【課題】 本発明は、基板収納容器に振動や揺動が加わっても、基板が基板収納容器内で移動することを防止して、基板の端部が基板の構成部品との衝突により損傷することを防止することができる基板収納容器を提供することを課題とする。
【解決手段】 基板支持部６は、基板１の下側から水平な状態で支持する。基板押さえ部１２は基板支持部６の近傍に垂直方向移動可能に配置される。基板押さえ部１２は基板支持部６とは反対側の上側から基板１に当接して、基板１を基板支持部６との間に挟みこんで固定する。基板押さえ部１２は、基板収納容器の底部２を貫通して垂直方向に移動可能な可動支柱１０に取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】
空気浮上させた基板を、安定状態で搬送することである。
【解決手段】
ベース１に一定の取付間隔Ｌをおいて多数本の空気噴出部２を配設し、各空気噴出部２の上面部７を、各空気噴出部２から噴出される空気によって波形曲線形状に変形される基板Ｇの凸部８に対応した曲面形状として、搬送方向Ｒにおける基板Ｇの先端部が垂れ下がることを抑制すると共に、基板Ｇと前記上面部７との浮上間隔δ₁ を一定に保持させることにより、基板Ｇの浮上状態を一定とし、しかも、基板Ｇと空気噴出部２の各コーナー部７ａとが接触するおそれのない安定状態で搬送する。 （もっと読む）

【課題】処理対象物にガスを安定して供給することが可能なガス供給部材及び処理装置を提供する。
【解決手段】ガス供給部材２０は、処理対象物２を保持する処理部材１０との間に処理対象物２上にガスを供給するガス供給路２５を形成する本体部２１を備える。本体部２１にはガス供給路２５の途中に位置するガス溜まり部２４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】ポッドオープナでのウエハの位置ずれを検出可能とする。
【解決手段】ポッドのドアを開閉するポッドオープナ２０のウエハ出し入れ口５０にロータリーアクチュエータ６０を設置し、ロータリーアクチュエータ６０のアーム６１にブラケット６２によってマッピング装置７０とウエハ位置ずれ検出装置８０とを設置する。ウエハ位置ずれ検出装置８０は複数個の限定反射形センサ８１により構成し、各限定反射形センサ８１は投光部８２と受光部８３とを略同じ方向を向いてウエハ９に非接触に配置し、投光部８２からの検出光８４がウエハ９の外周面で反射し、反射光８５が受光部８３によって受光されたか否かで、ウエハ９の位置ずれの有無を判断するように構成する。ウエハの位置ずれを検出することで、ウエハ移載装置のツィーザがウエハに衝突する事故を未然に防止できる。
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【課題】ガラス薄板やフィルム基板の製造工程において、基板の洗浄・乾燥などの処理や収納・搬送などの際に、カセット内の基板同士が接触することがなく、基板へのダメージ等が生ずるおそれがなく、基板の姿勢を安定化させ、処理性能の効率アップに有効な基板保持構造を提供する。
【解決手段】カセット内に基板２０，２１を収納するための基板保持構造において、前記基板２０，２１は矩形板状体の形状を成し、前記基板２０，２１は撓ませられた曲面状態にして、前記カセット内に保持される基板保持構造とし、また、この基板保持構造において、前記カセットは、外枠構造部材と、その内部に前記基板２０，２１を収納するための略直方体形状の収納部と、を備え、前記基板２０，２１は、前記収納部内に複数枚数が所定間隔で並列的に配置される。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板への液体の供給むらを防止して、被処理基板の表面を全面に亘って均一に処理することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板１が着脱可能に保持される保持プレート１１と、保持プレート１１を支持すると共に保持プレート１１をその面内方向に回転させる回転手段１３を含む駆動手段１２と、所定の液体を被処理基板１表面に供給する供給手段１７とを具備し、且つ保持プレート１１を回転させた状態で、被処理基板１の回転中心の位置を被処理基板１内の任意の位置に移動させる変更手段１４を有するようにする。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェハが厚み２００μｍ以下に薄層化された場合であっても、その破損を防止し得る半導体ウェハ表面保護フィルム及び該保護フィルムを用いた半導体ウェハの保護方法を提供する。
【解決手段】 流れ方向（ＭＤ）、横断方向（ＴＤ）共に、破断強度が５．０〜５０．０ＭＰａとなるフィルムの片表面を電子線照射、プラズマ照射などの表面改質することにより耐熱性を向上させた基材フィルムの片表面（表面改質の逆側）に粘着剤を塗布したことを特徴とする半導体ウェハ表面保護用粘着フィルムを使用し、一連の半導体製造フローを一つの粘着フィルムで加工可能にする半導体ウェハ表面保護方法。
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【課題】 半導体基板に加わる摩擦力を抑えて半導体基板をステージに固定することができる吸着装置を提供する。
【解決手段】 静電チャック１１は、ステージ１３を有する。ステージ１３は、ウエハ１２の周縁部近傍を吸着することが可能な第１吸着部１６と、ウエハ１２の中央部近傍を吸着することが可能な第２吸着部１７とを有する。第１吸着部１６には、第１電極１９及び第２電極２０が設けられている。第２吸着部１７には、第３電極２１及び第４電極２２が設けられている。第１吸着部１６の第１電極１９及び第２電極２０のみに電圧を印加して、ステージ１３に対し凸状に湾曲したウエハ１２の周縁部１２ｂのみを吸着する。 （もっと読む）

【課題】 回転時における基板の破損および処理不良を防止することができる基板保持装置、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｗを水平姿勢で保持しつつ回転させるスピンチャックは、中空構造のスピンベースと、そのスピンベース上に設けられた複数の保持部材とを備える。保持部材６００ａは、スピンベース７００に回動自在に取り付けられる軸部６０５を備える。軸部６０５の上部に平板部６０６が固定され、平板部６０６の略中央部に水平支持ピン６０３が上方へ突出するように形成されている。水平支持ピン６０３からずれた箇所に２つの保持ピン６０１，６０２が上方へ突出するように形成されている。２つの保持ピン６０１，６０２はともに基板Ｗの周縁部に当接し、基板Ｗの周縁部をスピンチャック５０１の中心に向かう方向に押圧して、基板Ｗを保持する。保持ピン６０１，６０２は互いに所定の距離離間している。これにより、保持ピン６０１，６０２間には隙間６０９が存在する。 （もっと読む）

【課題】 搬送時における基板の破損を防止するとともに、基板の搬送効率を向上でき、かつ基板を収納および排出する効率を向上できる基板収納容器を提供する。
【解決手段】 基板収納容器１０は、収納容器本体１１の内部に複数の基板を多段支持する棚１２が形成され、棚１２は所定間隔をおいて収納容器本体１１の対向する側面１９および側面２１をつなぐ複数の支持材１２ａで構成され、収納容器本体１１の正面２２および背面２２’が基板を棚１２に搬入出可能となるように開口され、棚１２に搬入された基板の端部を固定する固定具ユニット２３を取付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に処理を施す基板処理装置において基板上の処理のむらを抑制する。
【解決手段】基板処理装置１では、基板９を保持しつつ回転する回転部５１の環状面５１ａに対向して環状のカバー部６１が設けられ、カバー部６１の外周に沿ってカバー部６１に接続されるダクト本体６３により、カバー部６１の外周に沿ってカバー部６１と環状面５１ａとの間の間隙６２に連通する排気路６４が形成される。排気路６４の断面積は回転部５１の回転方向に沿って漸次増大し、これにより、基板処理装置１では、間隙６２における空気の流入速度のばらつきを緩和することができ、基板９上の処理のむらを抑制することができる。 （もっと読む）

本発明は、レチクルを収納し、第１のコンテナに収容される第２のコンテナを備えるレチクル容器を提供する。第２のコンテナは、衝撃および振動絶縁部材を備える第１のコンテナ内に保持されるため、第１のコンテナ内で多自由度の移動が可能である。レチクルが第２のコンテナの内部に固定されることにより、レチクル容器からレチクルへの衝撃や振動の伝達が実質的に軽減される。
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【課題】熱処理中に発生する基板のスリップ転位欠陥発生を少なくし、高品質な半導体装置を製造することができる熱処理装置、半導体装置の製造方法及び基板の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】
熱処理装置１０は、基板６８を処理する反応炉４０と、反応炉４０内で基板６８を支持する基板支持体３０とを有する。基板支持体３０は、基板６８と接触する支持部５８と、この支持部５８を載置する載置部６６とを有し、この載置部６６には支持部５８が嵌合する嵌合溝７４が形成されている。
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【課題】 基板処理時における基板の破損を防止し、基板の飛散を防止することができる基板処理装置および基板飛散防止方法を提供する。
【解決手段】 回転処理部５ａ〜５ｄは、基板Ｗを水平に保持するとともに基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Ｗを回転させるためのスピンチャック１１を備える。スピンチャック１１は、モータＭのシャフト１２により水平に固定されている。基板Ｗは、洗浄処理および乾燥処理を行う場合に、スピンチャック１１により水平に保持された状態で回転される。ケーシングＫの外壁に振動検出センサ１０が取り付けられている。振動検出センサ１０は基板Ｗの回転時に発生するケーシングＫの振動を測定する。振動検出センサ１０は制御部４に接続されており、ケーシングＫの振動に関するデータを制御部４へ出力する。制御部４は、ケーシングＫの振動に関するデータに基づいてモータＭの動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】パターン形成面と収納カセットの内側との擦れを防止し、収納したカラーフイルタ基板に傷が付かず、収納カセット内に異物が発生しない基板用収納カセットを提供する。
【解決手段】基板２０上の一方面に形成したマーク等を含むパターン形成面４０と対向する側面に、収納カセット１０内側の頂上部から側壁２２側の底部２３へ山型の裾野状の傾斜面５１を付ける形状に形成した山型溝部品１１を設け、該山型溝部品１１上にカラーフイルタ基板２０を載置する。 （もっと読む）

【課題】 ウエハに損傷を与えることなくウエハの片面を薄くすることができるウエハ処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ホットプレート１４において接着用ワックスにより治具ＰとウエハＷとを貼り付け、第１搬送機構３１、姿勢搬送機構３２、プッシャ３３、第２搬送機構３２によりウエハＷが密着された治具Ｐをホットプレート１４から処理用搬送機構２３へ搬送し、その処理用搬送機構２３が、ウエハＷが密着された治具Ｐを処理槽２５内に貯留された処理液に浸漬させる。したがって、従来のように、研磨定盤がウエハＷに直接当たって損傷を与えることもなくウエハＷを薄くする等の加工処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】シリンダ駆動方式の移動フィンガを有する基板移送装置を提供する。
【解決手段】基板移送装置は、駆動手段によって動作が制御されるロボットアーム部と、前記ロボットアーム部の先端に設けられ、基板Ｗが置かれるブレード１２０と、前記ブレード１２０に設けられ、前記ブレード１２０に置かれた基板Ｗを正位置に位置させると同時に基板Ｗを固定するクランピング部材１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】ウェハを真空吸着して保持部に吸引保持した場合でも，接触によるウェハの抗折強度の低下を軽減させることのできるウェハ搬送装置を提供する。
【解決手段】ウェハＷを真空吸着により吸引保持する保持部と，保持部により保持されたウェハＷを所定の位置に搬送する搬送部とを備えるウェハ搬送装置１００において，保持部における真空圧力を，ゲージ圧で−７０ｋＰａ以上−３０ｋＰａ以下とする。この真空圧力を調整するために，真空ポンプ１６０と，真空ポンプ１６０と保持部とを連通する第２の配管１５３とを備え，第２の配管１５３に，保持部における真空圧力を調整する圧力調整手段１５５を備える。これにより，ウェハＷを真空吸着によって保持部に吸引保持した場合でも，接触によるウェハＷの抗折強度の低下を軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】ウェハとマスクとの位置合わせを、ウェハを汚染したり傷つけることなく簡易かつ正確に実行し得る、マスク位置合わせ装置を得る。
【解決手段】環状枠２１を、ウェハ１０の上面側からウェハ載置治具１に向けて徐々に降下させる。環状枠２１の降下が進むと、やがてウェハ位置補正機構２６ｃのローラ３３が、ウェハ１０の右端角部に接触する。すると、ウェハ位置補正機構２６ｃのローラ３３によってウェハ１０が左方向に押圧されて、ウェハ１０が左方向に変位する。左方向へのウェハ１０の変位が進むと、ウェハ１０の左端部が、ウェハ位置補正機構２６ｃに対向するウェハ位置補正機構２６ｆのローラ３３に接触する。その結果、ウェハ１０は、ウェハ位置補正機構２６ｃ，２６ｆの各ローラ３３によって両側から押圧されることにより、ウェハ載置面上の所定箇所に位置決めされる。 （もっと読む）

【課題】基板周辺でのプラズマ等における放電状態の安定化を図り、真空状態での製膜処理における膜厚分布をより均一に導くことを可能とした基板保持部材を有する真空処理装置を提供すること。
【解決手段】処理室内に設置される台座をなすヒータカバー１５に各辺が１ｍを超える基板Ｋを固定するための基板保持部材２０は、基板厚みの５％以上３０％以下の厚みを有して基板縁部を押さえる板部材２１と、基板厚みと略同一な厚み部分を有して前記板部材２１を支持する支持部材２２とを備える構成とした。また、支持部材２２を基板Ｋから離間させるために板部材２１に延長部を追加して基板Ｋを押さえる構成を追加した。 （もっと読む）