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Fターム[5G303AB15]の内容

無機絶縁材料 (13,418) | 目的(及び、改善している性質) (1,889) | 低温焼結性 (113)

Fターム[5G303AB15]に分類される特許

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【課題】 誘電体フィルタや共振器に用いられる誘電体磁器組成物は、誘電率が高く、Q値が高いことが望まれる。
【解決手段】 一般式xMgTiO・yMgTiO・zCaTiOと表され、x、y、zがモル%でそれぞれ、69.3≦x≦84.0、14.1≦y≦30.0、0.8≦z≦6.1の範囲にある組成物100重量部に対して、Li系ガラスが25重量部〜35重量部添加される。
【効果】 xMgTiO・yMgTiO・zCaTiOと表され、x、y、zがモル%でそれぞれ、69.3≦x≦84.0、14.1≦y≦30.0、0.8≦z≦6.1の範囲にある組成物100重量部に対して、Li系ガラスを25重量部〜35重量部添加するので、誘電率とQ値を向上できると共に、焼結温度を導体パターンを構成する金属の融点よりも低くできる。 (もっと読む)


【課題】900℃以下で焼成可能であり、16GHz以上の高周波領域において低い比誘電率と、低い誘電損失を有する低温焼成磁器組成物及び低温焼成磁器の製造方法を提供する。
【解決手段】MgOとMnOとSiO2の含有比が(2−x):x:yで表され、xは0.03〜1.0、yは1.2〜10であるMgOとMnOとSiO2の混合物及び/または複合酸化物63〜98.7質量%と、Bi231.0〜35質量%及びLi2O0.3〜2.0質量%とを含む原料粉を仮焼(750℃〜850℃)後粉砕して粉末とし、これにバインダー等を加え所定形状に成形後、850℃〜900℃で焼成し、MgとMnとSiを含む結晶相、Bi23-SiO2系結晶相及びLi2O-SiO2系結晶相とを含むミリ波領域(16GHz)での誘電率(εr)が9以下、Qf値が10,000以上の誘電体磁器を得る。 (もっと読む)


【課題】 低温焼成可能で、比誘電率εr等の誘電特性にも優れた誘電体磁器組成物を実現する。
【解決手段】 下記組成式(1)で表される酸化物誘電体を主組成成分とし、ホウ素酸化物及びガラス組成物から選ばれる少なくとも1種を含有する誘電体磁器組成物である。
aCaO−bLiO1/2−cBiO3/2−dREO3/2−eTiO・・・(1)
ただし、式中、REはLa,Ce,Pr,Nd,Sm,Yb,Dy,Yから選択される少なくとも1種を表す。また、a〜eは各成分の比率(モル%)を表し、
10≦a≦25
10≦b≦20
8≦c≦15
2≦d≦10
50≦e≦60
0.65≦b/(c+d)<1.0
a+b+c+d+e=100
なる関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】低温で焼結させることが可能であるとともに、収縮抑制工法により、平面方向の収縮を抑制しつつ焼成する工程を経て製造されるセラミック基板などの電子部品の原料として用いるのに適した低温焼結セラミック組成物を提供する。
【解決手段】(a)含有率が、75重量%を超え、95重量%以下である、1000℃以下で焼結する、ガラスを含まないセラミック材料と、(b)含有率が5重量%以上で、25重量%未満のホウケイ酸ガラスとを含有し、1000℃以下の焼成温度で焼成される低温焼結セラミック組成物において、ホウケイ酸ガラスとして、焼成温度より50〜150℃低い軟化点を有するものを用いる。
本願発明の低温焼結セラミック組成物を主成分とする基板用グリーン層1aと、収縮抑制層31とを備えるグリーン積層体32を形成し、低温焼結セラミック組成物は焼結するが、収縮抑制層31は実質的に焼成しない焼成温度で焼成する。 (もっと読む)


【課題】1000℃以下の温度で焼成可能であり、その焼結体は、比誘電率が低く、共振周波数の温度係数が小さく、Q値が高く、さらに電気的絶縁信頼性が高い、ガラスセラミック組成物を提供する。
【解決手段】セラミック多層モジュール1に備える多層セラミック基板2において積層されるガラスセラミック層3のためのガラスセラミック組成物。フォルステライトを主成分とする第1のセラミック粉末と、CaTiO3 、SrTiO3 およびTiO2 より選ばれる少なくとも1種を主成分とする第2のセラミック粉末と、Li2 O、MgO、B2 3、SiO2、ZnOおよびAl2 3 を含むホウケイ酸ガラス粉末とを含む。ホウケイ酸ガラス粉末は、3重量%以上を占めており、CaO、BaOおよびSrOからなる群より選ばれる少なくとも1種の添加成分をさらに含む。 (もっと読む)


【課題】 さらなる機械的強度の向上および各種外観不良の防止を実現する低温焼成磁器組成物および低温焼成磁器を提供する。
【解決手段】 本発明の低温焼成磁器組成物は、SiOを30〜40mol%、Alを1〜2mol%、MgOを28〜35mol%、Bを12〜20mol%、ZnOを10〜15mol%、CaOを2〜6mol%含むガラス成分と、表面にAl粒子が被着しているSiO粉末からなるフィラー成分とで構成される。この低温焼成磁器組成物を850℃〜1050℃で焼成して得られる低温焼成磁器は、ZnAlの析出を抑え、ガーナイト結晶相およびクォーツ結晶相を主に析出させることができ、機械的強度を向上させることができる。さらにガラスの緻密化温度と結晶化開始温度との温度差を小さくすることで、COおよびCOをシート内に留め、表面に発生する膨れを皆無とすることができる。 (もっと読む)


【課題】十分に緻密化され圧電素子としての性能の高いPZT膜を低コストで製造するための塗布液、及び、PZT膜の製造方法を提供する。
【解決手段】結晶PZT粒子と、アモルファスPZT粒子と、有機バインダーと、有機溶剤と、を含む塗布液を基板に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を焼成することにより十分に緻密化されたPZT膜を得る。 (もっと読む)


【課題】1000℃以下の温度で焼結が可能である、チタン酸バリウム系の誘電体磁器組成物を提供することである。
【解決手段】本発明の誘電体磁器組成物は、チタン酸バリウム系誘電体100重量部、および副成分としてCuO、ZnOおよびMgOからなる群より選ばれた少なくとも1種とBi2O3とを合計で4〜10重量部含む組成を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 低温焼結が可能で、メッキ液等の薬品による浸食がなく、さらには高周波領域において低誘電損失となる安価なセラミック配線基板が得られる低温焼成磁器組成物を提供する。
【解決手段】 SiO_53.5〜62質量%、MgO_12〜22質量%、CaO_21〜32質量%からなる主成分100質量部に対して、副成分としてホウ素をB換算で1.0〜5.0質量部、ビスマスをBi換算で1.0〜20質量部、アルミナをAl換算で0.1〜3質量部、及びリチウムをLiO換算で0.1〜1.5重量部を有し、前記主成分は焼結後にディオプサイド結晶相(CaMgSi)を形成することを特徴とする (もっと読む)


【課題】従来の強誘電性セラミック材料の温度よりも低い温度で焼結することができる新しい強誘電性セラミック材料、および焼結によって、多数の工業用途に適した優れた圧電性を保有する新しい強誘電性セラミック材料で形成された装置を提供すること。
【解決手段】強誘電性セラミック材料は、wPb(Ni1/3Nb2/3)O−xPb(Zn1/3Nb2/3)O−yPb(Mg1/3Nb2/3)O−zPbZrO−(1−w−x−y−z)PbTiO(式中、0<w<1、0<x<1、0≦y<1、0<z<1、w+x+y+z<1、および0.5≦w+x+y)の一般式を有する組成物を含む。強誘電性セラミック材料の調製方法は、MgNb、ZnNbおよびNiNb粉末前駆体を調製するステップ、前記前駆体を、PbO、TiOおよびZrOと混合して、混合物を形成するステップおよび前記混合物を焼成するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】高い比誘電率と、高いQ値、ゼロに近いTCF特性を有し、かつAgやCuと同時焼成可能な高周波用誘電体材料の提供。
【解決手段】CaO:1モル、Nb:(1−α×β)/3モル、ZnO:(1−α)/3モル、TiO:γモル、LiO:α×(1−β)/6モル(但し、0.65≦α≦0.75、0.09≦β≦0.15、0.066≦α×β≦0.100、0.15≦γ≦0.35)の割合からなる主構成材料と、前記主構成材料100重量部に対し、さらにCu、B、Li、Bi、Vの酸化物およびそれらの混合物からなる群より選ばれてなる焼結助剤1〜5重量部、とを含んでなることを特徴とする、高周波用誘電体材料。 (もっと読む)


【課題】高誘電率、高品質係数、絶対値の小さい温度係数、低焼結温度および内部導体材料との非反応性を有する電体磁器組成物の提供。
【解決手段】一般式、xZnO・xNb・yCaTiO・zCaO(式中、37≦x≦50、10≦y≦60、3≦z≦40、x+y+z=100である)で表される主成分と、前記主成分に対して副成分としてB酸化物をB換算にて0.3〜3.0重量部含有する、誘電体磁器組成物。 (もっと読む)


【課題】低温での焼成が可能であり、Q値および絶縁抵抗に優れ、しかも高温加速寿命特性が改善された誘電体磁器組成物を提供すること。
【解決手段】誘電体酸化物を含む主成分と、Liの酸化物を含む第1成分およびM1の酸化物(ただし、M1は、V族、VI族元素から選択される少なくとも1種の元素)を含む第2成分を有する焼結助剤と、を含有する誘電体磁器組成物であって、前記誘電体磁器組成物は、複数の誘電体粒子と、隣り合う前記誘電体粒子間に存在する結晶粒界と、を有しており、複数の前記誘電体粒子は、粒子表面から粒子内部に向かって、M1元素の濃度が低くなっているとともに、前記誘電体粒子の粒径をDとし、前記結晶粒界におけるM1元素の含有割合を100%とした場合に、粒子表面からの深さが前記粒径Dの50%である深さT50における、M1元素の含有割合が、3〜55%であることを特徴とする誘電体磁器組成物。 (もっと読む)


【課題】低温同時焼成プロセスに適用可能であって、体積小型化、高品質、高安定化の必要条件を満たす誘電ガラスセラミックス組成物、誘電ガラスセラミックス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】誘電ガラスセラミックス組成物はセラミックス材料とBa-B-Si(バリウム−ホウ素−ケイ素)ガラス材料からなる。誘電ガラスセラミックス基板と、その製造方法も開示される。セラミックス材料は、例えば、チタン酸ストロンチウムセラミックス、或いは、商用誘電セラミックス粉末である。Ba-B-Siガラス材料とセラミックス材料は有機キャリアと混合され、プレモールドに成型される。プレモールドは低温焼結され、誘電ガラスセラミックス組成物から構成される誘電ガラスセラミックス基板を形成する。 (もっと読む)


【課題】内部電極として、Cu電極等の卑金属電極を用いることができる耐還元性誘電体磁器組成物であって、比誘電率を維持しつつ、CR積が良好となる誘電体磁器組成物を提供すること。
【解決手段】主成分と副成分とを有する耐還元性誘電体磁器組成物であって、
前記主成分の組成式を、α(SrCaBa1−X−Y)TiO+(1−α)(Bi+βTiO)と表した場合に、αが0.60<α<0.85、βが1.5<β<4.0の範囲にあり、前記副成分として、少なくとも、酸化硼素および酸化マンガンを有し、前記主成分100モルに対して、0.5≦酸化硼素≦5モルであり、0.05<酸化マンガン<3モルである。 (もっと読む)


【課題】ペロブスカイト型酸化物に従来よりも少ない焼結助剤を用いて低い温度で焼成することにより、高誘電率な誘電体磁器及びその製造方法を提供する。
【解決手段】前記焼結助剤は、一定量を境に、その含有量の増加にしたがって緻密化温度が低下し、その含有量の減少にしたがって緻密化温度が低下した後に上昇する特性を有するものであり、かつ、前記焼結助剤の含有量は、前記一定量よりも少なく緻密化温度の低い領域にある量である。前記ペロブスカイト型酸化物は、ABO3の一般式で表され、A-site/B-site比が0.98〜1.03であり、前記焼結助剤は、B及びLi、又はBの一部をSiで置換したB、Li及びSiであり、B、Li及びSiの含有量が、前記ペロブスカイト型酸化物100モル%に対し、B23、Li2O及びSiO2に換算して0.1〜4.0モル%である。 (もっと読む)


【課題】高い誘電性を有する薄膜の製造のためのコーティング溶液、及びこれを用いた誘電薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】チタニウムアルコキサイド、β−ジケトンまたはβ−ジケトン改質化合物、及び電子供与基に改質されたベンゾ酸を含んで成る薄膜製造のためのコーティング溶液及び上記コーティング溶液を低温で乾燥して薄膜を結晶化させる誘電薄膜の製造方法を提供する。このように提供されるチタニウムコーティング溶液は非常に安定しており、基板の種類にかかわらず低温で薄膜工程進行が可能なだけでなく、PCB工程内でインライン工程進行が可能である。 (もっと読む)


【課題】(Ca1-xSr)(Zr1-yTi)O系誘電体組成物において、還元性雰囲気において焼結できニッケル電極の形成に使用できるばかりでなく、1250℃の低温において焼成可能であり、誘電損失が少なく、比抵抗が高い信頼性良き誘電体組成物を提供する。とりわけ、EIA(Electric Industry Association)規格でTC系を満足する誘電体組成物を提供する。
【解決手段】主原料の(Ca1-xSr)(Zr1-yTi)O(但し、式において、0≦x≦1、0.09≦y≦0.35、0.7≦m≦1.05)と、0.5〜10wt%のガラス成分のaMnO−bSiO−cAl(但し、式において、a+b+c=100、20≦a≦60、10≦b≦65、1≦c≦10)と、を含有する耐還元性誘電体組成物。 (もっと読む)


【課題】母材の特性劣化を抑制しつつ焼結温度を低くすることを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために本発明は、少なくとも酸化銅、酸化チタン、酸化ニオブより構成され、xCuO−yTiO2−zNbO2.5(x,y,zはモル比、x+y+z=1.0)と表したときの三成分組成図において、x,yおよびzが下記のA,B,C,Dを頂点とする四角形の領域内にあることを特徴とするものである。
A:(x,y,z)=(0.500,0.250,0.250)
B:(x,y,z)=(0.300,0.250,0.450)
C:(x,y,z)=(0.640,0.040,0.320)
D:(x,y,z)=(0.384,0.040,0.576) (もっと読む)


【課題】 マイクロ波領域で使用するのに好適な電気的特性を有するとともに、低温焼成可能なマイクロ用誘電体磁器組成物及びそれを用いて作成される電子部品を提供する。
【解決手段】 ZnO、SiO、BaO、Bを含有する誘電体磁器組成物であって、ZnO、SiO及びBaOの、ZnOと、SiOと、BaOとの合計質量に対する質量割合が、図1に示すZnO、SiO及びBaOの三元図において、それぞれ50%:30%:20%(点A)、30%:50%:20%(点B)、20%:30%:50%(点C)、45%:20%:35%(点D)の点A−B−C−D−Aを順に結ぶ直線によって囲まれる四辺形領域内にあり、ZnO、SiO、BaO及びBの合計質量に対し、Bを1〜6質量%含有する誘電体磁器組成物。該誘電体磁器組成物は、更にAl及びMgOを含有してよく、Bを一部〜全部LiOに置換しても良い。それを用いて作成される電子部品。 (もっと読む)


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