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Fターム[5G303AB15]の内容

無機絶縁材料 (13,418) | 目的(及び、改善している性質) (1,889) | 低温焼結性 (113)

Fターム[5G303AB15]に分類される特許

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【課題】 低温焼成可能な誘電体磁器組成物、及びそれを用いて作製される電子部品を提供する。
【解決手段】 (BaNdSm)TiO系磁器組成物100質量部に対し、重量によりBi 6〜15部、SiO 1〜5部、ZnO 1〜5部、MgO 0〜3部、B 0.2〜5部(B 0.2〜5部をLiO 0.08〜2.0質量部で置換してよい)を添加した誘電体磁器組成物、それを用いて作製される電子部品。 (もっと読む)


【課題】低温焼成用マイクロ波誘電体セラミック組成物の製造方法及びそれから得られる低温焼成用マイクロ波誘電体セラミックを提供する。
【解決手段】複合ビスマスニオブ酸化物(BiNbO)または亜鉛ニオブ酸化物(ZnNb)前駆体粉末を溶液反応に基づいた粉末合成工程である共沈法を用いて製造し、ここに0.1〜1質量%のCuO及び0.2〜2質量%のVを焼結助剤として添加し、粉砕及び焼結する低温焼成用マイクロ波誘電体セラミック組成物の製造方法。該製造方法によって得られる低温焼成用マイクロ波誘電体セラミック組成物。該低温焼成用マイクロ波誘電体セラミック組成物は、高誘電率及び品質係数、及び安定した共振周波数の温度係数を有するのみならず、700〜750℃の低い温度の範囲で焼成が可能である。 (もっと読む)


【課題】1100℃以下の低温焼結用焼結助剤に好適なガラス組成物、ガラスフリット、誘電体組成物及びこれを用いた積層セラミックコンデンサーを提供する。
【解決手段】本発明によるガラス組成物は、aLiO−bKO−cCaO−dBaO−eB−fSiOから成り、前記a、b、c、d、e及びfはa+b+c+d+e+f=100、2≦a≦10、2≦b≦10、0≦c≦25、0≦d≦25、5≦e≦20及び50≦f≦80とを満足する。 (もっと読む)


【課題】低温焼成が可能で高誘電率を示しながらも温度安定性が優秀な、誘電体磁器組成物およびこれを用いた積層セラミックコンデンサを提供する。
【解決手段】本発明による誘電体磁器組成物は、主成分として(Ba1−xCa)TiOと、副成分としてMgCO、RE(REはY、Dy及びHoから成る群から1種以上選択される希土類酸化物)、MO(MはBa及びCaのうち一つの元素)、MnO、V、Cr及び焼結助剤であるSiOを含む。上記誘電体磁器組成物の組成式はa(Ba1−xCa)TiO−bMgCO−cRE-dMO−eMnO−fSiO−gV−hCrと表現する際、モル比でa=100、0.1≦b≦3.0、0.1≦c≦3.0、0.1≦d≦3.0、0.05≦e≦1.0、0.2≦f≦3.0、0.01≦g≦1.0、0.01≦h≦1.0であり、0.005≦x≦0.15、0.995≦m≦1.03を満足する。 (もっと読む)


【課題】800℃未満の低温焼成によってもBi系誘電体の結晶化薄膜を得ることができるBi系誘電体薄膜形成用組成物とBi系誘電体薄膜を提供する。
【解決手段】少なくともSr、Bi、Taおよびランタノイド系元素Aの各金属または複合金属のアルコキシド、有機塩あるいは錯体を反応させることによって得られる化合物を含有させてBi系誘電体薄膜形成用組成物を構成する。この組成物の塗膜を800℃未満の低温で焼成することにより、下記一般式(1)
Sr1-XAβBi2+Y(Ta2-ZNbZ)O9+α・・・・・(1)
(式中、Aは、ランタノイド系元素を表す。X、Y、αは、それぞれ独立に0以上1未満の数を表し、Zは、0以上2未満の数を表し、βは、0.09以上0.9以下の数を表す。)で表されるBi系誘電体の結晶化薄膜を得る。 (もっと読む)


【課題】 低温で焼成しても各種電気特性を損なうことなく緻密化しており、かつ誘電体粒子の粒径を微細化でき、薄層化に対応した誘電体磁器組成物を得ることができる焼結助剤を用いた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 誘電体酸化物を含む主成分と、焼結助剤とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、ZrO及びSiOを主成分として含み、前記主成分中の含有量が、1モルのSiOに対して、ZrO:0.7〜1.3モルであるガラス材料と、MgOを主成分とする非ガラス材料とを、有する焼結助剤を、該焼結助剤中の各成分が以下に示す量となるように添加して、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
ガラス材料:主成分酸化物100モルに対して、0.7〜8モル(但し0.7モルと8モルを除く)、
非ガラス材料:主成分酸化物100モルに対して、0.1〜4モル(但し0.1モルと4モルを除く)。
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【課題】本発明は、300℃以下の低温で結晶質誘電体薄膜を形成することのできる結晶質誘電体薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による結晶質誘電体薄膜の製造方法は、基板上に非晶質誘電体薄膜を形成する段階と、上記非晶質誘電体薄膜を水中に浸漬して水熱処理する段階とを含む。上記非晶質誘電体薄膜を形成する段階は、非晶質誘電体ゾルを基板上にコーティングする段階と、コーティングされた晶質誘電体ゾルをベーキングする段階とを含む。ベーキング後にはベーキング処理された結果物を乾燥する段階をさらに含むことができる。所望の厚さの薄膜を得るために、コーティングとベーキングは多数回繰り返すことができる。 (もっと読む)


【課題】 焼成の際にAgが拡散するのを抑制することができる誘電体磁器組成物を得る。
【解決手段】 組成式a・A2O−b・(CaO1-x−SrOx)−c・R23−d・TiO2(但し、xは0≦x<1を満足し、Aはアルカリ金属元素から選ばれる少なくとも1種であり、Rは希土類元素から選ばれる少なくとも1種であり、a、b、c及びdは、0<a≦45mol%、0≦b≦30mol%、0<c≦20mol%、20≦d≦50mol%、及びa+b+c+d=100mol%を満足する。)で表される誘電体成分を含む誘電体磁器組成物であって、焼成後のペロブスカイト型結晶相の単位格子の体積が0.225〜0.227nm3であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】 低温焼成が可能で、焼成の際における導体層から誘電体層へのAgの拡散を抑制することができる積層セラミック基板を得る。
【解決手段】 誘電体層と導体層とを積層して焼成することにより得られる積層セラミック基板であって、誘電体層が、組成式a・Li2O−b・(CaO1-x−SrOx)−c・R23−d・TiO2(但し、xは0≦x<1を満足し、RはLa、Yを含む希土類元素から選ばれる少なくとも1種であり、a、b、c及びdは、0<a≦20mol%、0≦b≦45mol%、0<c≦20mol%、40≦d≦80mol%、及びa+b+c+d=100mol%を満足する。)で表され、ペロブスカイト構造を有する誘電体材料を主成分とする誘電体層であり、導体層が、AgまたはAgPd合金を主成分とし、副成分としてBi23−ZnO−B23系ガラスを含有する導体層であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】 少ないガラス量で低温焼成できる磁器組成物及びその製法並びに電子部品を提供する。
【解決手段】 本組成物は、フィラー及びガラスを含有し、フィラーは組成式[xCaO・yMO・zSiO](x+y+z=100モル%)で表した場合に条件(1)及び(2)を満たすフィラーを主成分とし、且つ、ガラスは、少なくともBa、Zn、B及びSiを含有し、各元素の酸化物換算合計で、Baを25〜55質量%、Znを5〜30質量%、Bを15〜35質量%、Siを5〜30質量%含有する。条件(1);MはMg及びZnのうちの少なくとも1種。条件(2);x、y及びzは三角図を用いて表した場合に図1における辺AB、辺BC、辺CD及び辺DAの領域内(各辺は全て含む)にある。本電子部品は、本組成物からなる誘電体磁器部と、その表面及び/又は内部に配設され且つ同時焼成された導体部を備える。 (もっと読む)


【課題】無負荷Q値と機械的強度が高く、かつ焼成温度に対して非常に安定であり、十分な絶縁信頼性を有し、グリーンシートの作製も容易である誘電体磁器組成物を提供する。
【解決手段】誘電体磁器組成物を、組成式xBaO−yCaO−zLiO1/2−wMO5/2(Mは、NbおよびVからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素で、x,y,z,wはx+y+z+w=1、0≦x≦0.5、0≦y≦0.5、0.12≦z≦0.20、0.30≦w≦0.38で示される値)で表される第一成分と、Si,B,Al,Ba,Ca,Sr,Zn,Ti,LaおよびNdからなる群から選ばれる少なくとも二種の元素を含むガラス組成物である第二成分とを含み、第二成分の含有率が2重量%以上50重量%以下であり、さらに第三成分としてCuOを前記第一、第二成分を合わせたものに対して0.2重量部以上5重量部以下含ませた。 (もっと読む)


【課題】 BaO、希土類酸化物及びTiO2が主成分として含有された組成系であっても、Ag又はAgを主成分とする合金等の導体を内部導体として確実に使用できるように、低温での焼結性をより安定・確実なものとした誘電体磁器組成物を提供する。
【解決手段】 誘電体磁器組成物の主成分としてBaO、Nd23、TiO2、MgO及びSiO2を所定の比率で含有し、前記誘電体磁器組成物の副成分としてZnO、B23、CuO及びアルカリ土類金属酸化物RO(R:アルカリ土類金属)を所定の比率で含有させ、さらに好ましくは、副成分としてAgを含有させるように構成する。 (もっと読む)


【課題】誘電体用ガラスフリット、誘電体セラミック組成物、積層セラミックキャパシタとその製造方法を提供する。
【解決手段】誘電体用ガラスフリットであって、aSiO‐bB‐cLiO‐dKO‐eCaO‐fAl‐gTiO‐hZrOから組成され、上記a+b+c+d+e+f+g+h=100で、上記20≦a≦35、20≦b≦35、20≦c≦30、3≦d≦5、2≦e≦12、2≦f≦10、1≦g≦12、1≦h≦7を満足するものである。 (もっと読む)


低温焼成磁器組成物は1000℃以下で焼成可能であり、低い比誘電率(16GHz以上において9以下)と高いQf値(10,000以上)を有する。組成物はAg、AuまたはCuなどの配線材料と同時焼成できる。セラミック組成物は(質量で)CaOとMgOとSiO2とを合計量で60質量%を超え98.6質量%以下、Bi23を1質量%以上35質量%未満及びLi2Oを0.4質量%以上6質量%未満含み、(CaO+MgO)とSiO2の含有比が1:1以上1:2.5未満(モル比)含む。 (もっと読む)


【課題】印刷した場合にも「糸引き」することがなく、比較的低温で焼成することにより残渣なく消滅させることができるバインダー樹脂組成物、ガラスペースト及びセラミックペーストを提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル酸アルキルエステル単量体に由来するセグメントと、下記化学式(1)で示される繰り返しユニットからなるポリアルキレンオキサイドセグメントとを有する共重合体(A)をマトリックス樹脂とするバインダー樹脂組成物。 −(OR)n− ・・・(1) R:炭素数3以上で構成されるアルキレン基、nは整数。 (もっと読む)


【課題】 900℃以下での低温焼結が可能で、比誘電率εrが30〜40の特性を備え、共振周波数の温度係数τfが+10〜+40ppm/Kの特性を備え、共振周波数とQ値との積であるQ・f値が15000GHz以上の特性を備える誘電体磁器組成物を提供する。
【解決手段】 誘電体磁器組成物の主成分としてBaO、TiOを所定の比率で含有させ、前記誘電体磁器組成物の副成分としてZnO、B及びCuOを所定の比率で含有させるとともに、これらの副成分の総和量を所定範囲にする。 (もっと読む)


【課題】 900℃以下での低温焼結が可能で、比誘電率εrが30〜40の特性を備え、特に、共振周波数の温度係数τfの絶対値が20ppm/Kの特性を備え、共振周波数の温度係数τfが改善された誘電体磁器組成物を提供する。
【解決手段】 誘電体磁器組成物の主成分としてBaO、TiO、WOを所定の比率で含有させ、前記誘電体磁器組成物の副成分としてZnO、B及びCuOを所定の比率で含有させる。 (もっと読む)


【課題】従来よりも更に低温焼成可能で、且つ高い比誘電率を有する誘電体セラミック材料とすることができる誘電体セラミック形成用組成物およびそれを用いた誘電体セラミック材料を提供すること。
【解決手段】平均粒径が0.01〜0.5μmのペロブスカイト(ABO3)系セラミック原料粉末と平均粒径が0.1〜5μmのガラス粉末を含有し、且つ前記ガラス粉末の配合量が3〜12重量%であることを特徴とする誘電体セラミック形成用組成物である。ペロブスカイト(ABO3)系セラミック原料粉末は、湿式反応により得られるペロブスカイト(ABO3)系セラミック原料粉末であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 より低い温度で焼成でき、粒子間の間隙が小さく、表面の欠陥がない誘電体層又は絶縁体層を簡便かつ効率よく形成できる誘電体層又は絶縁体層形成用組成物、この組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシート、並びに、この組成物から形成された誘電体層又は絶縁体層を有するフラットパネルディスプレイ基板及びこの基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 平均粒径が1〜500nmの無機微粒子、及び熱分解性バインダーを含有することを特徴とする誘電体層又は絶縁体層形成用組成物、この組成物をフィルム状に成形して得られるグリーンシート、基板と、該基板上に、前記組成物から形成された誘電体層又は絶縁体層を有することを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板、基板上に、グリーンシートを貼付する工程と、該グリーンシートを焼成する工程とを有することを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 積層セラミックコンデンサの誘電体層などとして用いられる誘電体磁器組成物において、より低温で焼結可能であり、かつ、比誘電率が高く、IR寿命に優れた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 Rの酸化物(ただし、Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選択される少なくとも1種)を含む第2副成分を、少なくとも有する誘電体磁器組成物の製造方法であって、焼成後に前記Rの酸化物となる原料のうち少なくとも一部として、Rのハロゲン化物を使用することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 (もっと読む)


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