３と、を有している。 （もっと読む）

【課題】例え基板の撓み量が大きい場合でも、容器本体の大型化や基板の破損を抑制することができ、しかも、基板の位置ずれを防いで円滑に取り出すことのできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ１を収納する容器本体１０をフロントオープンボックスに形成してその内底面には半導体ウェーハ１の周縁部２下方を縦に支持する下部支持ブロック１６を設け、容器本体１０の天板２２内面には、半導体ウェーハ１の周縁部２上方を縦に支持する上部リテーナ２１を上下方向に弾性変形可能に並設し、容器本体１０の背面壁２７内面には、半導体ウェーハ１の周縁部２上部後方を縦に支持する後部支持ブロック２３を設ける。半導体ウェーハ１が起立して支持されるので、例え半導体ウェーハ１が撓み量の大きいφ４５０ｍｍタイプの場合でも、半導体ウェーハ１の撓みを防ぎ、容器本体１０の大型化を防止してスペースの有効利用を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 ロードポート装置にセットする向きが制限されないクリーンボックスを実現する。
【解決手段】 クリーンボックスは、第１ユニットと、第１ユニットに対して着脱可能な第２ユニットを備えている。第２ユニットには、半導体ウエハを支持するウエハ支持部が設けられている。第１ユニットから第２ユニットが取り外された状態で、第２ユニットのウエハ支持部には、半導体ウエハを特定の方向から出し入れ可能となる。第１ユニットに第２ユニットが取り付けられた状態では、第１ユニットと第２ユニットが、ウエハ支持部に支持された半導体ウエハを収容する密閉空間を形成するとともに、相対回転可能であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング加工を行ったウェハにおけるデガスの影響による異物の発生を低減する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、各ウェハ１５０を略水平にして複数のウェハ１５０を上下に並べて収容するとともに、側方に設けられたドア１０４を含む収納容器１００に、ドライエッチング加工が行われた複数のウェハを順次収容する工程と、ドア１０４が開いた状態で、収納容器１００に収容すべきすべてのウェハ１５０が当該収容容器に収容されてから３０秒以上、収納容器１００内のウェハ１５０に対して水平方向からパージガスを吹き付ける工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】キャリアの開放時における基板への自然酸化膜の堆積やパーティクルの付着、基板搬送室の汚染や酸素濃度の上昇等の弊害の発生を防止する。
【解決手段】ポッド１０の収納室１０ｃからウエハ９を取り出す際に、収納室１０ｃの出し入れ口１０ｂを塞ぐ蓋体１０ａを出し入れ口１０ｂから移動させ、出し入れ口１０ｂが開かれ、ポッド１０と連設されたポッドオープナ室６１を密封した状態で、ポッドオープナ室６１へ不活性ガスを流し、収納室１０ｃに不活性ガスを供給する。空のポッド１０の収納室１０ｃにウエハ９を収納する際に、空のポッド１０の収納室１０ｃにウエハ９を収納する前に、収納室１０ｃの蓋体１０ａを出し入れ口１０ｂから移動させて、出し入れ口１０ｂを開き、ポッドオープナ室６１を密封した状態で、ポッドオープナ室６１に不活性ガスを流し、収納室１０ｃに不活性ガスが供給する。 （もっと読む）