【課題】マッピング情報を活用できる基板処理システムを提供する。
【解決手段】マッピング情報を活用できる基板処理システムは、複数枚のウエハを収納したポッドのキャリア識別子を認識する主制御部と、ウエハを搬送する動作制御部を主制御部からの指示に従って制御する搬送制御部と、ポッドのスロットにおけるウエハの有無を検知するマッピング装置と、を備えており、主制御部はキャリア識別子にマッピング装置の検知結果を含むマッピング情報を関連付けて蓄積してキャリア識別子−マッピング情報蓄積テーブル９１を作成する。テーブル９１に基づいて特定キャリア履歴ファイル９２を抽出することにより、マッピング情報を活用できる。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。
【解決手段】下地パターンが形成され、下地パターンの上にフォトレジストが塗布された基板１の表面を複数の区画に分割し、分割した区画毎に下地パターンの歪みを検出し、検出結果に基づき、分割した区画毎の下地パターンの歪みに応じて、描画データを補正する。基板１をチャック１０に搭載し、チャック１０と、光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査して、基板１にパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】平流し搬送される被処理基板に対し所定の処理を施す基板処理装置において、前記基板の被処理面に対し均一な処理を施す。
【解決手段】基板搬送路３に沿って被処理基板Ｇを平流し搬送する基板搬送手段６と、前記基板搬送路の途中に設けられ、前記基板搬送手段により搬送される被処理基板に所定の処理を施す基板処理部１５と、前記基板搬送路の幅方向に延設された短冊状のダミー基板８，９と、前記ダミー基板を前記被処理基板と同じ高さで基板搬送方向に沿って移動させるダミー基板移動手段１０，１１と、前記ダミー基板移動手段の制御を行う制御手段５０とを備え、前記制御手段は、前記基板処理部において搬送される前記被処理基板に所定の処理が施される際、前記被処理基板に前記ダミー基板を近接させた状態で、前記ダミー基板移動手段により前記ダミー基板と前記被処理基板とを同期して移動させる。 （もっと読む）

【課題】枚様式に１枚ずつ被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムを短縮し、スループットを向上する。
【解決手段】被処理基板Ｇを浮上させる浮上ステージ３と、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置された一対のガイドレール５と、前記一対のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリア６と、前記浮上ステージの基板搬入位置Ｈにおいて、搬入された前記基板に対し待機位置から所定位置まで進退自在に設けられ、前記基板に接して該基板を所定位置に配置するアライメント手段７ａと、前記浮上ステージの基板搬入位置において、前記アライメント手段により所定位置に配置された前記基板を該基板の下方から支持する基板支持手段８と、前記基板キャリアと前記アライメント手段と前記基板支持手段の動作を制御する制御部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板移送ロボットを使用することなく、基板を水平方向に移送しつつ基板上にフォトレジスト膜を形成する。
【解決手段】基板処理装置１０はコーティングモジュール１００と乾燥モジュール２００を含み、コーティングモジュール１００は基板２を水平方向に移送して基板２を移送する間、基板２上にフォトレジスト組成物を供給してフォトレジスト膜を形成し、乾燥モジュール２００はコーティングモジュール１００から直接基板２を移送され基板２上に形成されたフォトレジスト膜を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】半導体基板処理動作中に流体を分配する装置。
【解決手段】当該装置は、複数の流体源に結合された複数の分配ノズルを備える中央流体分配バンクと、中央流体分配バンクの第１の側に位置された第１の処理チャンバとを含む。また、当該装置は、中央流体分配バンクの第２の側に位置された第２の処理チャンバと、中央流体分配バンクと第１の処理チャンバと第２の処理チャンバとの間で並進するようになっている分配アームとを含む。さらに、当該装置は、第１の処理チャンバと第２の処理チャンバとの間に位置された分配アームアクセスシャッタを含む。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィ装置のスループットを改善することができる、インプリントリソグラフィ装置用の振動絶縁システムを提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ装置１００は、基板ホルダ１２０に対してインプリントテンプレートホルダ１１０を変位させるアクチュエータ１３０を備える。インプリントテンプレートホルダ１１０および／または基板ホルダ１２０の支持構造１４０は、基部１６０に取り付けられた振動絶縁システム１５０に取り付けられる。振動絶縁システム１５０は、基部１６０に対する支持構造１４０の振動を絶縁する。インプリント過程中にアクチュエータ１３０を制御する制御ユニットは、振動絶縁システム１５０の調節部材を制御して、インプリント過程の少なくとも一部の間、振動絶縁システム１５０の動特性を調節し、支持構造１４０に作用する力による、基部１６０に対する支持構造１４０の変位を低減させる。 （もっと読む）

【課題】なるべく少ない回収用カセットで、ラインの停止や滞留を防止する。
【解決手段】カセット毎情報を常時監視し、このカセット毎情報と各ラインの最小必要カセット数とに基づいて、各ブロックに最小必要な回収カセット数を算出し（Ｓ３）、回収カセット数が最小必要数よりも不足しているブロックに、回収カセット数が最小必要数よりも上回っている他のブロックから、回収カセットを補充する搬送指示を出力すること（Ｓ１３）を特徴とするカセット搬送制御方法。 （もっと読む）

【課題】装置コストを増大させることがなく、乾燥処理ユニットで乾燥して形成される塗布膜の膜厚のムラの発生を防止できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】搬送路３４と、被処理面に処理液が塗布処理された状態で搬送路３４を搬送されている基板Ｇの上方で、搬送路３４の搬送方向又は搬送方向と逆方向に流れる気流を形成し、気流により基板Ｇを乾燥処理する気流形成部１１０とを有する。気流形成部１１０は、搬送路３４を搬送されている基板Ｇの上方で気体を吐出する複数の吐出部材１２０と、搬送路３４を搬送されている基板Ｇの上方で気体を吸引する複数の吸引部材１４０とが、搬送方向に沿って交互に配列するように設けられてなる。吐出部材１２０は、気体を吐出する吐出口１２２と、吐出口１２２に気体を供給する供給系１１２と吐出口１２２とを接続する供給流路１２４とが形成されている。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に処理を行う基板処理装置において、基板全面に均一に基板処理を行うことができる基板処理装置及びその基板処理装置における基板処理方法を提供する。
【解決手段】搬送路３４の途中に設けられたステージ面１５２を有し、被処理基板Ｇをステージ面１５２の上に載置する載置ステージ１５０と、ステージ面１５２の下方で搬送路３４を横切る方向に延びる軸１５６に沿って回転可能に設けられ、ステージ面１５２より上方に突出可能な半径を有する回転体の一部を軸１５６に沿って切り落とした形状に形成され、それぞれ第１及び第２の回転角度位置にあるときにステージ面１５２と略平行な面を形成する第１及び第２の弦部１６４、１７４を備えた第１及び第２の回転体１６０、１７０を有する。 （もっと読む）

【課題】装置コストを増大させることがなく、乾燥処理により形成される塗布膜の膜厚のムラの発生を防止できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板を搬送する搬送路３４と、搬送路３４の途中に設けられ、気体を噴出する多数の噴出孔が狭ピッチで形成されたステージ面１１１を有し、被処理面に処理液が塗布処理された基板に噴出孔から噴出した気体を吹き付けることにより、基板をステージ面１１１の上で浮上させ、基板を乾燥処理する浮上ステージ１１０と、噴出孔から噴出する気体を常温より高い温度で噴出孔に供給する第１の供給源と、搬送路３４の搬送方向に沿って浮上ステージ１１０の上流側に設けられ、基板を浮上ステージ１１０に搬入駆動する搬入駆動部１５０と、搬送路３４の搬送方向に沿って浮上ステージ１１０の下流側に設けられ、基板を浮上ステージ１１０から搬出駆動する搬出駆動部１５２とを有する。 （もっと読む）

【課題】この発明は搬送される基板の端部をその厚さに係らず確実に保持できるようにした基板の搬送装置を提供することにある。
【解決手段】複数の搬送軸４に設けられた搬送ローラ５及び基板の幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラ５ａと、搬送軸の上方に支持された上載せローラ軸１６と、上載せローラ軸に設けられ端部支持ローラによって幅方向の端部下面が支持された基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラ２５と、搬送軸の両端部に設けられ外周面が軸方向に対して傾斜した第１の傾斜面３４に形成された第１の荷重調整ローラ３１と、上載せローラ軸に設けられ外周面が第１の傾斜面と同じ角度で同じ方向に傾斜した第２の傾斜面３５に形成されていて、第１の荷重調整ローラに対して軸方向に相対的に移動させて第１の傾斜面との接触度合を調整することで、上載せローラによる基板の端部上面を押圧する押圧力を設定する第２の荷重調整ローラ３２を具備する。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに独立して移動可能な第１、第２テーブルと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１、第２テーブルの一方との間に液浸領域が維持される第１状態から、投影光学系と第１、第２テーブルの他方との間に液浸領域が維持される第２状態に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、投影光学系の下方で第１、第２テーブルを共に移動する駆動システムと、を備え、第１テーブルは、基板の載置領域及びその周囲領域を有し、周囲領域と基板との隙間からの液体の流出を抑制するように周囲領域に近接させて基板を載置領域に載置し、基板は、第１テーブルによって液浸領域に対して相対的に移動される。 （もっと読む）

【課題】光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動しながら、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給する。チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０を、光ビームによる基板１の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板１に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画する。パターンのエッジを構成する線の角度が、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０のいずれの空間的光変調器（ＤＭＤ２５）の角度とも大きく異なるときは、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０を用いてパターンのエッジを描画すると、互いに異なった傾きの光ビーム照射領域が重なり合って、１つの光ビーム照射装置２０だけを用いるときよりもパターンのエッジが滑らかに描画される。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト塗布現像装置から露光装置へロードロック装置を介して搬送する際に、ウエハ温度の変化を低減することができるフォトレジスト塗布現像装置を提供する。
【解決手段】開示されるフォトレジスト塗布現像装置１は、基板にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成部と、フォトレジスト膜形成部においてフォトレジスト膜が形成された基板を加熱する加熱処理部と、加熱処理部において加熱された、フォトレジスト膜が形成された基板を常温に冷却する冷却部と、冷却部において常温に冷却された基板を所定の温度に加熱する加熱部６１と、フォトレジスト膜の露光のために、基板を減圧下で搬出するロードロック室Ｌ１，Ｌ２と、加熱部６１からロードロック室Ｌ１へ基板を搬送する搬送部６２とを備える。 （もっと読む）

【課題】塗布処理の際に被処理基板上から蒸発するガスの回収を首尾よく行えるとともに、塗布処理空間の省スペース化、フットプリントの縮小、空気清浄の設備および消費エネルギーの節減を実現する。
【解決手段】レジスト塗布ユニット（ＣＯＡＴ）４４の塗布処理部８４は、浮上ステージ９６上で空中に浮いている基板Ｇをステージ長手方向に搬送しながら、長尺型のレジストノズル１００よりレジスト液を帯状に吐出して、基板Ｇ上にレジスト液の塗布膜を形成する。レジストノズル１００は、塗布処理室８０の搬出口８０ｂの近傍に配置される。レジスト塗布ユニット（ＣＯＡＴ）４４の塗布処理室８０と気流乾燥ユニット（ＫＤ）４６の乾燥処理室１３６とは両室の境界で隔壁１３８を共有しており、塗布処理室８０の搬出口８０ｂが乾燥処理室１３６の搬入口１３６ａとなっている。 （もっと読む）

【課題】高精度な露光を実現する。
【解決手段】 サブルーチン２０１及びステップ２０５において、投影光学系ＰＬの最良結像面及び多点ＡＦ系のオフセット成分を較正情報として検出する。ステップ２１５でのアライメント系ＡＬＧによるウエハアライメントマークの計測中に、多点ＡＦ系により、ウエハの露光対象面の面形状に関する情報（Ｚマップ）を検出し、ステップ２１９では、走査露光中におけるウエハステージのＸＹの位置指令プロファイルとともに、オートフォーカス・レベリング制御に関する位置指令（Ｚ，θｘ，θｙ）に関するＺ位置指令プロファイルを作成し、ステップ２２１においてその位置指令に基づいてオープン制御を行いつつ、走査露光を行う。 （もっと読む）

【課題】減圧乾燥処理の開始からパージング終了までの全処理工程時間を通してチャンバ内の雰囲気温度の変動を小さくすること。
【解決手段】この減圧乾燥ユニット１２は、被処理基板Ｇの平流し搬送を行うコロ搬送路３８Ｂをチャンバ４０内に引き込み、基板リフト機構６０によりチャンバ４０内で基板Ｇをリフトピン６２で上げ下げする。そして、チャンバ４０内の雰囲気温度の変動を低減させるために、コロ搬送路の近くで基板Ｇの下を覆うように遮蔽板１００を配置している。この遮蔽板１００は、リフトピン６２を昇降可能に貫通させるための円形の開口１００ａと、内部コロ搬送路３８Ｂのコロ４２Ｂとの干渉を避けるための矩形の開口１００ｂとを有している。 （もっと読む）

【課題】歩留まり低下を防ぐことが可能な紫外線照射装置、紫外線照射方法及び基板処理装置を提供すること。
【解決手段】吸引機構を有するチャンバと、前記チャンバ内に設けられ、前記基板を保持して移動可能に設けられた保持機構と、前記保持機構に保持された前記基板に紫外線を照射する紫外線照射機構と、前記チャンバ内の前記基板を加熱する加熱機構と、前記チャンバ外部に設けられた駆動源、及び、前記保持機構に接続され前記駆動源の駆動力を前記保持機構に伝達する伝達部材、を有する移動機構とを備える。 （もっと読む）