【課題】ウェーハを吸着保持する吸引部を構成する物質の粒子の脱落によるウェーハの損傷を防止できるウェーハ搬送装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ搬送装置１を構成する吸引部１００を、炭化珪素粒子の固相焼結によってポーラス状に形成する。結合剤を用いないため、吸引部１００を構成する粒子が不安定な状態で内包されることがなく、粒子がウェーハＷに落下してウェーハＷを損傷させることがない。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子等の硬く脆い被搬送物を非接触状態で搬送するとき被搬送物の破損を防止する。
【解決手段】 椀状体１２の開口部１２ａ中央に邪魔板部材１５を設け、開口部１２ａを被搬送物２０に対面させて邪魔板部材１５の背部から気体ａを椀状体１２内に供給し、該気体が被搬送物２０の表面に沿って流れることで邪魔板部材１５と被搬送物２０との間の空間Ｘに発生する相対負圧を利用して被搬送物２０を椀状体１２に非接触で保持させる非接触型搬送装置において、邪魔板部材１５を椀状体１２内部に設けると共に開口部１２ａを被搬送物２０より大面積とし、椀状体１２の周壁部に前記表面に沿う気体流を排出する排気孔１２ｂを設ける。 （もっと読む）

【課題】 基板を収納自在なカセットと基板に処理を施すプロセス装置との間で基板を搬送する基板移載装置において、前記カセットにおける基板の収納効率を上げることができ、構成が簡素であると共に、設置面積を小さくすることができる基板移載装置を提供する。
【解決手段】 カセットＣＳから基板Ｗを搬出可能なカセット側コンベヤ３と、前記基板Ｗに加工を施すプロセス装置へ前記基板Ｗを供給可能なプロセス側移載ハンド５と、前記カセット側コンベヤ３と前記プロセス側移載ハンド５との間で前記基板Ｗを受け渡すことが可能な基板受け渡し手段７とを有する。 （もっと読む）

【課題】カセットとウエハガイドとの間でウエハを移し替える際におけるウエハの欠けや割れ、異物発生を未然に防止することができる半導体ウエハ移替装置を得ること。
【解決手段】ウエハ１１を収容するカセット１２を載置するカセット載置台２０と、カセット載置台２０に対向して配置され、カセット１２内のウエハ１１を保持するウエハガイド３０と、ウエハ１１を移動させる押上げクシバ４１と、押上げクシバ４１をカセット１２とウエハガイド３０との間で移動させるアクチュエータ４３と、押上げクシバ４１にかかる荷重を検出する荷重センサ４４と、荷重センサ４４によって検出された荷重が、ウエハ１１に損傷を生じさせる所定値以上か否かを判定する荷重表示判定部４５と、荷重表示判定部４５によって押上げクシバ４１にかかる荷重が所定値以上の場合にアクチュエータ４３を停止させる制御部４６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハ押え蓋を半導体ウエハ上に載せるときに、ウエハ押え蓋の先端部が半導体ウエハ上を擦り、この部分に傷が発生しやすい。
【解決手段】リング状のフランジ部４およびこのフランジ部４の内側に形成された半導体ウエハ載置用の段部５を有するウエハホルダ２と、このウエハホルダ２に載置された半導体ウエハＷを押さえるウエハ押え蓋３とを備えたウエハ保持治具であって、 前記フランジ部４の内側面には、半導体ウエハＷの外周面の一部をガイドするガイド部４aを有し、前記フランジ部４には、前記ガイド部４a付近においてその厚みを他の部分より厚くした肉厚部９が形成されている。 （もっと読む）

【課題】ウェーハを保持する保持部を加熱してダイボンディング用テープをウェーハに貼着することができるチャックテーブルにおいて、加熱された保持部を破損させないようにする。
【解決手段】ウェーハを吸引保持する保持テーブル１と、保持テーブル１を加熱するためのヒータ５１を備えたベーステーブル５とから構成されるチャックテーブル６において、
保持テーブル１を構成する吸引プレート３を炭化珪素の焼結体で形成し、吸引プレートに熱を伝導する支持プレート２と吸引プレート３とをあそびがある状態で締結する。 （もっと読む）

半導体ウェファ収納装置又はウェファボックスは、平面の床を備えた下部構造と、そこから立ち上がる円筒形壁とを含む。二重の同心円の壁構造はスロットを含んでいて、スロットは、運搬時に半導体ウェファを保護するため、及び半導体ウェファの動きを妨げるために、内側の円筒形壁とウェファとの間に形成される隙間に延伸する本体チップウェファピンを受容する。代案として、単一の円筒形壁がスロットを含んでいて、スロットは運搬時に半導体ウェファを保護するため、及び半導体ウェファの動きを妨げるために、円筒形壁の範囲内に形成される隙間の内側に延伸するフィンを含む押出し成形のフィン付きピンを受容する。半導体ウェファ収納装置又はウェファボックスは、さらに下部構造に係合される蓋を含んでいて、それによって運搬時に押出し成形のフィン付きピンを捕捉している。
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【課題】 位置決め過程においてダスト等を発生させることなく、複数の半導体回路部材を高精度で位置決めできる位置決め方法とその装置、並びに当該位置決め方法と装置を用いた半導体装置の製造方法と製造装置を提供する。
【解決手段】 位置決め用基板２に設けられた複数の位置決めストッパー３それぞれに、気流発生装置４と傾斜手段５とセンサー７とが設けられた位置決め装置１を用いることにより、複数の半導体回路部材１０の位置を各々のセンサー７によって検知でき、制御手段８がその検知結果に応じて各気流発生装置４を個々に制御でき、位置決めされた半導体回路部材１０から位置決め用基板２に一時固定する。 （もっと読む）

【課題】板ガラスや液晶表示装置等に用いるカラーフィルター基板を傷、破損から守り、保管、輸送に便利な基板収納体を提供する。
【解決手段】基板３と離間体５とを交互に積み重ねた積重体を基板収納容器に収納した収納体であって、基板収納容器は、積重体を、基板を水平とした状態で載置可能な支持面を備えた支持台と、前記支持台に載置された積重体の上面全域に均一な押圧力を作用させ、積重体を支持台に押し付け固定する押圧手段１５とを有し、離間体はクッション性を有する材質であり、離間体の基板との接触部は、押圧手段により押圧されて圧縮され、離間体の基板との非接触部が基板の側部クッション材として具備される。 （もっと読む）

半導体ウェファ収納装置又はウェファボックスは、平面の床と、そこから立ち上がる二重の同心円の円筒形壁構造とを備えた下部構造含む。二重の同心円の円筒形壁構造は、スロットを含んでいて、スロットを介して掛け金要素は、半径方向に軸回転する。掛け金要素は、内部パッド付きスペーサ要素を含む。掛け金要素は、パッド付きスペーサ要素がウェファ収納スペースから相対的に離れる外側の位置と、パッド付きスペーサ要素がウェファ収納スペースに突き当たる内側の垂直な位置との間で軸回転し、そこで半導体ウェファを押し付ける。蓋の傾斜部は、外側の位置にある掛け金要素を捕捉し、内側の垂直な位置へ軸回転するよう掛け金要素を押込めて、蓋に形成されたスロットによってこの位置で移動止めの係合をする。
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【課題】基板を処理する間、基板を支持台に適切に支持させるとともに、基板を支持台に載置したり、基板から取り上げたりする場合にも基板を適切に扱える機構を提供することを目的とする。
【解決手段】基板９０の周辺部に当接する第１支持ピン３３と、基板９０の中央部に当接する第２支持ピン３４とを設ける。第１支持ピン３３の下端はリフトプレート３５１に固設された摺接板３５２によって支持し、第２支持ピン３４の下端はかさ上げ部材３５４によって支持する。かさ上げ部材３５４の下部をリフトプレート３５１に固設された摺接板３５３を貫通するように配置し、リフトプレート３５１に対して所定の範囲で昇降自在に支持する。第２支持ピン３４およびかさ上げ部材３５４の上下方向の寸法を合わせると、保持面３０から固定プレート３５０の上面までの寸法となるように設計する。 （もっと読む）

【課題】 極めて薄いシンウエハーを安全にかつ確実に支持することができると共に容易に出し入れできるようにする。
【解決手段】 内部に１枚のシンウエハー４Ａを収納する容器本体２と、当該容器本体２に取り付けられる蓋体３とを備えた枚葉収納容器１である。容器本体２側に位置して蓋体３を底面側から支持する底面支持部材３５と、蓋体３側に位置して上側表面側から支持する表面支持部材３６とを備えた。底面支持部材３５は、シンウエハー４Ａの中央部分を支持する中央支持部３７と、外周部分を支持する外周支持部３８と、径方向外方から支持する周縁支持部３９と、上記中央支持部３７と外周支持部３８とを一体的に結合する環状板部４０を備えた。表面支持部材３６は、シンウエハー４Ａを上側から覆う円盤部４３と、上記底面支持部材３５と共に上記シンウエハー４Ａを挟むようにして支持する当接部４４，４５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 板ガラスや液晶表示装置等に用いるカラーフィルタ基板を傷、破損から守り、保管、輸送に有効な基板収納容器を提供する。
【解決手段】 複数基板を積み重ねて構成した積重体を収納するための収納容器であって、前記積重体を、基板を水平とした状態で載置可能な支持面を備えた支持台と、前記支持台に載置された積重体の上面全域に均一な押圧力を作用させ、前記積重体を前記支持台に押し付け固定する押圧手段と、前記支持台上に、前記支持台に載置された前記積重体を包囲するように脱着可能に取り付けられた第１の蓋体と、前記第１の蓋体を包囲するように脱着可能に取り付けられた第２の蓋体とを有することを特徴とする基板収納容器。 （もっと読む）

【課題】フラッシュランプを用いて急速加熱する半導体ウエハが割れることなく、且つ、該半導体ウエハが飛び跳ねることが無い半導体ウエハ急速加熱装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ急速加熱装置は、複数本配列されたフラッシュランプ５と、該フラッシュランプ５から放射される光を被加熱物側に反射する反射板６と、からなる光源部２、半導体ウエハＷを支持する支持用台１０を配置した加熱処理チャンバ３、を具備し、前記支持用台１０は、該支持用台上に凹部が設けられ、該凹部を覆うように該半導体ウエハＷを配置した場合に、該支持用台１０と該半導体ウエハＷとの間に空間が形成される。 （もっと読む）

【課題】板状のワーク１０を搬送するウォーキングビーム式の搬送装置において、板状のワーク１０の搬送過程におけるワーク１０の破損を防止する。
【解決手段】移動ビーム３上におけるワーク１０の搬送方向所定間隔おきにワーク受け部４が設けられており、このワーク受け部４の受け面が、凸凹形状に形成されている。これにより、ワーク受け部４上に異物がのった場合、この異物が凹部４ｂに入りこむ確率が高くなるので、ワーク受け部４上にワーク１０が当接したときに、ワーク受け部４の凸部４ａとワーク１０との間に異物が挟まりにくくなり、異物が原因となってワーク１０が損傷することが回避される。 （もっと読む）

【課題】 噴出する気体の流量を増大させることなく板状の被搬送体を傷付けずに搬送することができる気体浮上搬送装置を提供すること。
【解決手段】 平板基板２に対してエアを噴射して搬送面４から平板基板２を浮上させるエア浮上ユニット３を複数連設し、エア浮上ユニット３の搬送面４の搬送方向後方に形成された受取端４Ｂで平板基板２を受け取り、搬送面４の搬送方向前方に形成された送出端４Ａから平板基板２を送り出しながら、平板基板２を搬送面４に対して非接触状態で順次搬送し、搬送方向に沿って隣り合うように配置された２つのエア浮上ユニット３のうち、搬送方向後方に配置された一方のエア浮上ユニット３の送出端４Ａが、他方のエア浮上ユニット３の受取端４Ｂよりも高い位置にある。 （もっと読む）

【課題】 基板と支持片が擦れて基板が損傷したり、塵埃が発生するのを防ぎ、基板の周縁部や裏面が汚れたり、傷付くのを抑制できる基板収納容器及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 複数枚の基板Ｗを整列収納する容器本体１と、容器本体１を形成する一対の側壁内面にそれぞれ配設されて容器本体１の正面側に位置し、基板Ｗの側部周縁を支持する第一の支持片２０と、容器本体１を形成する一対の側壁内面にそれぞれ配設されて容器本体１の背面壁側に位置し、基板Ｗの側部周縁を支持する第二の支持片２４とを備える。そして、基板Ｗの側部周縁と接触する各側壁４の接触部５、第一の支持片２０、及び第二の支持片２４を容器本体１よりも低摩擦性の樹脂層３０で被覆する。 （もっと読む）

【課題】大型化基板に応力を生じさせる撓みを低減するとともに、基板の撓み状態の変化を抑制し、確実に搬送保持して基板の破損を防止できる搬送保持装置および搬送保持方法を提供する。
【解決手段】矩形薄板状の基板１を保持して所定の位置に搬送する搬送保持手段３と、基板１を保持する基板保持手段２とを備え、搬送保持手段３が基板１を所定の撓んだ形状に変化させ、基板保持手段２は基板１の対角状に４箇所あるコーナ部をそれぞれ保持固定する内部角部２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄを有し、かつ、内部角部２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄの対角距離は基板１の対角長よりも短く形成された構成である。 （もっと読む）

【課題】 損傷しやすい被搭載物品や固定を要する部材を適切に輸送等することのできる固定キャリアを提供する。
【解決手段】 基材１と、基材１の表面に積層被覆されて半導体ウェーハを着脱自在に粘着保持する凹凸に変形可能な保持層１０とを備え、基材１の周縁部を除く表面から複数の突起を突出させてその先端面を保持層１０の裏面に接触させるとともに、基材１に、複数の突起と保持層１０の間の区画空間に連通する給排孔を穿孔する。そして、保持層１０の変形領域１１の一部に、複数の非粘着ライン１２を形成する。半導体ウェーハに粘着しない非粘着ライン１２を形成するので、保持層１０の変形の際、保持層１０の表面と半導体ウェーハとの間に空気の流通路を確実かつ迅速に形成し、半導体ウェーハの取り外しの契機とすることができる。 （もっと読む）

【課題】電気研磨および／または電気めっきプロセスにおいて、ウェーハを移動させるロボットアセンブリにおいて、エンドエフェクタ真空カップ内の粒子を取除き、真空通路に酸などが入るのを防止する装置および方法を提供する。
【解決手段】エンドエフェクタ３０６は、真空弁３２２を介して真空源と、窒素弁３２０を介して加圧窒素源と連結されている。真空弁３２２がオンされると、ウェーハをエンドエフェクタ３０６に押し付けて保持するように、真空カップ３０２内の圧力を低下させる。真空弁３２２がオフされ、かつ、窒素弁３２０がオンされると、エンドエフェクタ３０６は、真空カップ３０２内の圧力が増大されウェーハを開放する。ウェーハが保持されていない時、または移動されていない時は窒素弁３２０をオン状態のままにして、真空カップ３０２内において周囲環境圧力に近いか、またはこの周囲環境圧力よりも高い圧力を維持する。 （もっと読む）