【課題】基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止し、このことにより液処理後の基板の裏面に処理液が付着することを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１０には、基板Ｗを保持する保持プレート３０と、保持プレート３０の上方に設けられ、基板Ｗを下方から支持するリフトピン２２を有するリフトピンプレート２０と、保持プレート３０により保持された基板Ｗの裏面に処理液を供給する処理液供給部４０とが設けられている。処理液供給部４０は、リフトピンプレート２０の貫通穴２０ａを塞ぐよう設けられたヘッド部分４２を有している。処理液供給部４０およびリフトピンプレート２０は保持プレート３０に対して相対的に昇降するようになっている。 （もっと読む）

【課題】真空成膜装置のチャンバ内を真空に保ったままでワークの表裏両面に交互に繰り返し成膜することができるワーク反転ユニットを提案するものである。
【解決手段】真空成膜装置の中で回転するドームに複数のワーク反転ユニット３０が装着される。ドームは減速ギヤ装置とモータとによって回転され、急激な加速と減速とが可能である。ドームの下部位置には成膜物質を飛翔させる成膜物質発生源が配置される。ワークホルダ３２には成膜物質が堆積されるガラス板３１が固定される。ワーク反転ユニット３０は、ワークホルダ３２を回転自在に軸支するとともにワークホルダ３２とギヤ連結されたウエイト４１を備える。ウエイト４１はドームが急激に加速又は減速されたときに自身の慣性力で移動する。ワークホルダ３２は、ウエイト４１の移動によって回転し支持枠３５に形成された２つのストッパによって１８０°異なる姿勢に保持される。 （もっと読む）

【課題】載置台に大きな熱応力が発生することを防止して、この載置台自体が破損することを防止することができる載置台構造を提供する。
【解決手段】処理容器内に設けられて処理すべき被処理体を載置するための載置台構造において、被処理体を載置して支持すると共に被処理体を加熱する加熱手段が設けられた誘電体よりなる載置台と、処理容器の底部側より起立させて設けられ、上端部が載置台の下面に接合されると共に下端部が開放された複数の保護支柱管と、保護支柱管内に挿通されると共に上端部が加熱手段に接続されたヒータ給電棒と、処理容器の底部側に設けられると共に、保護支柱管内に連通されたパージガス流通用気密室と、パージガス流通用気密室内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段とを備える。これにより、載置台に大きな熱応力が発生することを防止して、この載置台自体が破損することを防止する。 （もっと読む）

【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】制御装置により、シートＳを仮保持したまま６つの補助シートホルダＳＨ_２，ＳＨ_３が−Ｚ方向に微小駆動され、それらの保持面がシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めされ、これにより、シートＳに幅方向（Ｙ軸方向）及び長尺方向に関する適当なテンションが加えられ、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。すなわち、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉにＸＹ二次元方向のテンションが付与された状態で、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分が、シートホルダＳＨ_１の平坦状の保持面に倣わされる。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シートＳの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、シートの所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 基板を化学的に処理するための処理システムおよび方法を提供することである。
【解決手段】 化学的に基板を処理するための処理システムおよび方法であって、この処理システムは、温度制御される化学的処理チャンバと、化学的処理に対して独立して温度を制御される、基板を支持するための基板ホルダとを備えている。基板ホルダは、化学的処理チャンバから断熱される。基板は、壁温度、表面温度およびガス圧を含む制御状態の下で、プラズマ無しで、ガス化学にさらされる。基板の化学的処理は、化学的に基板上のさらされた表面を変更する。 （もっと読む）

【課題】重量が比較的軽く、ポーラスセラミックス板が枠体から浮き上がることのない保持テーブルアセンブリを提供することである。
【解決手段】負圧吸引源に連通する第１吸引路を有する支持基台と、支持基台に着脱可能に固定され、支持基台の第１吸引路に連通する第２吸引路を有する保持テーブルとを具備し、保持テーブルは、ウエーハの直径より大きい保持面を有する保持部と、保持面の反対側で第２吸引路が形成された底部と、保持部と底部を連結する環状側壁部が一体的に形成されたポーラスセラミックス板と、ポーラスセラミックス板に載置されるウエーハの保持領域を除く全外周を被覆するコーティング部材とからなり、保持テーブルは、それぞれ一端が第２吸引路に連通する複数の放射状吸引路と、第２吸引路と同心円状に且つ各放射状吸引路と交差するように形成された複数の円形吸引路とを保持部と底部とに挟まれた中間領域に有する。 （もっと読む）

【課題】軽量でまた剛性である一方、熱感度が低い基板支持体の構造を提供する
【解決手段】 リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板支持体と、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、を含み、基板支持体が開放気泡プラスチック発泡体材料で作成された部品を含む。 （もっと読む）

【課題】被加工物を収納する収納手段を備えた加工装置において、が収納手段に対する被加工物の出し入れをしやすくする。
【解決手段】搬送手段が収納手段３１から被加工物Ｗ１を搬出して保持手段に搬送し、保持手段に保持された被加工物Ｗ１が加工される加工装置において、収納手段３１に被加工物Ｗ１を載置可能な被加工物載置台３３を備えており、被加工物載置台３３には、被加工物の収納手段３１への搬入または被加工物Ｗ１の収納手段３１からの搬出時に被加工物Ｗ１の出入口となる入出部３３２と、被加工物Ｗ１の搬出入方向と水平面内において垂直に交わる方向を回転軸３３３ａとして入出部３３２が上方を向くように被加工物載置台３３を回転させる回転機構３３３とを備えることにより、オペレータから入出部３３２を見やすくなり、所望の位置に被加工物Ｗ１を収納しやすくなると共に、所望の被加工物Ｗ１を取りだしやすくなる。 （もっと読む）

一時的なウェハーボンディングのための改善された装置が一時的なボンダークラスター及びデボンダークラスターを備える。一時的なボンダークラスターは、接着剤層によるボンディング、接着剤層とリリース層との組み合わせによるボンディング及びＵＶ光硬化性接着剤層とレーザー吸収リリース層との組み合わせによるボンディングを含む電子ウェハーボンディング工程を行う一時的なボンダーモジュールを備える。デボンダークラスターは、熱摺動デボンダー、機械的デボンダー及び照射デボンダーを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の基板処理部が搬送路に沿って配列されている場合でも、基板搬送時間の増加を抑制または回避することができる基板処理装置および基板搬送方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、複数の処理ユニット６と、シャトルＳＴと、メインロボットＭＲと、ＭＲ移動機構７と、シャトル移動機構とを含む。複数の処理ユニット６は、それぞれ基板Ｗを１枚ずつ処理するためのものであり、搬送路Ｃ１に沿って配列されている。また、シャトルＳＴは、基板Ｗを待機させておくためのものであり、搬送路Ｃ１に沿って移動可能に設けられている。また、メインロボットＭＲは、シャトルＳＴと各処理ユニット６との間で基板Ｗを搬送するためのものであり、搬送路Ｃ１に沿って移動可能に設けられている。シャトル移動機構は、搬送路Ｃ１に沿ってシャトルＳＴを移動させる。また、ＭＲ移動機構７は、搬送路Ｃ１に沿ってメインロボットＭＲを移動させる。 （もっと読む）

【課題】製膜される膜の膜質を安定させることができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】内部で製膜処理が行われる真空容器と、製膜処理が施される基板Ｓが載せられる基板テーブル１２と基板Ｓおよび基板テーブル１２における温度分布を所定の範囲内に制御する基板ヒータ１３と、基板テーブル１２の基板Ｓと接する面における複数の箇所の温度を測定する温度測定部２３−１から温度測定部２３−９と、基板Ｓが基板テーブル１２に載せられて、基板Ｓの温度分布を均一化させる温度安定化期間が終了する前に、基板Ｓに対して製膜処理を開始させる制御部６と、が設けられ、制御部６は、複数の箇所における温度の間での温度差に基づいて、安定化期間の長さを制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】、生産コストの高騰や、装置の大型化を招来することなく、サセプターの品質や生産性を飛躍的に向上させることができるＣＶＤ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 炭素質基材５を支持部材により支持した状態で、内部にガスを導入することにより、炭素質基材５の表面にＳｉＣ被膜を形成するＣＶＤ装置において、上記支持部材は、上記炭素質基材５が載置されて炭素質基材の下部を支持する下部支持部材６と、上記炭素質基材５の上部を支持する上部支持部材１３とを有し、この上部支持部材１３は上記炭素質基材５の外周縁に設けられると共に、この上部支持部材１３にはＶ字状の溝１３ｄが形成され、このＶ字状の溝１３ｄにより構成される炭素質基材配置空間１７内には、十分な遊びを有する状態で上記炭素質基材５が配置されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均等で、かつ再現性のよい基板加熱を行う。
【解決手段】基板５０から形成される半導体装置の製造装置であって、基板５０が載置される基板載置面を有する基板載置台２１と、基板載置台２１にガスを送るガス導入手段２９、３０、３１、３４と、基板載置台２１内に設けられ、基板載置面に熱を伝えるヒータ２４と、基板載置台２１内に設けられ、基板載置面の温度を測定するセンサー２６と、センサー２６からの温度に基づいてヒータ２４に加える電力を調整するヒータ加熱制御手段２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】ウェハ裏面のパーティクル付着が極めて少なく、アライメント時間が短いプリアライナを提供することを目的とする。
【解決手段】ウェハを保持して旋回させる機構が、ウェハが載置されるパッド５と、前記ウェハの側面を把持可能なクランプ１４と、パッド５とクランプ１４の両方を支持して回転する旋回ベース２と、を備え、クランプ１４が、パッド５に載置されたウェハに対して、上昇位置でウェハの側面を把持し、下降位置でウェハの裏面よりも低い位置に移動するよう、旋回ベース２に対して昇降自在に支持されるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】電子部品の破損や生産効率の低下を招くことのないパレット自動交換装置を提供する。
【解決手段】基部５１に対して回転変位可能な回転部を有し、回転部にウェハシートが装着されたパレットと、回転部と基部５１とを係合部材６２によって係合させることで回転部を回転不可能に基部５１に固定する手段と、回転部に設けられた従動ギヤ８０に駆動ギヤ８１を係合させることで回転部に回転駆動力を付与する手段と、を備え、駆動ギヤ８１が従動ギヤ８０に係合したときに回転部と基部５１との係合が解かれ、駆動ギヤ８１の回転駆動力が回転部に伝達される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィマシンのワークピース２０８の交換中に、投影レンズ１６に隣接するギャップに液浸流体２１２を維持するための装置及び方法が開示される。
【解決手段】装置及び方法は、ワークピース２０８上に像を投影するために構成された光学アセンブリ１６と、光学アセンブリ１６に隣接するワークピース２０８を支持するために構成されたワークピーステーブル２０４を含むステージアセンブリ２０２を備える。環境システム２６が設けられて、光学アセンブリ１６とステージアセンブリ２０２上のワークピース２０８の間のギャップに液浸流体２１２を供給し除去する。ワークピース２０８の露光が完了した後、交換システム２１６がワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える。液浸流体維持システム２１４が設けられて、第１ワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える間、ギャップに液浸流体２１２を維持する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置において、簡易な構造で確実にワークと金属製マスクを固定できるワーク保持治具を提供する。
【解決手段】処理チャンバと、プラズマ生成部と、ステージと、ワーク保持治具とで少なくとも構成され、プラズマ生成ガスを吸引しプラズマを処理基板上にダウンフローさせて基板を処理するプラズマ処理装置において、ワーク保持治具が、処理基板６０を所定の位置に保持すると共に磁気を生じさせるワーク保持台５０と、ワーク保持台に保持された処理基板上に載置固定される磁性体からなるメタルマスク８０とによって構成され、ワーク保持台が、ワーク保持台から延出する少なくとも一対の位置決めロッドを具備すると共に、処理基板及びメタルマスクには、所定の位置に位置決め用孔が形成され、処理基板及びメタルマスクを、位置決めロッドがそれぞれの位置決め用孔に貫通するようにワーク保持台に載置することにある。 （もっと読む）

【課題】 ウェハの除電を効率よく行うことができ、基板電流をより正確かつ精密に測定可能なウェハ除電方法を提供する。
【解決手段】 本発明のウェハの除電方法は、電子ビーム照射によりウェハＷＥＨに流れる基板電流を真空中の試料室内で測定する前に、Ｘ線イオナイザー１’を用いて軟Ｘ線を気流存在の条件下で、ウェハＷＥＨに向けて照射して、ウェハＷEＨに帯電している電子を除電する。 （もっと読む）

【課題】
ステージの温度調節において、流体循環系の流量を低減すること、または、流体循環系を不用にすること。
【解決手段】
基板（１０１）を保持するウエハステージ（４）または原版を保持するレチクルステージ（２）を有し、ウエハステージ（４）に保持された基板（１０１）を露光する露光装置であって、ウエハステージ（４）に設けられた気体室（１０３）と、気体室（１０３）の内部で気体の圧力を変化させてウエハステージ（４）の温度を調節する調節手段（１０７，１０８）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板とその保護シートの高速搬送を実現し、併せて、高精度で高品質の積載梱包を達成する。
【解決手段】ガラス基板梱包装置は、保護シート３上にガラス基板４が載置される載置ステーションと、保護シート３とガラス基板４とを交互に積載する積載ステーションと、保護シート３上に載置されたガラス基板４を保護シート３と共に保持し、積載ステーションに積載する積載手段としてのガラス基板積載装置とを備える。ここで、ガラス基板積載装置を構成するロボットアームは保護シート３およびガラス基板４を保持する保持部４３を有し、この保持部４３は、ガラス基板４を吸着する複数の吸着パッド４５と、載置された状態のガラス基板４からはみ出た保護シート３の辺縁部分のうち互いに対向する２つの辺縁部３ａ，３ｂを挟持する挟持部４６とを有する。 （もっと読む）