【課題】容易かつ効果的に洗浄されるリソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】表面を洗浄するメガソニックトランスデューサを有する液浸リソグラフィ投影装置、及び液体を通じてメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置を洗浄する方法が開示される。液体には流れ、望ましくは放射状流れが誘起される。 （もっと読む）

【課題】基板の成膜面を略鉛直下向きに保持して成膜を行う装置において、基板の昇降動作の信頼性を向上させる。
【解決手段】 基板Ｓを固定した基板アダプタ２の一部を把持し昇降するクランプブロック３１の昇降部の内壁３５ａを単一の部材によって構成する。その結果、昇降部の内壁３５ａに構成部材の接合による段差が生じなくなり、昇降部の内壁３５ａとクランプブロック３１の隙間を小さくしても、クランプブロック３１やクランプブロックに把持された基板アダプタ２の一部が引っかかることを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】処理中に基板の縁部を保護し、基板を支持部材に固定する方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板との接触を最小にし、改善された縁部の遮断を提供する。支持タブがルーフ下面から内向きに延びて、基板上に装置を支持し、装置の内端部が基板の縁部に近づいて、改善された縁部の遮断を提供する。変更可能な高さのルーフ下面が基板の縁部の上方に設けられ、大きい有効ルーフアスペクト比（ルーフ幅：基板上方のルーフ高さ）を提供して、装置及び基板の間、又は基板を越えてブリッジ層が形成される可能性を低減する。 （もっと読む）

【目的】半導体製造装置の位置決め装置において、高速・高精度な位置決めが実現できる移動体を提供すること。
【構成】位置決め装置の移動体である天板をＳｉＣのコンポジット材からなる一体中空構造体で構成し、軽量、高強度、高剛性を実現する。この中空構造体には、電磁継ぎ手やローレンツ力アクチュエータによって、制御特性に優れたステージ装置を実現する。さらに、中空構造体を製作する時、内部に粉体を入れて、ラップ加工することにより、ラップ面の面圧が均一になり高い面精度が実現する。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面の洗浄処理後に基板が汚染されることが防止された基板処理装置を提供する
【解決手段】
反転ユニットＲＴは、固定板３２、固定板３２の一面に対向するように設けられた第１可動板３６ａ、固定板３２の他面に対向するように設けられた第２可動板３６ｂおよびロータリアクチュエータ３８を含む。ロータリアクチュエータ３８は、第１可動板３６ａ、第２可動板３６ｂおよび固定板３２を水平軸ＨＡの周りで回転させる。反転ユニットＲＴにおいて、裏面洗浄処理前の基板Ｗは第１可動板３６ａの支持ピン３９ｃと固定板３２の支持ピン３９ａとにより保持された状態で反転され、裏面洗浄処理後の基板Ｗは第２可動板３６ｂの支持ピン３９ｄと固定板３２の支持ピン３９ｂとにより保持された状態で反転される。 （もっと読む）

【課題】基板の搬入および搬出を迅速に行うことが可能な反転装置、およびそれを備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 反転ユニットＲＴ１，ＲＴ２は、固定板３２、固定板３２の一面に対向するように設けられた第１可動板３６ａ、固定板３２の他面に対向するように設けられた第２可動板３６ｂおよびロータリアクチュエータ３８を含む。ロータリアクチュエータ３８は、第１可動板３６ａ、第２可動板３６ｂおよび固定板３２を水平軸ＨＡの周りで回転させる。第１可動板３６ａと固定板３２との間の距離Ｍ２および第２可動板３６ｂと固定板３２との間の距離Ｍ３は、基板の搬出入を行うメインロボットの２つのハンドの高さの差とほぼ等しく設定されている。 （もっと読む）

【課題】ステージの走査中に、ステージと基板との間の相対位置ずれを防ぐステージ装置、これを用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 レチクル６を搭載する移動ステージ２１の第１、第２の駆動方向であるＹ方向の正負の方向に平行なレチクル６の重心を通過する直線上で、レチクル６の重心を挟む移動ステージ２１上の一対の位置に設置したレチクル６を吸着保持する真空吸着クランプ７Ａ，７Ｂを有する。移動ステージ２１が第１の駆動方向に移動する時は、正方向の真空吸着クランプ７Ａによりレチクル６を保持して移動し、第２の駆動方向に移動する時は、反対方向の真空吸着クランプ７Ｂによりレチクル６を保持して移動する。 （もっと読む）

【課題】支持体に対するパターニングデバイスの滑動を防止することである。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。給湿器などの供給器が設けられて、水分子などの分子をパターニングデバイスのクランプ領域に提供する。 （もっと読む）

【課題】イオン注入ターゲットチャンバの現在温度、圧力を維持しながら、ウェハプレートをロードロックチャンバからイオン注入ターゲットチャンバ内に連続して搬入する装置、方法を提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造装置は、ロードロックチャンバ１０５と、ロードロックチャンバ内の搬入アセンブリ１２５と、ロードロックチャンバに気密封止して連結されたイオン注入ターゲットチャンバ１２０とを含む。ロードロックチャンバには、複数のウェハプレート１１０が格納される。各ウェハプレートは、その上に少なくとも１つの半導体ウェハ１１５を含む。イオン注入ターゲットチャンバは、現在搬入されているウェハプレート上にある半導体ウェハ中にイオン種を注入するように構成される。搬入アセンブリは、複数のウェハプレートのうちの次のウェハプレートを、ロードロックチャンバからイオン注入ターゲットチャンバ内に搬入するように構成される。 （もっと読む）

【課題】高い歩留まりでウエハ片をシートから効率的に剥離させることができるウエハ片剥離方法を提供する。
【解決手段】ウエハ片剥離方法は、シート１１上に粘着保持されたウエハであってダイシングされて多数のウエハ片に分割されたウエハのウエハ片をシート１１から剥離させる方法である。ウエハ片剥離方法は、熱剥離シートからなるシート１１のウエハを粘着保持していない側の面が、任意の部分を局部的に加熱することができる加熱ヘッド３５に対面するようにして、加熱ヘッド３５とシート１１とを接触させる工程と、シート１１のうち剥離対象であるウエハ片を粘着保持する部分を加熱ヘッド３５により加熱する工程と、を備えている。シート１１を加熱することによって、シート１１のウエハ片に対する粘着保持力を除去または弱める。 （もっと読む）

【課題】新規の基板キャリアおよび基板キャリアを使用する新規な方法により、非従来型基板にパターンを与える。
【解決手段】本発明の態様のうちの１つの態様によれば、基板キャリアと基板との間に生じた密閉空間内に確立されるバキュームを使用して、基板を所定位置に保持するように構成された基板キャリアが提供され、第２の態様によれば、基板を基板キャリアに着脱自在に固定する方法であって、基板と基板キャリアとの間に密閉空間を画定できるように、基板を基板キャリア上に位置決めし、基板と基板キャリアとの間の空間内にバキュームを確立させること、を含む方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】極低温に冷却した時、測定基準面に対し、試料ないしはウェハーが、振動やドリフトをすることのない装置を提供すること。
【解決手段】（ａ）測定基準面を形成するテーブルを有するハウジングに設けられた、断熱部材を介して支持され真空容器内に配置した試料ホルダと、（ｂ）前記ハウジング内に配置されたフレームであって、前記ハウジングと前記フレームとの間が第１緩衝機によって支持されたフレームと、（c）前記フレーム内に配置した冷凍機であって、該冷凍機が、該フレームと、前記真空容器の方向に冷凍機ヘッドを向けた該冷凍機との間に配設された第２緩衝機によって支持され、かつ、該冷凍機の該冷凍機ヘッドが、前記試料ホルダと該冷凍機ヘッドとの間に配設した可撓性熱伝導部材によって、該試料ホルダに接続してなる、試料冷却装置。 （もっと読む）

【課題】キャリアベース本来の機能を低下させることなく、表面の汚れや損傷を防止し、且つ見栄えも良好なキャリアベースを備えたロードポート装置を提供する。
【解決手段】上端部にウェハ移載窓１が形成されて、半導体製造装置の壁体の外側に着脱可能に装着される厚板状の装着盤２と、該装着盤２における前記ウェハ移載窓１の略下端部に手前側に水平に突設されたキャリアテーブルＴと、ウェハキャリアＫを載置するために、前記キャリアテーブルＴにウェハの搬出方向に沿って進退可能に配設されたキャリアベースＶとを備えたロードポート装置であって、前記キャリアベースＶが、ベースカバー体Ｃにより表面３全域が被覆されている。 （もっと読む）

【課題】拭き取り作業における試料へのパーティクルの再付着などが発生しない試料保持具を提供する。
【解決手段】セラミック基体の一主面上に備えられ、試料を保持するための複数のピン１と、セラミック基体上方側の主面の外縁部に、保持される試料との間を密閉する空間を形成するためのシール部と、を備えており、ピン１は、先端に向かって先細り状であり、複数の傾斜面６からなるショルダー部４を外周にわたって少なくとも１つ備えている。 （もっと読む）

【課題】スループット良く且つ高精度で試料の欠陥の検出が可能な基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置１は、真空状態のワーキングチャンバ３０と、Ｌ_aＢ_６電子源を備えた電子光学装置７０と、ワーキングチャンバへウェーハを搬出入するローダハウジング４０と、ワーキングチャンバに接続され、内部が雰囲気制御されているミニエンバイロメント装置２０と、を備える。ローダハウジング４０は、ミニエンバイロメント装置２０に接続する第１のローディングチャンバと、ワーキングチャンバに接続する第２のローディングチャンバと、第１及び第２のローディングチャンバの間の連通を選択的に阻止する第１のシャッタ装置２７と、第２のローディングチャンバとワーキングチャンバとの間の連通を選択的に阻止する第２のシャッタ装置４５と、を備え、第１及び第２のローディングチャンバには各々真空排気配管と不活性ガス用のベント配管とが接続される。 （もっと読む）

本発明は、バスとカッププレート及びローディングプレートを備えるローディングカップと、前記ローディングカップを研磨装置部のプラテンとスピンドルとの間で旋回及び昇降させる駆動装置部及び駆動軸と、前記ローディングカップと駆動軸との間を連結するアームとを含む構成において、前記バスとカッププレート及びローディングプレートの相互対応する位置には、１つ以上の通孔がそれぞれ貫通形成され、前記各通孔には、研磨されたウェーハ該当地点での膜質研磨厚さを測定するためのプローブ組立体がそれぞれ挿入設置され、前記アームの内部には、光源を含む通常の厚さ検出装置部と前記各プローブ組立体との間を連結する光ファイバケーブルが配置されてなる。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造で小型パネルから大型パネルまで汎用的に保持することができ、しかも大型のパネルを保持したとしてもパネルの周縁部が垂れ下がることなく、かつ、十分に高い吸引力を発揮することができるパネル保持台の提供。
【解決手段】 ガラスパネルに電子部品を装着するパネル組立装置に備えられ、当該パネル組立装置によって移動するガラスパネルを保持するパネル保持台１４１であって、基台１４３、ガラスパネル２００の保持範囲を拡縮可能に前記基台１４３に対し設けられ、ガラスパネル２００を直接保持する可動保持手段１４４とを備える。 （もっと読む）

【課題】コロナ放電式イオナイザやＸ線照射装置を用いることなく、基板保持位置の周囲に配置される周囲部材の除電を達成する。
【解決手段】スピンチャック１には、ウエハＷの裏面（下面）中央に近接する位置に吐出口を有する導電性液体供給管７が挿通されている。この導電性液体供給管７には、導電性液体バルブ８を介して、導電性液体が供給されるようになっている。ウエハＷの搬入に先立って、スピンベース５が回転されながら、導電性液体供給管７の吐出口から導電性液体が吐出されることにより、コロナ放電式イオナイザやＸ線照射装置を用いることなく、カップ３、スピンベース５および挟持部材６の除電を達成することができる。 （もっと読む）

【課題】 ドライエッチングに好適に用いられ、基板ホルダの周縁部とレジストの境界領域のエッチングを防止すると共に、基板ホルダのレジストによる汚染を防止する、基板ホルダ及び該基板ホルダを備えたドライエッチング装置を提供する。
【解決手段】 基板１００の周縁部１００ａを押圧して基板１００を保持する基板保持部１０と、基板保持部１０が基板１００を押圧した際、基板１００の周縁部１００ａとレジスト１１０の境界領域（図中、Ｂで示した範囲）を覆うように形成され、かつ、レジスト１１０に接触しない位置に設けられた庇部１２と、からなる基板ホルダ１及び当該基板ホルダ１を備えたドライエッチング装置により解決する。 （もっと読む）

【課題】可動子の温度上昇を抑え、可動子の熱変形などの影響を低減でき、周囲温度の変化への影響を低減することにより、高精度な位置決めを可能とする。
【解決手段】磁石を有する可動子９ａ、１０ａと、当該磁石に対向配置されたコイルを有する固定子９ｂ、１０ｂとを備え、当該コイルに通電することで前記可動子を少なくとも２次元方向に駆動し、所定の位置に位置決めする位置決め装置において、前記可動子は、被移動物体を保持する保持機構が設けられた第１の構造体３ａと、前記磁石が設けられた第２の構造体３ｂとを備え、前記可動子の内部に、前記第２の構造体を冷却する冷媒を流通させるための流路５を形成した。 （もっと読む）