【課題】基板の搬送を行うにあたり、基板にパーティクルが付着することを抑制し、基板の処理システムで製造される製品の歩留まりを向上させる。
【解決手段】基板搬送装置は、内部に基板を収容し、側面に基板の搬入出口９８が形成された基板収容容器９１と、基板収容容器内９１の基板Ｗの裏面に向けて所定のガスを噴射するガス噴射部９２と、ガス噴射部９２から供給される前記所定のガスの供給量を調整し記基板収容容器内９１の基板Ｗを所定の高さに制御する制御部９３と、を有している。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システム１には、ウェハ搬送装置４０の周囲に、第１〜第４のバッファ装置４１〜４４と第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４が配置されている。第１〜第４のバッファ装置４１〜４４は、複数のウェハを鉛直方向に多段に保管するバッファ部を有している。第１〜第４のバッファ装置４１〜４４は、バッファ部搬送機構によってレール４５上を第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４に対向する位置に移動可能になっている。第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４の各処理装置には、当該処理装置と第１〜第４のバッファ装置４１〜４４との間でウェハを搬送するウェハ搬送機構が設けられている。 （もっと読む）

【課題】高生産性のシステムおいて不要な時間を削減し基板の受渡し機能を有して且つ、速やかに高温の基板を所定温度に降温温調する基板処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハWを加熱処理する加熱処理部と、加熱処理部で加熱処理されたウエハを加熱処理部から受け取って受渡し部に載置する第１の搬送アームＡ１と、受渡し部に載置されたウエハを該受渡し部から受け取って搬送する板状のピンセット３４を有する第２の搬送アームＣと、を具備する基板処理装置において、受渡し部は、ウエハを載置する冷却面１１ｂを有する冷却プレート１１と、冷却プレートの内部に設けられ該冷却プレートを加熱処理の温度よりも低い温度に冷却するための温調水を通流させる温調流路１６と、冷却プレートの冷却面に設けられると共に、第２の搬送アームの基板保持部の平面形状よりも少し大きい相似形状で且つ、保持平面を冷却面に対して出没可能な凹部１１ａと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システム１には、第１のバッファ装置４０と第２のバッファ装置４１が設けられている。第１のバッファ装置４０と第２のバッファ装置４１は、複数のウェハを鉛直方向に多段に保持して一時的に保管するバッファ部と、バッファ部を鉛直方向に移動させ、かつ回転させるバッファ部移動機構とを有している。第１のバッファ装置４０の周囲には、第１の処理装置群Ｇ１及び第３の処理装置群Ｇ３が配置され、第２のバッファ装置４１の周囲には、第２の処理装置群Ｇ２、第４の処理装置群Ｇ４及び第５の処理装置群Ｇ５が配置されている。第１〜第５処理装置群Ｇ１〜Ｇ５の各処理装置には、当該処理装置と第１のバッファ装置４０又は第２のバッファ装置４１との間でウェハを搬送するウェハ搬送機構が設けられている。 （もっと読む）

【課題】レーザー測長系によるチャックの位置検出を中断させることなく、基板をチャックに対してθ方向の回転が無い姿勢でチャックに搭載する。
【解決手段】基板１をチャックへ搬送する前に、基板１を温度調節装置５０に搭載して基板１の温度を調節する。温度調節装置５０に基板１をθ方向へ回転する回転機構８０を設け、温度調節装置５０に搭載された基板１のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、基板１を温度調節装置５０からチャック１０へ搬送する前に、基板１をθ方向の傾き分だけ逆方向へ回転して、基板１のθ方向の傾きを補正する。基板１をチャック１０に搭載する前にチャック１０をθ方向へ回転する必要がないので、レーザー測長系によるチャック１０の位置検出が中断されない。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板処理設備及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理設備は、一方向に順次配置されたロードポート、インデックスモジュール、第１バッファモジュール、塗布及び現像モジュール、第２バッファモジュール、露光前後処理モジュール、及びインタフェースモジュールを有する。塗布及び現像モジュールは、異なる層に配置される塗布モジュールと現像モジュールとを有する。露光前後処理モジュールは、異なる層に配置された前処理モジュールと後処理モジュールとを有する。前処理モジュールは、露光前にウエハ上に保護膜を塗布する工程を行う。後処理モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程、及び露光後ベーキング工程を行う。前処理モジュールと後処理モジュールとには、それぞれ基板を搬送するロボットが配置される。 （もっと読む）

【課題】
厚さの異なる基板が露光装置内に搬送された場合において、基板ステージのＺ方向の調整にかかる時間を減少させ、露光装置のスループットを低減させない基板搬送システムを提供する。
【解決手段】
厚さが異なる複数のトレイ（２）を収納する収納部（１３）と、搬送される基板（１）の厚さを測定する測定部（１９）と、測定された厚さに基づいて、前記厚さに対応するトレイ（２）を前記複数のトレイ（２）から選択し、選択されたトレイ（２）に前記基板（１）を載置するためのユニット（９）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チャックを複数の部材で構成する際、各部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制する。
【解決手段】チャック１０を、複数のチャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃで構成する。各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃに、基板１を真空吸着する１つ以上の真空区画を設け、チャック部材とチャク部材との境界１０ｄ，１０ｅを含む領域に、基板１を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板１を真空吸着する。各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの設置高さが微妙に異なり、チャック部材とチャク部材との境界１０ｄ，１０ｅに段差があっても、チャック１０に搭載された基板１は、境界１０ｄ，１０ｅを含む領域で真空吸着されないので、段差に倣うことなく緩やかに変形する。従って、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの設置高さの違いによる露光むらが抑制される。 （もっと読む）

【課題】１層に対する複数回パターニングを高効率で行うことが可能な基板処理システムを提供すること。
【解決手段】キャリアブロックＳ１と、そこから一枚ずつ搬入された基板に対し１回目の塗布処理を行う第１塗布処理部３１、１回目の現像処理を行う第１現像処理部４１、２回目の塗布処理を行う第２塗布処理部３２、２回目の現像処理を行う第２現像処理部４２を有する処理ブロックＳ２と、露光装置との間で基板を受け渡すインターフェイスブロックＳ３と、これらの間で基板を搬送する基板搬送機構とを具備し、一つの基板に対して少なくとも２回の露光を行う露光装置に対応可能であり、第２現像処理部４２の上に第１塗布処理部３１が積層されてなる第１積層体と、第１現像処理部４１の上に第２塗布処理部３２が積層されてなる第２積層体とが並置されている。 （もっと読む）

【課題】大型基板をより安定的に搬送する。
【解決手段】複数本の搬送ローラ３０の駆動により基板Ｗを搬送する基板搬送機構。搬送ローラ３０は、二本の単位ローラ軸３１ａ，３１ｂと、これら単位ローラ軸３１ａ，３１ｂに固定されて基板Ｗを支持するローラ本体３２と、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂが同軸上で一体に回転するように単位ローラ軸同士を中継する中継手段３８と、を含む。中継手段３８は、単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部のうち一方側の端部に設けられる第１磁石部（磁気連結板３８の磁石）と、他方側の端部に設けられる第２磁石部（磁気連結板３８の磁石）と、これら磁石部が所定隙間を隔てて互いに対向して単位ローラ軸同士を連動させるように各単位ローラ軸３１ａ，３１ｂの端部位を回転可能に支持する中央支持板４４等と、を含む。 （もっと読む）

【課題】実際に基板を処理させる処理部の数が変動しても、複数種類の処理を所定の順番どおりに効率よく基板に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴ、加熱冷却ユニットＰＨＰ、冷却ユニットＣＰの順番で基板Ｗを搬送し、複数種類の処理を基板Ｗに行う。たとえば、レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴ、加熱冷却ユニットＰＨＰおよび冷却ユニットＣＰをそれぞれ３台、２台、１台使用しているところ、１台の加熱冷却ユニットＰＨＰを使用処理部から外れた場合であっても、残っている使用処理部によって、所定の順番で基板Ｗに処理を行うことができる。 （もっと読む）

本発明は、光電池素子の製造のための大規模生産プラントにおける異なる生産ステーション間でガラスシートを高速輸送するための方法及び装置に関し、前記生産プラントはクリーンルーム条件を前提とし、ａ）昇降ガントリーを搬送するための自由に移動可能な台座と、ｂ）伸縮自在なジャッキ板によってガラスシートを垂直方向に輸送するための少なくとも１つの垂直昇降籠であって、前記板は２つの反対方向に伸張可能であり、局部的に下降及び上昇する機能を有し、ガラスシートを連続的に、前記垂直昇降籠の一方から他方に輸送することができ、ｃ）クリーンルームにおける運転のために、耐摩耗性材料で製造され、排気を出さないようにカプセルに包まれた機械的な動作部分、及びｄ）台座を動作させるためのケーブルレス電力供給ユニットを備えたことを特徴とする。
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【課題】温調手段上に基板が正常に吸着されなかった場合に、特別な検出装置を設置することなく、吸着異常の原因を判定し、露光装置のダウンタイムを低減する。
【解決手段】基板を吸着保持し、基板の温調を行う温調手段と、該温調手段からの基板の落下を防止する落下防止部材と、基板の受け渡しを行うための吸着機構及び上下駆動機構を備えた突き上げピンと、吸着機構及び駆動機構を制御する制御系とを備え、基板の保持及び温調を行う基板保持方法において、基板を温調手段に吸着保持させる際に、吸着異常が発生した場合、吸着異常の原因が、基板が落下防止部材に乗り上げたことに起因するものかを判定する判定工程Ｓ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】露光装置内の汚染が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。インターフェースブロック１５は、第１および第２の検査ユニットＥＥ１，ＥＥ２を含む。第１の検査ユニットＥＥ１は、露光処理前の基板Ｗの状態の検査を行い、第２の検査ユニットＥＥ２は、露光処理後の基板Ｗの状態の検査を行う。 （もっと読む）

【課題】シート状体へのレジスト液塗布時の飛散による問題を解決した搬送具を提供する。
【解決手段】シート状体１１を載置するための針状の複数の支持体１２と、その基部を固定するベース部１３とから構成する。ベース部１３は三角錐状の支持体受け部１４を有する。針状の支持体１２は、尖端がほぼ一線をなすように、かつ適宜間隔及び適宜配置で直立させて設ける。支持体受け部１４は、シート状体１１への塗布物が付着しにくいポリテトラフルオロエチレン等の樹脂製とする。塗布物（例えばレジスト）が飛散しても拭い取りやすい。ベース部１３の皿状の受け基部１５の隅部に、シート状体１１に塗布されずに支持体受け部１４上に落ちた塗布物を外へ引き出すための真空引き口１６を備える。レジスト等の塗布物は、針状の支持体１２、特にその尖端には付着、再付着しにくく、良好な搬送状態を実現できる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの熱膨張又は熱収縮に面内分布が生じることを抑制する。
【解決手段】この半導体装置の製造方法は、第１吸着工程（ステップＳ３０）、開放工程（ステップＳ４０）、第２吸着工程（ステップＳ５０）、及び露光工程（ステップＳ６０）を有する。第１吸着工程では、半導体ウェハを、ウェハステージが有するウェハチャックに吸着させ、半導体ウェハの温度を調節する。開放工程では、半導体ウェハをウェハチャックから開放する。第２吸着工程では、半導体ウェハを、露光用のウェハステージが有するウェハチャックに吸着させる。露光工程では、半導体ウェハを露光する。 （もっと読む）

【課題】基板の汚染を抑制しつつ、基板を長時間保管する。
【解決手段】保管装置３は、複数のウェハＷを上下方向に多段に収容し、内部を密閉可能な収容容器１１０を有している。収容容器１１０内には、複数のウェハＷの上方を覆うように拡散板１２０が設けられている。拡散板１２０には、当該拡散板１２０を厚み方向に貫通する貫通孔１２１が複数形成され、拡散板１２０は、給気口１３０から供給された不活性ガスを水平面内で均一に拡散させることができる。流路Ｒにおける収容容器１１０の下面には、給気領域Ａ１に不活性ガスを供給する給気口１３０が形成されている。排気領域Ａ３における収容容器１１０の下面には、排気領域Ａ３から収容容器１１０内の雰囲気を排気する排気口１３２が形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板をより安定的に支持できるスピンヘッドを提供する。
【解決手段】本発明によるスピンヘッドは、支持板と、基板の側面を支持するように前記支持板に設置される複数のチャックピンと、前記支持板の中心から外側に向かう第１方向と垂直な第２方向に沿って前記チャックピンを移動させるチャックピン移動ユニットを包含することを特徴とする。
このような特徴によると、支持板の回転による遠心力がチャックピンに及ぶ影響を最小化して基板を安定的に支持できるスピンヘッドを提供できる。 （もっと読む）

【課題】大入熱エッチング処理時における半導体ウエハの温度を、高速かつ面内均一に制御するための手段を提供する。
【解決手段】処理ガスをプラズマ化し、該プラズマにて試料台１に載置された被加工試料Ｗの表面処理を行うプラズマ処理装置において、試料台に設けられ冷却サイクルの蒸発器を構成する冷媒流路２を有し、前記冷媒流路２内に供給される冷媒のエンタルピを制御することで冷媒流路２すなわち試料台内の流動様式を気液二相流に保つことにより、被加工試料の温度を面内均一に制御する。プラズマの入熱量等が増加するなどして冷媒流路２内で冷媒のドライアウトが発生するような場合には、圧縮機７の回転数を増加させ、冷媒流路２内におけるドライアウトの発生を抑制する。また、冷媒流路２に供給される冷媒が液状になっていた場合には、熱交換水用の流量弁１６及び温度制御水槽１７の制御により、冷媒流路２内に供給される冷媒を気液二相状態に保つ。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置内の汚染を低減するとともに、スループットの向上を可能とする、レジスト塗布現像装置とＥＵＶ露光装置との間に好適なインターフェイス装置及び基板搬送方法を提供する。
【解決手段】インターフェイス装置３０は、開閉可能な第１搬送口１Ｖ３を通して露光装置との間で基板を受け渡す減圧可能な第１搬送室１ｂ；第２搬送口４Ｖ１を通して第１搬送室１ｂとの間で基板を受け渡し、第３搬送口４Ｖ１３を通して塗布現像装置２０との間で基板を受け渡す複数のロードロック室４ａ〜４ｄ；第４搬送口１Ｖ１を通して第１搬送室１との間で基板を受け渡す、第２搬送室１ａ；第２搬送室１ａと連通する第５搬送口を通して基板を受け渡す、基板を加熱する複数の加熱モジュール２ａ〜２ｃ；第２搬送室１ａと連通する第６搬送口を通して基板を受け渡す、基板を冷却する複数の冷却モジュール３ａ〜３ｃを含む。 （もっと読む）