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Fターム[5F088HA12]の内容

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SiO2 (26)

Fターム[5F088HA12]に分類される特許

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【課題】センサ部での光の利用効率の低下を防止することができる電磁波検出素子を提供する。
【解決手段】互いに交差して配設された複数の走査配線及び複数の信号配線の各交差部と、2次元状に配列された複数のセンサ部であって、各々が、検出対象とする画像を示す電磁波が照射されることにより電荷が発生する半導体層、半導体層の電磁波が照射される照射面側に電磁波に対して透過性を有する導電性部材により形成され、半導体層に対してバイアス電圧を印加する第1電極、及び半導体層の電磁波に対する非照射面側に形成され、半導体層に発生した電荷を収集する第2電極を備えた複数のセンサ部と、センサ部よりも電磁波の下流側に形成され、各々コンタクトホールを介して第1電極に接続されてバイアス電圧を供給する共通電極配線と、走査配線と、信号配線及び共通電極配線との間に形成されている第1の絶縁膜と、を備え、信号配線及び共通電極配線は同層に形成。 (もっと読む)


【課題】X線検出用フォトダイオード等においては、初期結晶材料として、裏面側に高濃度の不純物がドープされた単結晶ウエハ等を使用する場合がある。このような場合、裏面側不純物の外方拡散によるクロスコンタミネーション等を防止するために、予め、ウエハの裏面に、酸化シリコン膜等の不純物外方拡散防止膜等を形成しておく等の対策が講じられる。しかし、裏面に不純物外方拡散防止膜を形成する際に、ウエハの表面を損傷する等の問題が有る。
【解決手段】本願発明は、裏面に高濃度の不純物ドープ層を有する半導体ウエハの裏面に、不純物防止膜を形成するに当たり、まず、前記半導体ウエハの表面に酸化シリコン系絶縁膜等の表面保護膜を形成し、その状態で、前記裏面に、前記不純物防止膜を形成し、その後、ウエットエッチングにより、前記不純物防止膜を残した状態で、前記表面保護膜をほぼ全面的に除去するものである。 (もっと読む)


【課題】複数の検出電流経路が発生することを防止し、光吸収層の表面状態にかかわらず、高感度で安定して検出することができる光検出素子及び光検出装置を提供する。
【解決手段】光検出素子は、透光性基板1、光吸収層2、電極3、電極4、接着層5、絶縁膜6、パッケージ7で構成される。透光性基板1上に光吸収層2が形成され、光吸収層2に電極3と電極4の一部が埋め込まれている。パッケージ7上に光検出部がジャンクションダウンで接着層5により接合されている。光吸収層2は、特定波長の光を選択的に吸収して、電気信号に変換する。測定する光は、透光性基板1の裏面から照射される。 (もっと読む)


【課題】 増幅用TFTと選択用TFTとを含む画素を有する検出装置において選択用TFTのオフリークが十分なされた検出装置を提供する。
【解決手段】 変換素子100と、ゲート114が変換素子100に接続された第1薄膜トランジスタ110と、ゲート124が駆動配線150に接続され、真性半導体領域であり第1領域122と第2領域123との間でゲート124の正投影が位置する第3領域121を有する多結晶半導体層を含み、第1領域122及び第2領域123の一方が第1薄膜トランジスタ110のソース及びドレインの一方113に接続された第2薄膜トランジスタ120と、を有し、多結晶半導体層は、第1領域122と第3領域121との間に、また、第2領域123と第3領域124との間に、それぞれ第1領域122及び第2領域123よりも不純物の濃度が低い第4領域125と第5領域126と、を含む検出装置。 (もっと読む)


【課題】光センシング装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとが、それぞれ同じ構造の酸化物半導体トランジスタで形成される光センシング装置、及び前記光センシング装置の動作信頼性を向上させることができる駆動方法が提供される。光センシング装置によれば、光センシング画素内の光センサートランジスタとスイッチトランジスタとは、一つの基板上で同じ構造に隣接して形成され、スイッチトランジスタへの光の入射を防止するために、スイッチトランジスタの光入射面には光遮蔽膜がさらに配される。また、光センシング装置の駆動方法によれば、経時的なスイッチトランジスタのしきい電圧シフトを防止するために、光遮蔽膜には負(−)のバイアス電圧が印加される。 (もっと読む)


【課題】被曝量による閾値電圧のシフトを抑制するが可能なトランジスタを提供する。
【解決手段】放射線撮像装置1は、フォトダイオードとトランジスタ111Bとを含む光電変換層を有する。トランジスタ111Bは、基板11上に、第1ゲート電極120A、第1ゲート絶縁膜129、半導体層126、第2ゲート絶縁膜130および第2ゲート電極120Bをこの順に有し、第1ゲート絶縁膜129および第2ゲート絶縁膜130におけるSiO2膜の総和が65nm以下となっている。トランジスタが被曝すると、ゲート絶縁膜におけるSiO2膜に正孔がチャージされ、閾値電圧がシフトし易くなるが、上記のようなSiO2膜厚の最適化により、閾値電圧シフトが効果的に抑制される。 (もっと読む)


【課題】白傷欠陥の発生を抑制することができ、数画素に亘る感度低下を抑えることができる撮像素子を提供する。
【解決手段】基板上方で二次元状に配列された複数の下部電極104と、各下部電極104と対向して配置された上部電極108と、複数の下部電極104と上部電極108との間に配された光電変換層と、上部電極108の上方に配置され、該上部電極を覆う封止膜110と、上部電極108と封止膜110との間に配置された封止補助層109と、を備える撮像素子であって、封止膜110が複数の層で構成され、該封止膜全体の膜応力を緩和する応力緩和層を含み、封止補助層109は、真空蒸着法又はCVDで形成された膜であり、厚さが5nm以上で、内部応力が100MPa以下である。 (もっと読む)


【課題】量子ドット型赤外線検知器の感度を向上させること。
【解決手段】量子ドットと、前記量子ドットを覆い、エネルギーギャップが前記量子ドットより広い第1の障壁層と、前記第1の障壁層の上側および前記量子ドットの下側に設けられ、エネルギーギャップが前記量子ドットより広く且つ前記第1の障壁層より狭い中間層と、前記第1の障壁層内に設けられ、エネルギーギャップが前記量子ドットより広く且つ前記第1の障壁層より狭い量子井戸層とを有する光電変換層と、前記光電変換層の両側に設けられた電極層を備えた量子ドット型赤外線検知器。 (もっと読む)


【課題】保護層の界面剥離を抑制し、諸特性および信頼性を確保したX線検出器を提供する。
【解決手段】表面側に複数の光電変換素子13を複数配列した受光部14、および、光電変換素子13と電気的に接続した電極パッド16を備えた固体撮像素子12を有する。固体撮像素子12の受光部14に対向し外部から入射したX線24を光に変換するシンチレータ層26を有する。外部接続用電極パッド18および外部接続用電極パッド18と電気的に接続した電極端子19を備え、固体撮像素子12を固定する基台17を有する。電極パッド16,18を電気的に接続する配線20を有する。固体撮像素子12、電極パッド16、外部接続用電極パッド18および配線20上に中間層22を有機珪素化合物により形成する。中間層22上に保護層28を有機物により形成する。 (もっと読む)


【課題】光電変換素子とシンチレータとの間に設けられる保護層による光電変換素子の量子効率の低下の度合を低減し、かつ、光電変換素子等が腐食することを的確に防止することが可能な放射線画像撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線画像撮影装置1は、入射した放射線を光に変換するシンチレータ4が一方の面5aに形成された第一の基板5と、シンチレータ4により変換された光を受けて電気信号に変換する光電変換素子14が一方の面3aに形成された第二の基板3とを備え、第二の基板3の、光電変換素子14が設けられた側の面3a上には、第一の基板5の面5a上に形成されたシンチレータ14と接触する保護層20が形成されており、保護層20は、光電変換素子14のシンチレータ4に対向する受光面14a上の部分では、シンチレータ4から離間する状態で凹部20aが形成されている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、超伝導転移温度の低下を抑えることが可能であり、単一光子検出素子の高速動作が可能な超伝導光検出素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 光子の入射に応じて抵抗が変化する単体の超伝導細線及び該超伝導細線上に形成された酸化防止層を有する超伝導光検出素子。 (もっと読む)


【課題】欠陥画素を分離してリペアしつつ、欠陥画素を分離するための切断箇所を保護した放射線検出素子を提供する。
【解決手段】欠陥画素7AのTFTスイッチ4に接続された走査配線101と信号配線3の少なくとも一方を検出領域S外でかつ保護部32で覆われた部分で切断する。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性を高めた光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、複数の層からなる素子層と、素子層内に設けられた光電変換素子と、前記素子層内に設けられた読出回路と、素子層の表層294に設けられて読出回路を外部に接続する外部接続端子211と、を備える。素子層には、読出回路の一部を構成する配線212上に、表層294を貫通して配線212の一部に通じるコンタクトホールH2が形成されている。外部接続端子211は、コンタクトホール内H2と表層294上とにわたって設けられて配線212と導通接続された導電膜を含む。導電膜において外部41に導通接続される接続領域A3が、コンタクトホールH2の開口と重ならない領域になっている。 (もっと読む)


【課題】容量結合が低減された光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、第1電極251と第2電極252との間に配置された光電変換層を有する光電変換素子25と、第1電極251と導通するソース領域243を有するTFT24と、TFT24のドレイン領域242と導通する第1配線222と、TFT24のゲート電極241と導通する第2配線212と、第2電極252と導通し、第1配線222と第2配線212とのうちの一方の配線222と略平行に延設された第3配線23とを備える。第2電極252が、透明導電材料からなり、光電変換層に対する光入射側に配置されている。第3配線23が、透明電極材料よりも導電性が高いメタル材料からなり、面方向における第3配線23と一方の配線222との間隔d1、d2が、面方向に垂直な厚み方向における第3配線23と一方の配線222との間の間隔よりも長い。 (もっと読む)


【課題】容量結合が低減された光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、複数の画素領域に区画された光検出領域と、複数の画素領域の各々に配置され、第1電極251と第2電極252とに挟持された光電変換層を有する、光電変換素子25と、第1電極251と電気的に接続され、第1方向に延設された第1配線222と、第2電極252と電気的に接続され、光電変換層の厚み方向において第1配線251から離れた位置に配置されており、第1方向と交差する第2方向に延設された第2配線23と、を備える。第1配線222は、第1方向と第2方向とが交差する交差部26において分断されてなる。第1配線222を含んだ通電経路は、交差部26の厚み方向において第1配線222よりも第2配線23から離れた位置に設けられた接続導電部261を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性を高めた光電変換装置、エックス線撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、光電変換素子及び読出回路が形成された素子層と、素子層表層に設けられた外部接続端子221とを備える。素子層は、読出回路の一部を構成する配線244の下地となる配線下地層20と、表層294と配線下地層20との間に配置された中間層291〜293と、を有する。表層294を貫通して配線244に至るコンタクトホールH3が形成されている。コンタクトホールH3の内壁面は、中間層291〜293又は表層294の面方向の一部が保持されてなりコンタクトホールH3の外側の表層294上と段差D3を構成する段差面H32を含む。外部接続端子221は、コンタクトホールH3の内壁面と表層294上とコンタクトホールH3内に露出した部分の配線244とにわたって形成された導電膜を含んでいる (もっと読む)


【課題】接続信頼性を高めた光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の光電変換装置は、複数の層20、244、291〜294からなる素子層と、素子層内に設けられた光電変換素子と、素子層内に設けられて光電変換素子から信号を読出す読出回路と、素子層の表層294に設けられて読出回路を外部に接続する外部接続端子211と、を備える。素子層は、読出回路の一部を構成する配線212の下地となる配線下地層20と、表層294と配線下地層20との間に配置された中間層291〜293と、を含む。中間層291〜293上に接続導電部282〜284が設けられている。配線212が接続導電部282〜284と導通接続されているとともに外部接続端子211が接続導電部282〜284と導通接続されている。 (もっと読む)


【課題】放射線像検出器の高精細化をできるようにする。
【解決手段】放射線像検出器1が、二次元アレイ状に配列された複数のダブルゲートトランジスタ20と、これらダブルゲートトランジスタ20上に形成されたシンチレータ50と、を備える。ダブルゲートトランジスタ20が、ボトムゲート電極21と、ボトムゲート電極21上に形成されたボトムゲート絶縁膜22と、ボトムゲート絶縁膜22上に形成された半導体膜23と、半導体膜23に接した2つの不純物半導体膜25,26と、不純物半導体膜25上に形成されたソース電極27と、不純物半導体膜26上に形成されたドレイン電極28と、半導体膜23を被覆したトップゲート絶縁膜29と、トップゲート絶縁膜29上に形成されたトップゲート電極31と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 X線、α線、β線、γ線、或いは中性子線等の放射線を高感度で検出することができる新規な放射線検出装置、及び放射線の検出方法を提供する。
【解決手段】 入射した放射線を波長が220nm以下の紫外線に変換する、NdをドープしてなるLaF結晶、或いはコアバレンス発光するフッ化バリウムの如き金属フッ化物結晶からなるシンチレーターと、シンチレーターが発する紫外線を導いて紫外線を電気信号に変換するダイヤモンド薄膜センサーとを具備し、そして放射線を電気信号として取り出すことを特徴とする放射線検出装置である。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルタの上面を平坦化して精度良く所定の膜厚にすることが可能な光電変換装置を提供する。
【解決手段】半導体基板13の上面13aには、下部電極14、有機光電変換材料からなる中間層15、上部電極16、透明絶縁層17、第1〜第3の着色層75,79,83が順次積層され、下部電極14、中間層15、上部電極16、第1〜第3の着色層75,79,83が重なり合う有効画素領域の外側に研磨ストッパー層18が形成されている。第1〜第3の着色層75,79,83を研磨処理で平坦化する際、研磨ストッパー層18が露出するまで平坦化するので容易に終点検出を行うことができる。 (もっと読む)


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