多目的筐体を有する電磁放射線の高出力源が開示される。多目的筐体は、少なくとも光源を形成する材料で満たされた内部を含み、レーザーロッドに光励起を提供するために光源によって囲まれるレーザーロッドを包むことができる反射器をさらに含む。光源の外表面を定義する材料は、反射器の外表面にまで伸張するとともに該外表面を定義する。高反射率コーティングは、保護コーティングとして反射器の外表面にわたって配される。同様に、随意のヒートシンクを反射器の外表面に配することもでき、ヒートシンク全体を移動する強制空気の随意の配置によって冷却が行われる。光源は光源ランプであってもよく、高反射率コーティングは反射器を包むように形成されてもよい。 （もっと読む）

光学的撮像のためのスキャニング・パルス・レーザシステムに関し、コヒーレント・デュアル走査型レーザシステム（ＣＤＳＬ）とその幾つかのアプリケーションを開示する。具体例の様々な代替構成が示されている。少なくとも１つの実施例では、ＣＤＳＬは、２つの受動モード同期ファイバ発振器を含んでいる。或る実施例では、高効率ＣＤＳＬは１つのレーザだけ備えて構成している。少なくとも１つの実施例は、時間変動する時間遅延を伴ったパルス対を生成するコヒーレント走査型レーザシステム（ＣＳＬ）を含んでいる。ＣＤＳＬ、高効率ＣＤＳＬ、又はＣＳＬは、光学的撮像、顕微鏡検査、顕微鏡分光、及び／又はＴＨｚ撮像の１つ又は複数のための撮像システムに配置できる。
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ダイオード励起の、イッテルビウムドープガラスレーザまたはイッテルビウムドープガラスセラミックレーザが提供される。光ポンプと、ガラスまたはガラスセラミックの利得媒質と、波長変換素子と、および出力フィルタとを含む、レーザ光源が提供される。利得媒質は、イッテルビウムドープガラスまたはイッテルビウムドープガラスセラミックの利得媒質を含み、さらにこの利得媒質を特徴付ける吸収スペクトルは、その吸収スペクトルの別個の波長部分に沿って夫々配置される、最大吸収ピークと準最大吸収ピークとを含む。ポンプ波長λを利得媒質の最大吸収ピークよりも準最大吸収ピーク近傍で同調させるように、光ポンプおよび利得媒質が構成される。さらなる実施形態が開示および請求される。
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【課題】半導体レーザ（LD）、LED、ランプ等の発光源、およびレンズ、ファイバ等の伝送、転写、集光等の光学部品を備えた光源装置において、装置内における硫酸イオン量を低水準に保つことにより、硫酸アンモニウムの光学部品への付着を防ぐことのできる光源装置を提供する。
【解決手段】光を出射する光源１と、光源から出射された光２を処理する光学部品３と、光学部品を収納する、または光学部品が取り付けられる筐体とを備え、筐体は、硫黄成分を含まない材料を切削することにより形成され、前記材料が表面に露出している。 （もっと読む）

【課題】 励起光源が逆行するレーザ光によってダメージを受けないようにする。
【解決手段】 少なくとも利得媒質である希土類添加光ファイバ１５と、前記希土類添加光ファイバ１５を光励起するためのレーザ光を発生する励起光源１１１〜１１８と、前記励起光源１１１〜１１８で発生される励起用のレーザ光と信号光伝送用ファイバ１４１からの信号光とを光結合させて前記希土類添加光ファイバ１５に入射するコンバイナー１３１，１３２とを具備し、前記励起光源のレーザ光出射端と前記コンバイナーの励起光入射端との間に前記コンバイナー１３１，１３２から前記励起光源１１１〜１１８に向けて逆行する特定の波長域のレーザ光を吸収する光吸収素材ファイバ１２１〜１２８を介在させるようにした。 （もっと読む）

【課題】励起状態を経てターゲットをイオン化する場合でもターゲットの高いイオン化効率を実現する。
【解決手段】イオン化レーザ装置１は、ターゲットＴｓｎを励起させる第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２を出力する第１、第２レーザ１０２、２０２と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２の絶対波長を検出する第１、第２絶対波長検出器１１０、２１０と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２により励起したターゲットＴｓｎをイオン化する第３レーザ光ＬＳ３を出力する第３レーザ３０２と、第３レーザ光ＬＳ３の絶対波長を検出する第３絶対波長検出器３１０と、第１〜第３レーザ光ＬＳ１〜ＬＳ３の絶対波長に基づいて第１〜第３レーザ１０２〜３０２を制御するイオン化レーザコントローラ１０および第１〜第３コントローラ１０１〜３０１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高安定な高調波パルスを出力可能な光源装置を提供する。
【解決手段】光源装置１は、レーザ光発生部１０、光増幅部２０及びウォークオフを生じる非線形光学結晶３３を含む波長変換部３０とを備える。制御装置は、非線形光学結晶３３における位相整合状態を所定範囲で変化させ、位相不整合量に応じてビームポインティングを変化させることにより、高調波出力をウィンドウ３５から出射させる出力光路Ｌonと遮蔽部材３８により遮断する非出力光路Ｌoffとに切り換えて、ビーム出力のオン/オフ制御を行う。 （もっと読む）

【課題】小型化が容易なパルス幅変換装置を提供する。
【解決手段】透過型回折格子２０へ一定の入射角で入力された入力光パルスＰｉは、波長毎に分光されて当該波長に応じた出射角で出力され、反射鏡４１，４２，４３により順次に反射された後、透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力されて、透過型回折格子２０から一定の出射角で出力される。透過型回折格子２０から一定の出射角で出力された各波長成分の光は、直角プリズム４０により光路が折り返され、透過型回折格子２０へ一定の入射角で入力されて波長に応じた出射角で出力され、反射鏡４３，４２，４１により順次に反射された後、透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力される。透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力された光は、透過型回折格子２０により合波されて出力光パルスＰｏとして出力される。 （もっと読む）

コンパクトで、光学的にポンピングされる固体マイクロチップレーザ装置は、低コストの緑色及び青色レーザ光源を得るため、効率的な非線形キャビティ内周波数変換を使用する。レーザは、Ｎｄ：ＹＶＯ_４などの固体ゲイン媒質および非線形結晶を含む。非線形結晶は、周期的に分極されたニオブ酸リチウムまたは周期的に分極されたリチウム・タンタル酸塩で形成され、その結晶は、高い信頼性を確実にするために、ＭｇＯでドープされたか、ＺｎＯでドープされたか、または、ストイキオメトリックである。非線形結晶は、赤外線ポンプレーザ・ビームから可視波長範囲へエネルギーを転換するため、効率的な周波数倍増を提供する。レーザ装置は、出力ビームのための出力開口を有するパッケージに組み付けされ、レーザアセンブリを収容する光学台と一体化される。パッケージは、半導体ダイオード・ポンプレーザ、マイクロチップレーザ・キャビティ・アセンブリ、光学台プラットフォームおよび電気リードに囲み、ヒートシンクを提供する。 （もっと読む）

【課題】赤外波長帯域でコンパクトかつ低消費エネルギーな光源を作製する。
【解決手段】第１の光導波路上に配され入射される第１のポンプ光により励起されて第１の出射光を出射する第１の光ゲイン源１２と、前記第１の光導波路上に配され前記第１の光ゲイン源を励起するための第１のポンプ光を入射する第１のポンプ光源１９と、第２の光導波路上に配され第２のポンプ光を入射する第２のポンプ光源２０と、少なくとも前記第１の光ゲイン源を囲む一対の鏡面構造１１、１８がキャビティを形成するように配されてなる光共振器構造と、二つの基本波が入射されるとこれらと波長の異なる変換波に波長変換する波長変換構造１４と、前記第１の出射光と前記第２のポンプ光とから前記波長変換構造によって波長変換される変換波を透過させ前記第１の出射光及び前記第２のポンプ光を反射する性質を有するミラー構造体１５とを具備する。 （もっと読む）

実施形態は、レーザキャビティ内のレーザビームの横方向および角度の変位を補正するためのシステムおよび方法に向けられている。いくつかの実施形態に対し、このようなシステムおよび方法は、可変レーザシステムにおけるレーザ発振波長の変化に起因する、レーザキャビティ内のレーザビームの角変位を補正するように使用される。例えば、上記システムは、レーザキャビティと、利得媒質と、ポンプ源と、ビーム角補正装置とを備えている。
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【課題】光共振器のフィネスを高くしても、共振を安定させることができると共に、光共振機内にレーザー光を蓄積させることにより従来装置と比較してより強いレーザー光を発生可能なレーザー発振装置を提供する。
【解決手段】励起用のレーザー光を発生する励起用レーザー光源と、励起用レーザー光源で生成されたレーザー光が供給されたとき、所望波長のレーザー光を生成する希土類ファイバと、対向配置された２枚の凹面鏡、または複数枚の平面鏡を含む面鏡群によって構成され、希土類ファイバで生成されたレーザー光を蓄積する光共振器と、光共振器と希土類ファイバとの間に介挿され、希土類ファイバからのレーザー光を光共振器の一方に導き、逆方向のレーザー光を遮断する光アイソレータと、光共振器の他方から出射されるレーザー光を取り込み、希土類ファイバ、光アイソレータを介し、光共振器に戻し、共振を促進させる周回光路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】偏波状態を保持しながら信号光を効率良く光増幅して高出力の基本波レーザ光を生成することが可能な光増幅器、レーザ装置、及び光源装置を提供する。
【解決手段】光増幅器２０は励起光を発生させる励起用光源２１と、第１信号光Ｌｓ_１と励起光Ｌｐとを入力しＬｓ_１とＬｐの一方の偏波成分の光とを合波してＬｓ_１の偏波状態を保持しつつ該合波した光とＬｐの他方の偏波成分の光とを出力する第１ＷＤＭカプラ２３と、第２信号光Ｌｓ_２と第１ＷＤＭカプラからの他方の偏波成分の光とを入力して合波しＬｓ_２の偏波状態を保持しつつ該合波した光を出力する第２ＷＤＭカプラ２４と、第１ＷＤＭカプラから導入される合波した光に基づいて偏波状態を保持しつつＬｓ_１を増幅して出力する第１光増幅用ファイバ２５と、第２ＷＤＭカプラから導入される合波した光に基づいて偏波状態を保持しつつＬｓ_２を増幅して出力する第２光増幅用ファイバ２６とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡便な構成で小型化が可能であり、光出力が安定化されたファイバレーザ装置の提供。
【解決手段】レーザ光源１４と、増幅用光ファイバ１３と、第一のファイバブラッググレーティング（高反射率ＦＢＧ）１１と、該第一のファイバブラッググレーティングよりも光の反射率が低い第二のファイバブラッググレーティング（低反射率ＦＢＧ）１２と、を備え、第一のファイバブラッググレーティング１１及び第二のファイバブラッググレーティング１２が、これらの略長手方向に沿って、互いに接触配置されていることを特徴とするファイバレーザ装置１。 （もっと読む）

デバイスが提供される。本デバイスは、第１の有機発光デバイスを含み、この有機発光デバイスは、第１の電極と、第２の電極と、第１の電極と第２の電極の間に配置された有機発光層とをさらに含む。本デバイスはまた、第１のレーザデバイスを含み、この第１のレーザデバイスは、光共振器と、この光共振器内に配置された有機レイジング材料をさらに含む。焦点機構が、第１の有機発光デバイスによって放射される光を第１のレーザデバイス上へ集束させるように配置されている。好ましくは、焦点機構は、第１の有機発光デバイスによって放射される光よりも強度が少なくとも１０倍大きな、より好ましくは少なくとも１００倍大きな、第１のレーザデバイスへの入射光を供給する。
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【課題】 高品質の加工を行う。
【解決手段】 レーザパルスを出射するレーザ出射装置と、レーザ出射装置を出射したレーザパルスの時間波形に関するデータを取得する検出装置と、検出装置によって取得されたレーザパルスの時間波形に関するデータに基づいて、レーザ出射装置を出射するレーザパルスのパルス幅を制御する制御装置とを有するレーザ照射装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、小型化を達成しつつ、高効率のレーザ光を発振することのできる受動Ｑスイッチ固体レーザ発振装置及びレーザ着火装置を提供することである。
【解決手段】 本発明に係る受動Ｑスイッチ固体レーザ発振装置は、増幅媒体を保持する第１冷却ホルダと可飽和吸収体を保持する第２冷却ホルダとが一体化された冷却ユニットを備え、前記増幅媒体と前記可飽和吸収体とは、前記増幅媒体を通過する光が前記可飽和吸収体に入射可能に空間を介して配置され、前記冷却ユニットの軸線方向に直交する投影面に前記空間を投影したときに形成される空間投影領域は、前記投影面に増幅媒体を投影したときに形成される増幅媒体投影領域と前記投影面に可飽和吸収体を投影したときに形成される可飽和吸収体投影領域とを含む面積を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高エネルギピコ秒、ナノ秒パルス用ファイバベース光源の構築を目的とする。
【解決手段】ファイバ増幅器での非線形エネルギ制限を最小化することで、光ファイバの損傷閾値に近いパルスエネルギが発生され得る。少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。高エネルギパルス化されるファイバ増幅器の最適化シード光源は、半導体レーザも伸長モードロックファイバレーザも含む。ファイバ増幅器から得られるパルスエネルギの最大化は、さらに高繰り返し周期で高エネルギ紫外、赤外パルスの発生を可能にする。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工により安定かつ高速に微細な縞状の加工をするレーザ加工装置を得ること。
【解決手段】加工対象の被加工面に対してパルスレーザビームを照射して縞状のレーザ加工を行うレーザ加工装置であって、前記被加工面を上にした状態で前記加工対象を保持するとともに搬送する加工対象搬送手段と、前記加工対象上での前記パルスレーザビームの位置を第１の方向に相対的に移動させるレーザビーム移動手段と、パルスレーザビームを出射するレーザ発振器と、前記パルスレーザビームを、隣接する分岐されたレーザビーム同士が前記第１の方向において規定の距離だけ間隔を有するように配置された分岐パターンへ分岐する回折光学素子と、前記回折光学素子で分岐されたパルスレーザビームを前記被加工面上に集光する集光手段と、を備え、前記分岐されたパルスレーザビームと加工対象とを相対的に移動させて前記被加工面に対して縞状のレーザ加工を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、異常パルスの発生を抑制することにより光ファイバの励起光入射側端面の破損を防止することができるレーザ装置を提供する。
【解決手段】イッテルビウム（ＹＢ）イオンがドープされたコア７８を有する光ファイバ７２と、励起光ＭＢを発振する励起光発振部１２と、シードレーザ光ＳＢを発振するシードレーザ光発振部１６と、励起光ＭＢ及びシードレーザ光ＳＢがミラー１８を介して導かれる光ファイバ７２の入射口６８と対向する第１集光レンズ７４と、光ファイバ７２を挟んで第１集光レンズ７４と対向する第２集光レンズ７６と、ミラー１８と第１集光レンズ７４との間の光路に設けられた偏光解消板９０とを備える。これにより、偏光解消板９０に導かれる励起光ＭＢ及びシードレーザ光ＳＢの偏光状態が直線偏光であっても光ファイバ７２の入射口６８に導かれる光の変更状態をランダム偏光に変更することができる。 （もっと読む）