【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバＬＬとプロセスチャンバＰＣの間で移送されるキャリア７と、プロセスチャンバＰＣ内に移送されたキャリア７から基板７を受け取るフック１９を備えており、基板５への真空処理はキャリア７がロードロックチャンバＬＬに退避した後に行われる。 （もっと読む）

【課題】ロードポートの個数を見かけ上増加させることにより、装置コストを抑制しつつも収納器の搬送効率を向上させることができる。
【解決手段】仮想ロードポート管理部は、物理ロードポートＲ−ＬＰ１，２に対して２個の仮想ロードポートＶ−ＬＰ１，２を割り当てる。さらに、仮想ロードポート管理部は、基板処理装置５と、キャリア搬送システム７と、ホストコンピュータ９とに対して、２個の仮想ロードポートＶ−ＬＰ１，２を２個の物理ロードポートとして扱わせる。したがって、現実の物理ロードポートの個数以上にロードポートが存在するようにＦＯＵＰ３の搬送を行うことができ、見かけ上、ロードポートの個数を増加させることができる。その結果、装置コストを抑制しつつも、ＦＯＵＰ３の搬送効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス性が高く、配置スペースの小さな基板処理装置等を提供する。
【解決手段】真空搬送室４は、被処理体である基板Ｓを搬送する基板搬送機構４１を具備すると共に、平面形状が五角形以上の多角形となるように複数の側面に囲まれている。上部に蓋体５２を有する複数の処理室５ａ〜５ｄは前記複数の側面のうち、外側にメンテナンス領域６を備えた側面を除いた側面に接続され、蓋体搬送機構７は前記処理室５ａ〜５ｄとメンテナンス領域６との間にて、前記蓋体５２を搬送する。 （もっと読む）

【課題】 研磨装置から速やかに、かつ確実に被研磨物を搬送可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送装置５１は板状の本体５３を有し、本体５３には研磨装置２１ａに収納されたガラス基材１ａをチャックするチャック治具５５が設けられている。
図６に示すように、チャック治具５５は、研磨装置２１ａ上のガラス基材１ａ（被研磨物）の配置形状に対応した形状に配置されている。
チャック部５７は柱状であり、端部６１は軸方向に４つに分割されて拡径している。
また、チャック部５７の外周には周方向に形成されたネジ６５が設けられている。
一方、スリーブ５９は円筒状の形状を有し、回転可能に設けられている。
スリーブ５９をＣ１の向きに回転させると、チャック部５７はスリーブ５９内に引き込まれ、チャック部５７の外周形状はスリーブ５９の内周に拘束されて縮径する。 （もっと読む）

【課題】例えば半導体素子製造用の各種基板を収容する被搬送物を、ポートとの間で移載する搬送システムにおいて、移載用位置のズレ量を検出する。
【解決手段】搬送システム（１００）は、被搬送物（９）が所定位置に載置されるポートとの間で、被搬送物を移載可能であると共に、被搬送物を保持可能である搬送本体部（２０）と、搬送本体部が搭載されており、天井に敷設された軌道に沿って走行可能であると共に停止可能な走行部（１９）と、走行部がポートに対応する停止位置に停止した際に、所定位置に対面するように被搬送物の代わりに搬送本体部に保持され、ポートを撮像し、ポートに係る距離画像を出力する距離画像手段（１０）と、出力された距離画像に基づいて、走行部が停止位置に停止した際における所定位置に対する搬送本体部の移載用位置のズレ量を検出するズレ量検出手段（２５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウェハリングをマガジン内の空いているスロットに確実に戻す。
【解決手段】ウェハリング１に保持されているウェハを収容するマガジン１０を搭載するマガジン搭載台２０と、該マガジン搭載台を上下方向に移動させるマガジン昇降機構２２と、該昇降機構により所定高さに位置決めされたマガジン内のスロット１２から、支持されているウェハリング１を取出す取出口４２Ａと、該取出口からマガジン内に把持具を挿入し、該把持具で対応する位置に支持されているウェハリング１を把持して引き出すウェハ取出機構を備えた部品供給装置において、上方又は下方に移動される前記マガジン１０内の各スロット１２に支持されているウェハリング１の有無を検知するセンサ５６が所定高さ位置に設置され、前記マガジン搭載台２０を上昇又は下降させた際の、センサによる検知信号と各スロット位置とを対応付けたマガジン内のウェハ有無情報を保存する。 （もっと読む）

【課題】処理装置の構成の自由度を向上することができる搬送機構を提供する。
【解決手段】複数の処理室１２，１４に接続された処理物Ｗの搬送室１３と、搬送室の内部に配置され、処理物を複数の処理室に搬送する搬送手段５１と、搬送手段を処理室に対して出し入れする移動機構６５，７５と、を備えた搬送装置において、搬送手段と移動機構とを相互に接続および分断する断接部を備え、断接部が接続された状態で、移動機構が搬送手段を処理室に対して出し入れし、断接部が分断された状態で、搬送手段が処理物を複数の処理室に搬送するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の処理室が有するプレート状部材を、変形および破損等が生じることを防止しつつ略鉛直方向に搬送する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】処理室１３の本体１３１を、本体移動機構１６により退避用フレーム２１へスライド移動させるとともに、搬送用治具２３３をホットプレート１５の上方へ下方移動させ、しかる後に、連結部材２３５により搬送用治具２３３とホットプレート１５とを連結させる。そしてウインチ２３４を動作させることによって、スリングＳＵを巻取り搬送用治具２３３とともにホットプレート１５を吊揚げて、上方へ搬送する。さらに、本体１３１を処理用フレーム１１内へと戻し、ウインチ２３４を動作させて巻取ったスリングＳＵを巻戻すことによって、搬送用治具２３３とともにホットプレート１５を下方へ搬送する。 （もっと読む）

部品を処理するための少なくとも１つの処理装置と、一次搬送システムと、二次搬送システムと、第１の搬送システムと第２の搬送システムとの間の１つ以上の接合部分と、を有する半導体部品処理システム。該一次および二次搬送システムはそれぞれ、該等速セクションに通じる待ち行列セクション内に１つ以上の実質的に等速のセクションを有する。
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【課題】ハウジングの洗浄を行う際に、低圧処理機器の運転を停止せず、基板処理の高生産歩留まりを実現できる低圧処理機器のハウジング移動装置等の提供を目的とする。
【解決手段】この課題を達成するため、ベースをハウジングで覆い内部に基板を収容して低圧処理するための低圧処理機器のハウジングを移動させるための装置であって、第１エアーアクチュエータ、第２エアーアクチュエータ、前記第１エアーアクチュエータの一端側と第２エアーアクチュエータの一端側と間に設けた支持体、前記第１エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第１滑動部材、前記第２エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第２滑動部材、前記支持体に設け前記ハウジングに接続可能な少なくとも１つの第１接続部材を含む低圧処理機器のハウジング移動装置等を採用する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加工施設全体を通して、より具体的には加工施設のツールベイを通して、容器を輸送する容器を輸送する輸送システムを提供する。
【解決手段】本発明の輸送システムは、一般的に、容器をベイ間コンベヤーから第２のツールベイに向けて輸送するための第１の容器輸送システムと、容器を第１のツールベイから遠くへ移動させるための第２の容器輸送システムと、容器を第１及び第２の容器輸送システムとロードポートとの間で移動するためのツールローディングデバイスと、を含む。また、容器を第２の容器輸送システムとベイ間コンベヤーとの間で容器を輸送するための合流リターンコンベヤーを含むのがよい。 （もっと読む）

一実施形態において、本発明は、第１軸運動に沿って位置決め可能なキャリッジと、上記キャリッジに結合され、第１軸運動と実質的に直交して向けられた第２軸運動に沿って上記キャリッジに関し位置決め可能な第１基板グリッパと、上記キャリッジに結合され、上記第２軸運動に対し実質的に平行に向けられた第３軸運動に沿って上記キャリッジに関し位置決め可能な第２基板グリッパと、を備える基板ハンドラであって、上記第２グリッパは、第１グリッパに関し独立して移動可能である、上記基板ハンドラを提供する。
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【課題】 収納器収容・搬送ユニットにおいて収納器を効率的に搬送できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 搬送ロボット１３０ａは、ロードポート１０、第３載置部１５０、および棚配列１４０の間でＦＯＵＰ８０を搬送する。棚配列１４０を挟んで搬送ロボット１３０ｂと逆側に配設された搬送ロボット１３０ｂは、棚配列１４０および第２載置部１６０の間等でＦＯＵＰ８０を搬送する。第３載置部１５０では、それぞれマッピング処理、およびＦＯＵＰ８０に収納された基板の基板処理ユニット２００への搬送が実行される。これにより、複数の搬送を略同時に実行できる。また、搬送ロボット１３０ａ、１３０ｂは、空間的に相互に干渉することなくＦＯＵＰ８０の搬送を実行できる。 （もっと読む）

【課題】 板材を１枚ずつケースに収納する装置において、板材の表面に傷や汚れが付くことを防止し、かつ短いサイクルタイムで収納可能とする。
【解決手段】 板材を起立状態にして取出位置まで搬送する搬送手段20と、取出位置の下方にケース１を保持しておくケース保持手段13、25とを設ける。その上で、板材10の下端面を下側から受ける受け部39を有し、取出位置に有る板材10を受け部39上に保持して該取出位置から取り出し、その後下降してケース１の溝内に該板材10を送り込むガラス挿入ハンド22等から板材移載手段を構成する。そして少なくとも板材10が取出位置からケース１の溝内に入り込むまでの間、この板材10の一表面および他表面に気体を吹き付ける板材保持手段23により、該板材10を非接触で起立状態に保つ。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程における工程待ち時間を少なくし、稼働効率を向上させる。
【解決手段】洗浄液１４を貯留する洗浄槽１３と基板洗浄用カセット２４とを有し、基板洗浄用カセット２４に収容されている基板１００を基板洗浄用カセット２４と共に洗浄槽１３に浸漬して洗浄処理を行うものにおいて、基板洗浄用カセット２４が基板１００を１枚のみ収容可能であると共に、基板洗浄用カセット２４は洗浄処理を行う前の処理工程で処理される１枚毎の上記基板に同期して洗浄槽１３に浸漬される。 （もっと読む）