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Fターム[5F044KK04]の内容

ボンディング (23,044) | フェイスダウンボンディング用配線基板 (5,003) | 基板 (2,939) | セラミック基板 (128)

Fターム[5F044KK04]に分類される特許

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【課題】ダイシング時およびフリップチップ実装時のアライメントマークの認識が良好な電子デバイス用接着組成物を用いた電気的接続信頼性の高い電子素子の実装方法を提供する。
【解決手段】電子素子上に形成されたバンプと実装回路基板上に形成された電極パッドとを接触接続する電子素子の実装方法であって、少なくとも(A)バンプ形成面に光線透過率70%以上100%以下の電子デバイス用接着層が形成された複数の電子素子を有する電子デバイス基板をダイシングにより個片化する工程、(B)電子デバイス用接着層が形成された電子素子を所定の温度で実装回路基板上の電極パッドに圧着し、バンプと電極パッドとの電気的接続を行う仮圧着工程および(C)電子デバイス用接着層を硬化させる本圧着工程を有する電子素子の実装方法。 (もっと読む)


【課題】 半田内にボイドが発生するのを防ぎ、作業性を向上させる。
【解決手段】 複数個の集積回路素子を配列して形成された集積回路素子ウェハにおける、それぞれの集積回路素子に形成された集積回路素子側パッドにAuバンプを設けるAuバンプ形成工程と、集積回路素子ウェハのAuバンプが形成された面に、Auバンプより大きい貫通孔がAuバンプの位置に対応して設けられたメタルマスクを重ね、半田を印刷してAuバンプの表面に半田を設ける半田印刷工程と、Auバンプの外面に半田を設けた後に加熱処理を行う第一の加熱処理工程と、第一の加熱処理工程の後に個々の集積回路素子に個片化する個片化工程と、加熱処理用のトレーに載置された容器に集積回路素子を載置し、加熱処理を行う第二の加熱処理工程と、容器と圧電振動子とを接合して圧電発振器とする圧電振動子接合工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体発光デバイスを実装するために前処理する方法を提供する。
【解決手段】発光デバイスは、サブマウントへの実装のための実装面を有する。本方法は、実装面以外の発光デバイスの少なくとも1つの表面を、その少なくとも1つの表面の表面エネルギーを低下させるように処理する段階を含み、これにより、発光デバイスが実装されるときに、実装面とサブマウントとの間に施工されるアンダーフィル材料が、少なくとも1つの表面を汚染しないようにされる。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子と配線基板での対応する導電路とが良好に接続される半導体装置を提供する。
【解決手段】 入力面20a側で開口面積が大きくなるテーパ部20dを有する貫通孔20cが設けられたガラス基板、及び貫通孔20cの内壁に形成された導電性部材21からなる配線基板20を用いる。この配線基板20の入力面20a上に形成された導電性部材21の入力部21aに対し、PDアレイ15の出力面15b上に導電性部材21に対応して設けられたバンプ電極17を接続して、半導体装置5とする。そして、PDアレイ15の光入射面15aに光学接着剤11を介してシンチレータ10を接続し、配線基板20の出力面20bにバンプ電極31を介して信号処理素子30を接続して、半導体検出器を構成する。 (もっと読む)


【課題】配線基板の主面に設けられた絶縁樹脂膜の開口部に接着剤を流入させる際に、接着剤を容易に流入させることができ、開口部の縁部の近傍に気泡が形成されることを抑制する、又は気泡を容易に排出することができる構造を備えた配線基板、電子部品の実装構造、及び半導体装置を提供する。
【解決手段】複数の外部接続端子35が形成された面を下向きにしてフェイスダウンで電子部品32が実装され、接着剤42を介して電子部品32が固着される配線基板31は、電子部品32が実装される面に、絶縁膜37が形成され、電子部品32の外部接続端子35が接続される電極36を備えた複数の隣接する配線パターン34を共通して部分的に開口するように、開口部38が絶縁膜37に形成されており、開口部38の外周部分のうち配線基板31の中心側に位置する箇所において、開口部38の端面は、配線パターン34が延在する方向に対して斜め方向に形成されている。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子と配線基板での対応する導電路とが良好に接続される半導体装置を用いた放射線検出器を提供する。
【解決手段】 入力面20a側で開口面積が大きくなるテーパ部20dを有する貫通孔20cが設けられたガラス基板、及び貫通孔20cの内壁に形成された導電性部材21からなる配線基板20を用いる。この配線基板20の入力面20a上に形成された導電性部材21の入力部21aに対し、PDアレイ15の出力面15b上に導電性部材21に対応して設けられたバンプ電極17を接続して、半導体装置5とする。そして、PDアレイ15の光入射面15aに光学接着剤11を介してシンチレータ10を接続し、配線基板20の出力面20bにバンプ電極31を介して信号処理素子30を接続して、半導体検出器を構成する。 (もっと読む)


【課題】すべてのバンプ部と端子部との接続抵抗を小さく抑えるとともに接続抵抗を均一化し、半導体素子の導通不良を少なくできる電気光学装置、電気光学装置用基板、半導体素子、及び電子機器を提供する。
【解決手段】半導体素子が実装された電気光学装置用基板を備えた電気光学装置であって、半導体素子は複数のバンプ部を備え、電気光学装置用基板は複数の端子部を備え、複数のバンプ部と複数の端子部とは導電粒子を含む異方性導電膜を用いて電気的に接続され、複数のバンプ部及び端子部は、半導体素子の所定の辺に沿ってそれぞれ配列する複数の列をなすとともに、所定の辺に近い側の第1の列と第1の列よりも所定の辺から遠い側の第2の列とを含み、第2の列を構成するバンプ部及び端子部の平面投影面積を第1の列を構成するバンプ部及び端子部の平面投影面積よりも小さくする。 (もっと読む)


【課題】弾力性に優れ、アスペクト比が高く、狭ピッチ化に対応し得るバンプが設けられた回路基板材の製造方法を提供する。
【解決手段】基板1の上面の電極2,3の少なくとも一部を含む領域に感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物層4を形成した後に、電極2,3の外周縁よりも露光部の外周縁が内側に位置するように感光性樹脂組成物層4を選択的に露光し、電極2,3上に位置している感光性樹脂組成物の内、露光部において、酸または塩基を発生しつつ、周囲の未露光部の感光性樹脂組成物を露光部側に移動させ、該露光部において硬化を進行させて、樹脂コア6,7を形成し、樹脂コア6,7の外表面を被覆するように導電性被膜8,9を形成してバンプ10,11を形成する、各工程を備える回路基板材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体光検出素子などの電子素子を搭載するための配線基板において、高精度な平面を有した電子素子搭載部を有する配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板1の表面に複数の配線層5が形成された配線基板であって、複数の配線層5の各上面に金属柱端子2を立設し、金属柱端子2の側面に、絶縁被膜4を形成した。
絶縁基板1に影響されることなく立設した金属柱端子2に集中して研磨を行なうことができ、複数の金属柱端子2からなる電子素子3の搭載面をきわめて高い平坦度にすることができる。 (もっと読む)


【課題】表面実装型電子部品が実装されるセラミック台座部を備え、高密度実装が可能で、信頼性の高い多層セラミック電子部品、それに用いられる多層セラミック基板、多層セラミック電子部品を効率よく製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】セラミック基材層1と、収縮抑制層2とを積層してなる多層セラミック素体3の第1主面4に、セラミック材料からなる台座部本体5と、下側端面6、上側端面7が台座部本体から露出し、下側端面の面積が上側端面の面積より大きい柱状厚膜導体8とを備えたセラミック台座部9であって、柱状厚膜導体の外周面と台座部本体との間に空隙Gを有するセラミック台座部を配設し、セラミック台座部上に、柱状厚膜導体と導通するように第1の表面実装型電子部品10を実装する。
上記空隙Gを、多層セラミック素体に近い下部から多層セラミック素体に遠い上部に向かって大きくなるようにする。 (もっと読む)


【課題】半導体チップとセラミックパッケージとを、それぞれの電極を有する面を対向させた状態で当該両電極を電気的に接合してなる半導体装置において、パッケージの一面に高さばらつきがあっても、当該一面における高さの異なる部位に渡って半導体チップを電気的に接合できるようにする。
【解決手段】チップ電極12とパッケージ電極22との間に、半導体チップ10のパッケージ20への搭載時に変形可能な導電性の接合部材としての導電性接着剤30を介在させ、この導電性接着剤30により両電極12、22を電気的に接続するとともに、導電性接着剤30の変形によりパッケージ20の一面21に存在する高さばらつきTを吸収する。 (もっと読む)


【課題】長期にわたり表面酸化を防止することができ、フラックスレス、低温で接続可能、かつ微細パターン形成が可能なはんだ膜を提供する。
【解決手段】基材1と、この基材に形成されたメタライズ層2〜4と、このメタライズ層4表面の一部に形成されたBi−Snを主成分とするはんだ部5とからなる電子部品搭載用基板300または電子部品において、前記Bi−Snを主成分とするはんだ部5表面にAg膜6が形成することで、表面酸化を防止する。またAuメタライズ層12またはAuバンプと接続することで、Au−Sn化合物部13とBiリッチ部14を形成し、接続部の耐熱性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性を確保できる基板−電子部品間の接続構造を提供することにある。
【解決手段】セラミックス配線板10に設けられた基板側パッド14とLSIパッケージ20に設けられたバンプパッド21とが、導電性材料の粒子を含む異方性導電ペーストにより形成されたバンプ15により接続されている。このような構成によれば、半田バンプと比べて柔らかい異方性導電ペーストが使用されているため、バンプ15と基板側パッド14との界面にかかる応力が緩和される。このため、表面凹凸や反りが大きく、バンプ15と基板側パッド14との接続部分にストレスが比較的発生しやすいセラミックス配線板10を用いた場合であっても、接続信頼性を確保できる。 (もっと読む)


【課題】狭ピッチで、かつ多ピンの電極端子を有する半導体素子であっても、実装不良が生じ難く、かつ実装時の押圧力を小さくでき、接続信頼性の高い電子部品実装構造体を提供する。
【解決手段】複数の電極端子3を有する電子部品2と、これらの電極端子3に対応する位置に接続端子6を設けた実装基板5と、電極端子3と接続端子6とを接続する突起電極7とを備え、電子部品2の電極端子3と実装基板5の接続端子6とが突起電極7により接続され、突起電極7は可視光に感光する感光性樹脂と導電性フィラーとを含む導電性樹脂からなる構成を有する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置を製造する方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、複数の電気的接続部14を有する配線基板10を用意する工程と、集積回路24が形成された半導体基板22と、半導体基板22の集積回路24が形成された面(能動面25)に形成された複数のバンプ電極26と、半導体基板22の能動面25に形成された、ポリイミド樹脂からなる保護膜28と、を有する半導体チップ20を用意する工程と、Ar及びArよりも少量のOを含む混合ガス100を用いてプラズマ処理を行って、保護膜28の表面を改質するプラズマ処理工程と、プラズマ処理工程後に、配線基板10に半導体チップ20を搭載して、電気的接続部14とバンプ電極26とを対向させて電気的に接続する工程と、配線基板10と半導体チップ20との間に樹脂部30を形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置を製造する方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、第1及び第2の面14,16を有するベース基板12と、複数の電気的接続部22を有する、第1の面14に形成された配線パターン20と、第1の開口32を有する、第1の面14及び配線パターン20を部分的に覆う第1のレジスト層30と、第2の開口36を有する、第2の面16を部分的に覆う第2のレジスト層34と、を含む配線基板10を用意する工程と、複数の電極42を有する半導体チップ40を用意する工程と、加熱機構を備える、先端面52が第2の開口36よりも小さいボンディングツール50によって半導体チップ40を保持して加熱し、ボンディングツール50を、先端面52が第2の開口36の内側のみとオーバーラップするように配置して、電気的接続部22と電極42とを対向させて電気的に接続するボンディング工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 配線基板において、半導体装置(ICチップ)を半田実装させた際の実装パッド部の接続信頼性を向上させること。
【解決手段】絶縁基体2と、絶縁基体2上に形成された電極3と、電極3の表面に形成された第1のNi層4と、第1のNi層4上に形成されたNi酸化物層5と、Ni酸化物層5上に形成され、Snを含む半田バンプが接合されるAu層7とを備えている。 (もっと読む)


【課題】 半導体チップを配線基板にフェイスダウン実装する半導体実装体において、配線基板上の電極パッドと半導体チップの対応する突起電極を重ね合わせ、加熱加圧によって接続する際に、半導体チップの突起電極直下の部分にクラックが発生することのない半導体実装体を提供する。
【解決手段】 複数の突起電極4を有する半導体チップ3と、前記突起電極4に対応する複数の電極パッド5を有する配線基板を対向させ、加熱加圧により前記突起電極4と前記電極パッド5を電気的機械的に接続した半導体実装体10において、前記半導体チップ3と前記配線基板が液晶ポリマシート1を介して接着されており、前記配線基板が半導体チップとの線膨張率の差がガラスエポキシ基板との差より小さい配線基板11である。 (もっと読む)


【課題】動作信頼性を向上させた半導体装置を提供する。
【解決手段】RFパワーモジュールを構成する半導体チップ1のゲート電極用のバンプ電極8gと、ドレイン電極用のバンプ電極8dとの間に、発振シールドとしてソース電極用のバンプ電極8sを設けた。ソース電極用のバンプ電極8sは、他のバンプ電極8g,8dよりも長い帯状のパターンとなっている。また、バンプ電極8g,8d,8sは、ボンディングパッド上に下地金属を介して金属層を設け、さらにその上に半田層を設けた縦構成を有している。 (もっと読む)


【課題】回路基板への実装面積をより小さくすることができ且つ実装基板や回路基板からセンサ素子へ伝達される応力を低減することができるセンサモジュールを提供する。
【解決手段】センサモジュールは、加速度センサエレメントからなるセンサ素子Aと、センサ素子Aがフリップチップ実装される実装基板5とを備える。センサ素子Aは、一表面側に複数の外部接続用電極25を有し、実装基板5は、各外部接続用電極25それぞれが電気的に接続される複数のセンサ接続用電極53を有する。センサ素子Aと実装基板5とは、接続関係が規定された外部接続用電極25とセンサ接続用電極53との組ごとに実装基板5の厚み方向において重なる複数のバンプ9a,9bを介して接合されている。 (もっと読む)


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