【課題】 プラスチック基材の表面に塗布してハ−ドコ−ト機能と透明導電機能（帯電防止機能）を両立でき、さらに良好な透明性も付与できる透明導電膜を有する透明導電性基材とその製造方法を提供する。
【解決手段】 プラスチック基板上に、バインダーを含有する溶媒中に導電性微粒子を分散させた透明導電膜形成用塗布液を塗布・乾燥、硬化させて透明導電膜を形成する透明導電性基材の製造方法において、透明導電膜形成用塗布液の溶媒が、プラスチック基板を溶解する少なくとも１種類以上の溶媒を含有し、形成された透明導電膜が、バインダーを主成分とし導電性微粒子を含まない透明バインダー層と導電性微粒子を主成分とする透明導電層の２層に分かれて構成され、プラスチック基板、透明バインダー層、透明導電層の順に積層された構造となる。 （もっと読む）

【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム膜をアルゴンガス雰囲気中で成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を２００〜３５０℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を５０〜１５０Ω／□とすることを特徴とする透明導電膜の製法である。 （もっと読む）

【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム導電膜を成膜するときに、酸素ガスの量が２．５容積％以下のアルゴンガス雰囲気中で酸化インジウム膜を成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を１００〜２００℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を、５０〜１５０Ω／□とする酸化インジウム膜の製法。 （もっと読む）

【課題】
可視光透過率及び導電性に優れ、安価な透明導電膜を提供する。
【解決手段】
メタタングステン酸アンモニウム水溶液と、塩化ルビジウム（ＲｂＣｌ）の水溶液とを、ＷとＲｂの原子比がＲｂ/Ｗ＝０．３３となるように混合し、さらに界面活性剤を添加して成膜用溶液を得、当該成膜用溶液を透明石英基板へ塗布した後、熱処理して当該基板上に透明導電膜を得た。 （もっと読む）

【課題】多結晶ＩＴＯ薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】まず、基板上に非晶質ＩＴＯ薄膜を形成する。次に、非晶質ＩＴＯ薄膜を多結晶ＩＴＯ薄膜に変換するため、急速熱アニーリングプロセスを実施する。多結晶ＩＴＯ電極の製造方法をさらに提供する。まず、ＴＦＴアレイ基板上に非晶質ＩＴＯ薄膜を形成する。次に、複数の非晶質ＩＴＯ電極を形成するため、非晶質ＩＴＯ薄膜をパターン形成する。非晶質ＩＴＯ電極を複数の多結晶ＩＴＯ電極に変換するため、急速熱アニーリングプロセスを実施する。平坦性の向上した多結晶ＩＴＯ薄膜が形成される。処理時間が短縮され、プロセス処理能力が改善される。 （もっと読む）

【課題】 導電性とその耐久性に優れた導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材上に、導電性粒子と相互作用しうる官能基及び架橋性官能基を有するグラフトポリマーを直接結合させる工程と、
該グラフトポリマーが有する導電性粒子と相互作用しうる官能基に、導電性粒子を吸着させて導電性粒子吸着層を形成する工程と、
該導電性粒子吸着層にエネルギーを付与することにより、該導電性粒子吸着層中に架橋構造を形成する工程と、
を有することを特徴とする導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 熱安定および低電気抵抗の酸化インジウムスズ膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化物誘電層２０を形成し、即ち、基板１０の表面に酸化物薄膜を形成するステップａと、酸化物誘電層２０を表面処理し、即ち、酸素をイオン源設備に送入し、酸素がイオン源を通過した後に発生するイオン束により酸化物誘電層２０に表面処理を実行するステップｂと、透明導電膜を形成し、即ち、イオン処理を通過した後の酸化物誘電層２０の上に酸化インジウムスズ膜３０を積層するステップｃとを含む。基板１０は、プラスチックの本体１１と本体１１の一側面に形成される硬質コーティング１２から構成され、本体１１の他側は基板１０の表面１０ａを形成する。酸化物誘電層２０にイオン処理を予め実行することで、酸化物誘電層２０の安定性および精密度を高める。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型有機ＥＬ発光素子の上面側の電極に適する低抵抗性の透明導電膜を室温で製膜する。
【解決手段】基板１の上に第１の電極２を形成し、その上に発光層３を形成し、その後、ガリウム添加酸化亜鉛を主成分とするターゲット材１１を用い、酸素ガスを含有しない雰囲気とし、スパッタ装置内空間１０にＡｒガスのフローのみを流入し、かつ基板１に対して加熱することなく、通常レベルの磁場１２を備えるスパッタ法によりガリウム添加酸化亜鉛膜をマスク１５越しに基板１の上に製膜する製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、かつ、廃液処理の必要がない簡便な方法で、表面改質処理を行うことができる透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に、スパッタリング法により酸化亜鉛を含有する透明導電膜を製膜するステップと、前記透明導電膜の製膜後、反応性イオンエッチング法により前記透明導電膜の表層部を除去するステップと、を含む透明導電膜の製造方法、及びその製造方法により得られた透明導電膜を含む透明導電基板である。上記方法により、透明導電膜の表面改質処理を行うことで、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 塗膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材６上に塗布して塗膜７を形成し、この塗膜７上に大気圧下にて反応ガスを導入して該反応ガスをプラズマＰ化させ、このプラズマＰを塗膜７に照射して塗膜７を改質することにより、基材６上に透明導電膜９を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜に酸化性雰囲気中にてプラズマまたは電磁波を照射することにより、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、平均一次粒子径が１ｎｍ以上かつ２００ｎｍ以下の酸素欠損型金属酸化物微粒子を含む塗布液をガラス基板、プラスチック基板等の基材１１上に塗布して塗布膜１２とし、この塗布膜１２に酸化性雰囲気中にてプラズマＰを照射することにより、基材１１上に透明導電膜１４を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、表面改質を行うことが可能であり、かつ、表面改質処理後の廃液を簡便な方法で処理し得る透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に設けられ、酸化亜鉛を含む透明導電膜について、酸性水溶液を用いて、その表層部を除去することを特徴とする透明導電膜の製造方法、及びその製造方法で製造された透明導電膜を含む透明導電基板である。酸性水溶液を用いて、透明導電膜の表面改質処理を行うことにより、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】
透明性と導電性を兼ね備えたＩＴＯ透明伝導膜を、塗布法、特にインクジェット印刷法により形成するのに適した透明伝導膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】
透明伝導膜形成用塗布液を、ＡｃＡｃＩｎ、錫化合物、セルロース誘導体、アルキルフェノ−ル及び／又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び／又は酢酸ベンジル、ジエチレングリコール誘導体を含み、ＡｃＡｃＩｎと錫化合物との合計含有量を１〜３０重量％、セルロース誘導体の含有量を５重量％以下の組成とすることで、インクジェット印刷に適した低粘性の透明伝導膜形成用塗布液を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 タッチパネルなどの用途に適した表面抵抗を有し、かつ高温高湿度での信頼性にすぐれる、つまり耐湿熱性能にすぐれる透明導電性フィルムを提供する。


【解決手段】 透明なフィルム基材１の一方の面に、乾式薄膜形成法により、厚さが１０〜１００ｎｍ、光の屈折率が１．４０〜１．８０、平均表面粗さ〔Ｒａ〕が０．８〜３．０ｎｍである透明なＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）薄膜２を形成し、この薄膜２上に、厚さが２０〜３５ｎｍ、ＳｎＯ₂ ／（Ｉｎ₂ Ｏ₃ ＋ＳｎＯ₂ ）重量比が３〜１５重量％であるインジウム・スズ複合酸化物からなる透明な導電性薄膜３を形成して、表面抵抗値が２５０〜５００Ω／□、８５℃，８５％ＲＨ下で５００〜１，０００時間放置後の抵抗変化率が１．５倍以下である透明導電性フィルムを製造する。 （もっと読む）

容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、基板上に光吸収性を有する酸化スズ膜を形成する工程、光吸収性を有する酸化スズ膜の一部をエッチング液で溶解してパターニングする工程、パターニングされた光吸収性を有する酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含むことを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

基板(19)上に透明電極を形成する方法が開示されている。当該方法は、グラビアオフセット印刷法により、基板上にパターニングされた加熱分解可能なインク組成物を堆積する工程及び、加熱分解可能なインク組成物を加熱分解する工程を有する。加熱分解可能なインク組成物は、可視光波長未満の粒径を有する導電性の金属酸化物、ニトロセルロース結合剤、アルコール溶媒及び、250℃より高温の沸点を有する有機共溶媒を有する。
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本発明は、薄い膜厚でも高い表面凹凸を有する透明導電膜を有する透明基体を提供する。本発明の製造方法は、透明基体上に金属化合物、酸化原料および塩化水素を含有する原料ガスを供給し、熱分解酸化法によって透明基体上に結晶性金属酸化物を主成分とする透明導電膜を形成する工程を含み、上記工程が、原料ガスにおける金属化合物に対する塩化水素のモル比が０．５〜５である第１工程と、上記モル比が２〜１０であって第１工程における上記モル比より大きい第２工程とを、この順に含む。本発明によれば、透明導電膜の厚さが３００ｎｍ〜７５０ｎｍで、ヘイズ率が１５％以上である透明導電膜付き透明基体を提供できる。
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平滑な基板１と、平滑な基板１上に塗布法により形成された透明導電層２と、透明導電層２上にパターン状に形成された補助電極層３と、透明導電層２及び補助電極層３に接着剤層４で接合された透明基材５とを備えた透明導電積層体であって、その平滑な基板１を剥離除去した後の透明導電層２の平滑な剥離面上に各種素子を形成して、色素増感型太陽電池や有機エレクトロルミネッセンス素子等のデバイスとする。 （もっと読む）

簡便で低温成膜可能な塗布法により形成された透明導電アノード電極層を備えながら、透明導電アノード電極層とカソード電極層の間に電気的短絡を生じない有機ＥＬ素子、その有機ＥＬ素子の製造に用いる透明導電積層体を提供する。 平滑な基板と、該平滑な基板上に塗布法により形成された導電性微粒子を主成分とする透明導電アノード電極層と、該透明導電アノード電極層に接着剤層により接合された透明基材とを備え、かつ前記平滑な基板は、透明導電アノード電極層から剥離可能であることを特徴とする透明導電積層体により提供する。 （もっと読む）

【課題】 高抵抗透明導電膜、特に抵抗膜式タッチパネル装置等の画面位置確定のために使用されるシート抵抗５００〜２０００Ω／□程度の高い表面抵抗率を有する透明導電膜の形成に有用である高抵抗透明導電性膜用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 酸化インジウムと酸化錫を主成分とする焼結体であって、さらに酸化ケイ素又は酸化チタンの少なくとも一方を含有することを特徴とする高抵抗透明導電性膜用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）