【課題】収納容器体内の雰囲気を被処理体の位置ずれを生ぜしめることなく迅速に、円滑に不活性ガスの置換を行なう被処理体の導入ポート機構を提供する。
【解決手段】収納容器体２内の被処理体Ｗを開口ゲート５２を介して不活性ガス雰囲気の被処理体移載エリア３６内へ取り込む被処理体の導入ポート機構において、収納容器体を載置する載置台５４と、開口ゲートを開閉可能に閉じる開閉ドア５６を有する開閉ドア機構５７と、開閉ドアに設けられて開閉蓋を開閉する蓋開閉機構６４と、不活性ガスを収納容器体内に向けて噴射するために開口ゲートの周辺部に沿って設けられると共に、多孔質材料により筒体状に成形された多孔質ガス噴射管８０を有するガス噴射手段１００と、開口ゲートの多孔質ガス噴射管を設けた周辺部以外の他の周辺部に設けられて、多孔質ガス噴射管から噴射された不活性ガスによりパージされた収納容器体内の雰囲気を排出する排気口８２を有する排気手段１０２とを備える。 （もっと読む）

【課題】各種設備に付属のロードロック室を簡素化して、小型化が可能な、蓋体の開閉機構を備えた基板収納用容器を提供する。
【解決手段】一面を開口部８とした箱状の筐体１０と、この筐体１０にその一端を回動可能に支持され、前記開口部８の周縁部を覆って減圧吸着させる蓋体１２と、筐体１０の一面に固定され、前記蓋体１２を回動させる回動機構およびその駆動源とからなる駆動機構１３を備え、前記駆動源は圧力シリンダー１６からなり、この圧力シリンダー１６の内部と外部との圧力差で蓋体１２を回動させて、筐体１０の開口部８を開閉させる。 （もっと読む）

【課題】底部開口容器を用いる場合に、検出装置を移動させることなく、基板の位置ずれを検出することができる基板位置ずれ検出システムを提供する。
【解決手段】底部に開口部を有する本体２と、開口部を開閉自在な蓋体３と、蓋体３に載置されてウエハＷを保持するカセット４とを有する容器１及びカセット４とともに蓋体３を昇降させる担持体８を有するカセットモジュール５に適用される基板位置ずれ検出システムは、担持体８に配されて昇降方向に光を投光・受光する回帰反射型センサ１０と、本体２の天井部において回帰反射型センサ１０と対向するように配されて光を反射する回帰反射板１２と、蓋体３に配されて光を透過させる透過窓１１とを有する検出装置を備え、該検出装置の構成要素は昇降方向の一直線上に配され、回帰反射型センサ１０が投光する光は、カセット４が所定の収容位置に保持するウエハＷによって遮光されない。 （もっと読む）

【課題】金属ファスナを用いずにパネルを側壁へ固定できる、シール可能なウェハーエンクロージャのためのドアを提供する。
【解決手段】ウェハー用のシール可能なエンクロージャ５６は、ラッチ機構６０を備えたドア３６を有し、ドアはカム部材８０を備えたエンクロージャを有しており、カム部材はポスト１１０の上で回転可能で、一対のラッチ用アーム８２と係合する。ラッチ用アームの移動は、ラッチ用アームのカムフォロワ部分をカム部材に対して軸方向に、また半径方向に移動させるように形成されたカム部材のカム部分によって行われる。ラッチ用アームはエンクロージャの支点の上で旋回する。ラッチ機構はパネルを介してアクセス可能であり、このパネルは、ドアエンクロージャの内部端壁５５の上に設けられた溝１９８と協働するパネル１８０に一体化された戻り止めによって取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】基板処理システムの小型化を図ることができる基板受入装置を提供する。
【解決手段】基板処理システム１が備える略箱状のカセットモジュール２は、ウエハＷに処理を施すプロセスモジュール５に間接的に接続され、天井部に配されるとともに複数のウエハＷを保持するカセット８を収容する容器３が接続されるポート９と、カセットモジュール２の内部空間及びポート９に接続された容器３の内部の連通を制御し、該内部空間を容器３の内部から隔絶するドアバルブ１０と、カセット８を容器３から取り出し、ポート９を経由して上記内部空間に搬入する載置体１１と、容器３の内部から隔絶された内部空間の圧力を制御して該内部空間の大気−真空の切り替えを行うガス導入口１８及び排気口１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】キャリアカセットの蓋体着脱装置を備えたロードポート装置において、製造装置のフレームの内側に配置された蓋体着脱装置の蓋体着脱具と、フレームの外側に配置された蓋体着脱装置の昇降装置とを連結する部材を挿通するために、プレートの上下方向に形成されたスリットを閉塞する。
【解決手段】フレームＦの外側には、ケース１１内に閉塞テープ１２が巻取り方向に付勢された状態で巻回された第１閉塞具１０がスリットＳの下形成端部Ｓ₁ 又は水平移動装置４０のベース体４２のいずれか一方に取り付けられていると共に、引き出された閉塞テープ１２の先端部がその他方に取り付けられ、フレームＦの内側には、第２閉塞具２０がスリットＳの上形成端部Ｓ₂ 又は水平移動装置４０の第１連結部材４１のいずれか一方に取り付けられていると共に、第２閉塞具２０の閉塞テープ２２の先端部がその他方に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】特別の工程フローを登録することなく、パージガスの再充填を自動的に実施できる半導体装置の製造管理装置および製造管理方法を提供する。
【解決手段】工程情報取得部１０１は、ＦＯＵＰ内に収容されたロットのロット情報および製造設備の稼動情報を取得する。サイクル時間算出部１０３は、ロット情報に含まれる膜種に基づいて、対応する酸素濃度の基準値を基準値定義部１０４から取得する。そして、製造ラインに投入されているＦＯＵＰごとにサイクル時間を算出する。サイクル時間監視部１０２は、算出されたサイクル時間、ロット情報および稼動情報に基づいて、窒素パージの要否をＦＯＵＰごとに判定し、充填要と判定したＦＯＵＰへの窒素パージ実行を指示する。 （もっと読む）

【課題】基板の中間的な位置ずれを検出可能にすることにより、基板の取りこぼしを防止することができる載置台を提供する。
【解決手段】蓋着脱部１５によりFOUP１から蓋７を取り外すとともに計数部１７で計数を行うが、飛び出し検出部２９に加え、中間センサ３５を備えているので、正規位置とずれ位置との間にあたる中間位置にまで基板Ｗがずれてきたとしても検出することができる。したがって、基板Ｗの取りこぼしを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】蓋体の施錠や開閉に支障を来たすおそれの少ない基板収納容器を提供する。
【解決手段】２枚の半導体ウェーハを収納する容器本体の正面部を開閉する蓋体２０に、容器本体の正面部を閉塞した蓋体２０を施錠する施錠機構４０を設け、施錠機構４０を、蓋体２０に支持されてその左右内外方向にスライド可能なリンクプレート４１と、リンクプレート４１の先端部に回転可能に支持され、蓋体側壁の溝孔２３から突出して容器本体の正面部内側の係止溝に干渉可能な係止爪４５と、リンクプレート４１を蓋体２０の左右外方向にスライドさせて係止爪４５を蓋体２０の溝孔２３から突出させるコイルバネ４７と、リンクプレート４１の最末端部４３側に穿孔され、蓋体２０外部から操作ピンが挿入される操作孔４８とから構成し、操作孔４８を正面略楕円形に形成してその蓋体２０の左右内方向側に位置する周縁部を直線的な縦平坦部４９とする。 （もっと読む）

【課題】基板を収納したカセットの蓋を開閉するカセットステージにおいて、基板搬送ロボットの教示を正確に行えるようにする。
【解決手段】カセット２０の正面側に、基板の平面に平行になるよう光軸が設定される第１のセンサ７と、基板の平面に垂直になるよう光軸が設定され、かつカセット２０の正面の中心軸から均等に離間するよう光軸が設定される第２及び第３のセンサ９と、を備えたカセットステージとした。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムに固定されて開放状態にあるFOUP内部の酸化性ガスの分圧が時間の経過と共に増加することを防止する。
【解決手段】FIMS内部における開口部１０周囲にドアの動作範囲を覆い且つ開口部１０と対抗する第二の開口部３１を有するエンクロージャを配置する。また、該エンクロージャの上部であって開口部１０の上辺上にカーテンノズルを配置し、当該カーテンノズルからは開口部の上辺から下辺に向かう方向に沿ってパージガスを供給し且つ当該方向に流れるパージガスが突き当たるエンクロージャ壁に該パージガスがエンクロージャ内部から外部に流出する流出口を設ける。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムに固定されて開放状態にあるFOUPを閉鎖する際に内部の酸化性ガスの分圧の低減を図る。
【解決手段】FIMS内部における開口部１０の両側辺外方に拝されたパージガス供給用のノズルに加え、開口部１０の上辺上方にパージガスによるガスカーテンを形成可能とするカーテンノズルを配置する。蓋４によるポッド２の閉鎖時では、ドア開閉機構を用いて蓋４をカーテンガスの流れ方向に対して所定角度傾斜させて所定時間これを維持することとし、蓋４によってガスカーテンに供せられたパージガスもポッド内のパージに用いることとする。 （もっと読む）

【課題】薄型のポッドを複数縦に積み上げる様式にてロード可能なFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドをロードする支持機構上の配置とFIMSと連通するミニエンバイロンメントとの間にトンネルを設け、FIMSドアによるポッドの蓋の保持した後のポッドからの蓋の分離が為される際のポッドの位置、蓋分離後にポッドが運ばれるウエハの挿脱可能な位置を当該トンネル内に配置することとし、ポッドから分離された蓋及びドアも当該トンネル内に付加された収容空間内に配置可能とする。 （もっと読む）

【課題】ガスケットが長時間容器本体と蓋体の間に介在しても、容器本体にガスケットが貼り付いて蓋体の開放に支障を来たすのを抑制できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】２枚の半導体ウェーハを収納する容器本体１と、容器本体１の開口したリムフランジ１２を開閉する蓋体２０と、蓋体２０に取り付けられて容器本体１との間に介在するガスケット４０とを備え、ガスケット４０を、蓋体２０の裏面周縁部に嵌合するエンドレスの取付部と、取付部に形成されて容器本体１のリムフランジ１２内に圧接して変形する接触部とから形成し、接触部には、高平滑性、耐磨耗性、耐腐食性、高ガスバリヤ性に優れるダイヤモンドライクカーボン５０をコーティングする。ダイヤモンドライクカーボン５０をコーティングするので、例えガスケット４０が長時間容器本体１と蓋体２０の間に介在したとしても、容器本体１内にガスケット４０が貼り付くことがない。 （もっと読む）

【課題】状況に応じて択一的使用が可能な被処理体の支持機構を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗを移載するための被処理体の支持機構において、複数の昇降アクチュエータ４６、４８の昇降ロッド５０、５２に個別に連結されて昇降可能になされた複数の昇降ベース３８、４０と、各昇降ベースより起立されてその先端が被処理体を支持する複数のリフトピン３８Ａ〜３８Ｃ、４０Ａ〜４０Ｃと、昇降アクチュエータを独立して制御する昇降制御部６８とを備え、各昇降ベースのリフトピンは水平座標における実質的に同一領域にある被処理体を支持可能であり、昇降制御部は各昇降ベースのリフトピンが択一的に被処理体を支持するように昇降アクチュエータを制御する。これにより、リフトピンをグループ毎に状況に応じて択一的使用が可能とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は搬送室内全体における気流の状況を搬送装置の通常の運用状態で正確に監視することを可能にしたウェーハ搬送装置を提供することにある。
【解決手段】本発明のウェーハ搬送装置は、内部にウェーハの搬送室を形成するミニエン筐体内に形成された搬送室の所望位置に移動可能なウェーハハンドリング機構を備えたウェーハ搬送ロボットと、前記ウェーハハンドリング機構に取り付けられて前記ミニエン筐体内の搬送室を流れる気流を前記搬送室の複数の所望位置で測定する風量測定器と、前記風量測定器で計測された複数の所望位置での気流の風量データに基づいて前記ミニエン筐体内の搬送室を流れる気流の状況を演算して表示する制御コントローラを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】蓋体を外した状態で、該基板収納容器が動いた場合でも、ウェハを所定の位置に保持することができる基板収納容器を提供すること。
【解決手段】本発明は、天井部８、底部９、側壁５〜７により構成された基板収納部３と、側壁６と側壁７の内側面に、それぞれ、並設された複数のウェハスロット１１と、第２の側壁６と第３の側壁７に、それぞれ、ウェハスロット１１の配列方向に沿って延在形成されたスリット部１２と、各スリット部１２に沿って移動可能に配設されたスライド部１８と、スライド部１８の内側面に、ウェハスロット１１のピッチと略等しいピッチで並設された複数の基板固定片を有し、スライド部１８が基板固定位置において、基板固定片が基板をウェハスロット１１に押付固定し、基板固定解除位置において、基板固定片が基板の周縁部から離間し、基板の固定状態を解除する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置本体内に収納することができる処理容器の数を増やしつつ、装置が大型化することを抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、ウエハ２００を処理する処理炉２０２と、ウエハ２００が収納されたポッド１１０を筺体１１１内に搬送し、筺体１１１から搬出するために用いられるロードポート１１４と、ロードポート１１４からポッド１１０を搬送するために用いられるポッド搬送機構１１８ｂと、少なくとも一部分が重力方向において処理炉２０２と重なるように上方に配置されている上部収納部２５０とを有する。 （もっと読む）

【課題】
ウェーハの前垂れ状態を検知し、簡単な機構を用いて前垂れ状態を適正な状態に修正し、安定したウェーハの搬送が可能であるロードポート装置を提供する。
【解決手段】
ウェーハを収納するためのキャリアを載置するテーブルを備えたロードポート装置において、可動子を前記テーブルのキャリア載置面から突き出し引っ込み動作させるための機構を設ける。キャリア内のウェーハが前垂れ状態の場合、可動子を作動させてキャリアに振動を加え、ウェーハの前垂れ状態をロボットハンドに対して平行な状態に修正する。 （もっと読む）

基板キャリアを加圧するための方法は、キャリアと一体構造のものであるチャンバおよび／またはキャリア内の基板カセットを加圧するステップと、チャンバからキャリア内へガスを放出することにより、キャリア内の圧力を維持するステップとを含む。
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