【課題】金属部品からイオン成分が溶出して基板の汚染等を招くのを抑制し、構成の簡素化を図ることのできるバルブ機構及び基板収納容器を提供する。
【解決手段】保持筒３１と、保持筒３１の部分的に開口した表面を被覆するフィルタ３７と、保持筒３１に内蔵される中蓋筒３８と、保持筒３１の開口裏面側に螺嵌される有底円筒形の固定筒４４と、中蓋筒３８と固定筒４４の間に介在されて気体の流通を制御する弁体５０とを備え、保持筒３１と固定筒４４を樹脂含有の成形材料により成形し、固定筒４４の底部５２に、気体流通用の通気口４５を穿孔する。また、弁体５０を、弾性材料により成形して保持筒３１と固定筒４４の螺嵌方向に伸縮可能にするとともに、弁体５０の底部５２を通気口４５に接離可能に接触させ、弁体５０を圧縮してその底部５２を通気口４５から離隔させることにより、保持筒３１と固定筒４４の間で気体をフィルタ３７を介して流通させる。 （もっと読む）

【課題】大きな差圧を生じる前に空気を拡散させることなく収納容器内に通気させて外気圧との均衡を図ることができる収納容器を提供する。
【解決手段】上面が開口して内部に精密基板５を収納する容器本体２と、この容器本体２の開口部に被せられる蓋体３と、この開口部と蓋体３の間に介在して容器本体２内に密閉空間を形成するガスケット４とからなる収納容器１であって、ガスケット４による容器本体２と蓋体３との閉鎖部は、ガスケット４が容器本体２および蓋体３に密着する密着部２０ｂと、ガスケット４が容器本体２およびまたは蓋体３に接する漏洩部２０ａとからなり、漏洩部２０ａから気密漏れし、外部圧力の変化によって生じる外部圧力と容器内部圧力との差圧を解消するようになされたものである。 （もっと読む）

【課題】ガスケットを上下逆にして取り付けるおそれを回避し、組立性の向上を図ることのできるガスケット及び基板収納容器を提供する。
【解決手段】２枚以下の半導体ウェーハを整列収納する背の低い容器本体１と、この容器本体１の横長に開口した正面部７を開閉する着脱自在の蓋体２０と、容器本体１の正面部７と蓋体２０との間に介在して変形する伸縮性のガスケット２８とを備え、蓋体２０の裏面周縁部に嵌合溝２７を形成し、この嵌合溝２７にガスケット２８を嵌合する。ガスケット２８を、蓋体２０の嵌合溝２７に密嵌される横長の枠体２９と、この枠体２９に一体形成されて容器本体１の正面部７周縁に圧接する湾曲片３２とから形成し、枠体２９の上部コーナ３０と下部コーナ３１とを上下非対称に形成する。 （もっと読む）

【課題】筐体内で発生したパーティクルの筐体外への流出を防止することができ、筐体内で安定したダウンフローを生成することができる半導体製造装置を提供する。
【解決手段】処理炉５１を有するウエハ処理領域と、ウエハを収納するポッド２を搬送するポッド搬送装置３５を有するポッド保管室１１ｂと、ウエハ処理領域とポッド保管室１１ｂとを内部に有するメイン筐体１１とを備えたバッチ式ＣＶＤ装置において、メイン筐体１１の正面壁１１ａに開設されたポッド搬入口１２とエアインテーク２６を開閉する第一シャッタ１３と第二シャッタ２８とを両側ロッドシリンダ装置２９によって連動させる。ポッド２の搬入搬出時にはポッド搬入口１２を第一シャッタ１３で開き、エアインテーク２６を第二シャッタ２８で閉じる。ポッド保管室１１ｂ内でのポッド搬送時にはポッド搬入口１２を第一シャッタ１３で閉じ、エアインテーク２６を第二シャッタ２８で開く。 （もっと読む）

【課題】ポッドの有無を確実に検出する。
【解決手段】ポッド２を開閉するポッドオープナが設置されたロードポートに、ポッド２を載置しポッドオープナに対して遠近動作する内側載置ユニット１５と、内側載置ユニット１５と別体でポッド２を載置しポッドオープナに対して並行方向に昇降動作する外側載置ユニット１７とを設け、内側載置ユニット１５には内側載置ユニット１５上のポッド２を検出する内側検出器９１を設け、外側載置ユニット１７上のポッド２を検出する外側検出器９２を設ける。内側載置ユニットの進退中および前進後においても内側載置ユニット上のポッドを検出できる。外側載置ユニットの昇降中においても外側載置ユニット上のポッドを確実に検出できる。 （もっと読む）

【課題】成形性の向上を図ることができ、しかも、基板と支持体との接触領域を減少させて塵埃の発生を抑制することのできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】樹脂を含む成形材料により半導体ウェーハを整列収納するフロントオープンボックスタイプに射出成形される容器本体１と、この容器本体１の内部両側にそれぞれ設けられて相対向する一対の支持体４とを備え、この一対の支持体４に半導体ウェーハの周縁部側方を支持させる基板収納容器であり、各支持体４を、容器本体１の前後方向に分割して複数のティース５を形成し、ティース５とティース５との間に半導体ウェーハに非接触の隙間６を形成する。各支持体４が短い複数のティース５からなるので、支持体４の成形性の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ収容容器のカム溝とカムとの間に噛み込みが生じた場合、収容容器からウェーハを取り出すことができず、発塵やウェーハの破損を招くおそれがある。
【解決手段】ウェーハ１００を出し入れする開口部２２が前面に設けられた可搬性の収容容器２０と、収容容器の前面に回転可能に設けられて、開状態において開口部を開放し、閉状態において開口部を閉止するストッパー３０と、軸方向に進退可能な回転軸と、ストッパーと回転軸とを接続するとともに、回転軸の進退運動を回転軸まわりの回転運動に変換してストッパーを回転させる変換機構と、を備えるウェーハ搬送装置１２の、ストッパーを閉状態から開状態に開放する方法であって、閉状態にあるストッパーと回転軸とに対して異なる向きの外力を与える第一工程と、回転軸を軸方向に進退させて、ストッパーを開状態に回転させる第二工程と、をこの順で含むウェーハ搬送装置の開放方法。 （もっと読む）

【課題】 基板収納容器の貫通孔に収納保持されるハウジング部材が、移送・保管等の際の加速度や振動、洗浄乾燥の際の熱履歴等によっても、固定用の螺刻部が緩まない構造とした基板収納容器を提供する。
【解決手段】 基板を収納する容器本体と、その開口部を閉鎖する蓋体とを有し、前記容器本体の内部と外部とを連通する貫通孔が設けられている基板収納容器１であって、貫通孔には、フィルタを備えた通気部材を収納保持するハウジング部材が、回転方向に回転されて基板収納容器に取り付けられていて、ハウジング部材が回転方向に緩むことを防止する手段が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 マスク移載容器の遮蔽式入出気構造を提供する。
【解決手段】 移載容器は相対蓋合する底台とハウジングを含み、底台頂面には２個のサポート部品と１個の接触支持部品により組成する「コの字型」サポート体を設置しフォトマスクを支え、入出気構造は底台上に少なくとも２個の選択的に気密作用を生じる入出気部品を設置し、入出気部品は中空の底台範囲内に設置し、移載容器置は装置上に設置する開閉部品により移載容器の２個の入出気部品を選択的に開閉し、移載容器内部にクリーンな気体を注入し、移載容器内部の気体を導出し、これにより気体は該移載容器内部で循環流動状態を形成し、移載容器内部環境の清浄度を長期間維持可能で、同時に入出気構造はサポート部品下方に設置するため、気流がフォトマスク表面に直接衝撃を与え、フォトマスク表面に損傷を加える現象を回避可能である。 （もっと読む）

【課題】堆積導電作用を有するマスク移載容器を提供する。
【解決手段】堆積時に静電の発生を防止できるマスク移載容器構造であり、底台１０、殻体２を含み、殻体２が底台１０上に選択的に覆蓋し、マスク５０を置く収容空間を形成し、底台１０および殻体２とマスク５０との間に静電を導通する通路を形成し、殻体上面に該通路と連通する把手２４を設け、底台１０が少なくとも１つの導電構造と触導ユニット４０を有し、そのうち導電構造が通路と連接し、下向きに突出する導電柱３２、３５を有し、触導ユニット４０は移載容器が隣接して堆積時、下層移載容器の把手２４に接触し、隣接する移載容器とマスク５０との静電が該触導ユニット４０と導電ユニット３０を経由して導出でき、マスクパターンを破壊することを減少させる。 （もっと読む）

【課題】例えガスケットが長時間容器本体と蓋体との間に介在しても、容器本体にガスケットが貼り付いて蓋体の開放に支障を来たすのを抑制できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】２枚の半導体ウェーハを整列収納するフロントオープンボックスタイプの容器本体１と、この容器本体１の横長に開口した正面部に着脱自在に嵌合する蓋体２０とを備え、容器本体１の正面部内に、高平滑性や耐磨耗性に優れるダイヤモンドライクカーボン層１２をコーティングし、蓋体２０の裏面周縁部には、容器本体１のダイヤモンドライクカーボン層１２に接触する弾性変形可能なガスケット２８を嵌合する。容器本体１の正面部内に高平滑性のダイヤモンドライクカーボン層１２をコーティングするので、容器本体１に蓋体２０のガスケット２８が貼り付くことがなく、蓋体２０の開放に支障を来たすのを抑制防止することができる。 （もっと読む）

【課題】ミニエンバイラメント方式の半導体製造装置において、ＦＯＵＰのウエハの出入口とローディング部の開口部からダクトが侵入するのを防止する。
【解決手段】ローディング部４の開口部１８の内周面部に、方形枠状のフィルタ収納ケース３２内に、円筒状濾材３３を方形枠状に連結して形成された方形枠状フィルタ３４を配設した清浄空気噴出装置３０が設置され、該清浄空気噴出装置３０を構成するフィルタ収納ケース３２の外側面部３２ａおよび内周面部３２ｂに、多数開口された通気小孔４０より成る噴出部２９から、清浄空気４２をＦＯＵＰ６の出入口９および前記ローディング部４の開口部１８の全周面に沿って均一な風速で噴出して、エアカーテンを形成することにより、前記ＦＯＵＰ６の蓋１０の開放時に、ダスト２７を含んだ外気が、ＦＯＵＰ６および半導体製造装置１内の清浄空間へ侵入するのを阻止する。 （もっと読む）

【課題】ロードポート装置の出し入れ口に容器本体の正面部やリムフランジを適切に接触させることのできる基板収納容器を提供する。
【解決手段】ロードポート装置の出し入れ口に、２枚の半導体ウェーハを収納する容器本体１の横長に開口した正面部を対向させる基板収納容器であって、容器本体１の正面部周縁に形成されて外方向に張り出し、ロードポート装置の出し入れ口に対向するリムフランジ１０と、リムフランジ１０の両側部にそれぞれ穿孔される複数の取付孔１２と、複数の取付孔１２に選択的に挿入される着脱自在の情報表示パッドであるインフォパッド１５とを備える。各取付孔１２を、リムフランジ１０の正面側に位置する拡径部１３と、拡径部１３に一体形成されてリムフランジ１０の背面側に位置する縮径部とから形成し、インフォパッド１５の正面部を、リムフランジ１０の正面に略面一に揃えるか、あるいは取付孔１２の拡径部内に埋没させる。 （もっと読む）

【課題】例え数ｋＰａ程度の圧力差でも、拡散による酸素の逆流を防止することのできる基板収納容器の排出用ポートを提供する。
【解決手段】容器本体１に供給用ポートと排出用ポート２０とをそれぞれ複数配設し、各排出用ポート２０を、容器本体１に取り付けられる中空のケース２１と、ケース２１に内蔵されるフィルタ２４と、ケース２１に内蔵される逆止弁２５とから構成する。ケース２１の両端面にそれぞれ通気孔２２を穿孔し、ケース２１の一端面を容器本体１から露出させ、このケース２１の一端面とフィルタ２４との間に逆止弁２５を介在させるとともに、ケース２１の一端面に被覆体３０を重ねて装着し、被覆体３０の内部には、ケース２１の一端面の通気孔２２と連通する細長い流通路３１を形成する。 （もっと読む）

【課題】蓋の天面部に加わる外力により内部が減圧状態になることを防止できるペリクル収納容器を提供すること。
【解決手段】面積１０００ｃｍ^２以上の大型ペリクルを収納するための、少なくとも蓋と、該ペリクルを載置するペリクル載置台とから構成されるペリクル収納容器において、前記蓋の開封作業時に蓋の変形を防止する変形防止手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レチクル等を収容しこれを保管する密閉容器について、当該容器内部の圧力を適宜知ることを可能とする。
【解決手段】該密閉容器に、圧力センサ、圧力データを送信する送信手段、これらの動作を制御するコントローラ、及びこれら構成の動作源であるバッテリを付与することとする。コントローラは、一定周期で送信手段により圧力データを送信させるスリープモードと、外部からの指示に応じて適宜圧力データを送信させるアクティブモードとを有する。 （もっと読む）

【課題】搬送容器の蓋体を蓋着脱装置の扉部材に大きな力で押し当てても、搬送容器が浮き上がりを防止することができる搬送容器の蓋着脱装置、搬送容器及び搬送容器の蓋着脱システムを提供する。
【解決手段】搬送容器の蓋着脱装置１００は、搬送容器２００を載置して移動可能なテーブル１５と、搬送容器２００の下面の断面Ｖ字溝２０５ａ〜２０５ｃに設けられ移動方向Ｍとは略直角な固定面２０５ａ−１〜２０５ｃ−１に係合し、テーブル１５に設けられ移動方向Ｍとは略直角な位置決めピン１５ａ〜１５とを有する。 （もっと読む）

【課題】ラフクリーン環境で用いてもワークの汚染が生じにくいワーク搬送用トレイを提供する。
【解決手段】ワーク搬送用トレイ１は、基板Ｓの搬送に用いられるものであって、桟４と、外枠２と、樹脂ブロック８と、シール部材５１とを備えている。桟４は、基板Ｓを載置するワーク載置面を有する。外枠２は、桟４を支持する。樹脂ブロック８は、外枠２に設けられ、他のワーク搬送用トレイ１に積まれた状態で上に積まれる他のワーク搬送用トレイ１の重量を支持する。シール部材５１は、外枠２に沿って配置され、外枠２と上に積まれる他のワーク搬送用トレイ１の外枠２との間の隙間を遮蔽する。 （もっと読む）

【課題】清浄な雰囲気で保管される必要がある化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクの収納に好適な収納ケースを提供する。
【解決手段】上方が開口したケース本体５と、該ケース本体５に被せる蓋体６とを備えて、ケース本体５及び蓋体６のそれぞれに嵌合部を有して嵌め合わされ、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランク１を内部に収納するケースである。ケース本体５及び蓋体６は金属材料で形成され、マスクブランク１の各辺を少なくとも１箇所で支持する支持部材８をケース内部に設け、該支持部材８は樹脂材料で形成され、上記嵌合部に弾性部材７を介在させることにより該弾性部材７より内方では上記嵌合部同士が非接触で嵌め合わされる。 （もっと読む）

【課題】 基板と基板支持具の擦れによるダスト発生を抑えることができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板５４を載置した基板支持具３０を反応炉４０内に挿入後、反応炉４０内を真空排気する前に、基板温度および基板支持具３０の温度を安定させるステップを導入することにより、反応炉４０内の真空排気時における基板５４と基板支持具３０の擦れによるダスト発生を抑制する。 （もっと読む）