【課題】従来の透明導電膜に比し、その抵抗率が、実用上、十分に低い透明導電膜を得ることのできる透明導電膜用材料を提供する。
【解決手段】Ｚｎ、ＳｎおよびＯを主成分として含有する複合金属酸化物であって、さらにドーピング元素として、Ｓｃ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ｙ、Ｌａ、ＡｇおよびＡｕからなる群より選ばれる１種以上の元素を含有する複合金属酸化物からなる透明導電膜用材料。前記の透明導電膜用材料からなる焼結体。前記焼結体をターゲットとして用いて成膜する透明導電膜の製造方法。前記の透明導電膜用材料からなる透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】 透明導電膜は空気中に放置すると表面抵抗が上昇する傾向が有り、必要な特性を達成することが困難であった。
【解決手段】 「ガラス基板上に少なくとも１層以上からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電層を有する透明導電膜の製造方法において、該透明導電層は気相結晶成長法により作製され、該透明導電層の気相成長法による製膜時間の経過に伴いキャリアガス中の酸素濃度を増大させていくことを特徴とする透明導電膜の製造方法。」によって解決する。 （もっと読む）

【課題】長尺の可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターンのマスクパターニングの実現手段を提供することであり、可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターン形成を連続的に行うことで、品質が高く、生産性が高いコストダウン可能な透明導電膜形成装置を提供することにある。また、これに用いるマスク部材、前記の形成装置により作製された有機ＥＬ用の透明導電膜樹脂基板を提供する。
【解決手段】真空槽１内を連続して搬送される長尺の可撓性樹脂基板上に、透明導電膜を形成する透明導電膜の形成装置において、可撓性樹脂基板２の搬送中に、パターン形成用のマスク部材を可撓性樹脂基板に密着し同期して移動させながら、マスク部材Ｍとの密着区間にて薄膜形成手段を用いてパターン成膜を行う透明導電膜の形成装置。 （もっと読む）

【課題】 透明導電膜に用いる基板上に凹凸構造を形成するには、エッチングによるものや、スタンパを利用するものであるが、そのいずれも製造には高い技術とコストが必要であった。
【解決手段】 母材表面上にシリカよりなる微粒子が分散され付着されてなる母型または母材表面上にシリカよりなる微粒子が分散され付着されてなる原型を用いて製造されてなる母型とを用いて、該母型と基板前駆体の片面または両面とを互いにプレスする工程により、前記母型の表面形状を前記基板前駆体に転写して形成されてなる片面または両面に前記母型からの転写による凹凸構造を備える前記基板を製造することができ、容易に基板上に凹凸構造を形成することが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、基板、元素Ｍがドープされた酸化亜鉛系薄膜、及び前記基板と酸化亜鉛系薄膜との間に形成され、酸化物Ｍ’_２Ｏ_３を含む中間層を備える導電性積層体およびその製造方法を提供する。
本発明の導電性積層体によれば、基板と酸化亜鉛層との間に＋３価の酸化数を有する金属酸化物の薄膜を中間層として設けることにより、透明導電性薄膜の電気的特性、特に、比抵抗特性を向上させることができると共に、スパッタリング蒸着の際に薄膜面の中央部分と周辺部分との間で生じる電気的特性ばらつきの問題を極力抑制することができる。また、酸化亜鉛膜の蒸着時に、アルゴンガスのような不活性ガスだけでなく、水素ガスを混入して使用することにより、電子濃度を増加させる効果が得られ、また、前記基板と酸化亜鉛系透明導電膜との間に金属酸化物中間層を設けることにより、耐熱・耐湿安定性及び電気的物性の均一性を確保することができる。
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【課題】従来の透明導電膜に比し、その抵抗率が、実用上、十分に低い透明導電膜を得ることのできる透明導電膜用材料を提供する。
【解決手段】Ｚｎ、ＳｎおよびＯを主成分として含有する複合金属酸化物であって、さらにドーピング元素として周期表第５族〜第１０族の元素からなる群より選ばれる１種以上の元素を含有する複合金属酸化物からなる透明導電膜用材料。Ｓｎおよびドーピング元素の合計量（モル）に対し、Ｚｎの量（モル）が１以上２以下の範囲である前記の透明導電膜用材料。Ｓｎおよびドーピング元素の合計量（モル）に対し、ドーピング元素の量（モル）が０．０００１以上０．２以下の範囲である前記の透明導電膜用材料。前記の透明導電膜用材料からなる焼結体。前記の焼結体をターゲットとして用いて成膜する透明導電膜の製造方法。前記の透明導電膜用材料からなる透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】高価で資源枯渇の懸念のあるＩｎ原料を有しないＩＴＯ代替材料としての酸化亜鉛系透明導電体の開発において、最適ドーパントの探索や成膜方法の選択若しくは改良だけでは、低抵抗率化の実現には充分でない。そこで、低抵抗率の酸化亜鉛系透明導電膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成される初期成膜の平均結晶粒径が３０ｎｍ以上であり、基板から膜の上表面に向かって柱状に成長した膜構造を備えていることを特徴とする酸化亜鉛系透明導電膜及び基板上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成する際に、成膜初期から膜に電圧を印加し、電流を流しながら成膜することを特徴とする酸化亜鉛系透明導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 透明タッチパネル表面および透明導電膜について入力ペン等によって繰り返される摺動に対する耐久性を向上させ、また製造工程中の組立時や搬送時の歩留まり低下を抑えることのできる透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】 片面に透明導電膜がそれぞれ形成された固定側および可動側の透明基板を透明導電膜どうしがスペーサーを介して対向するように配置させた透明タッチパネルが、可動側の透明基板の透明導電膜が形成された面と反対側に自己治癒性コート層を有する。 （もっと読む）

【課題】銀薄膜を用いた透明電極において、光透過特性を改善させた電極として利用可能な構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の透明導電膜積層体は、基板、該基板上に設けられた銀以外の金属からなる下地層と、該下地層上に設けられた銀または銀合金からなる銀薄膜層を含み、下地層の膜厚が銀薄膜層の膜厚よりも薄いことを特徴とする。本発明は、この透明導電膜積層体を電極として用いた有機ＥＬ素子に関する。さらに本発明は、これらの透明導電膜積層体および有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】透明であり、導電性に優れる導電性積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性積層体１０は、透明基材１１と、透明基材１１の少なくとも片面に形成された金属系電極層１２と、金属系電極層１２の表面に形成された導電性高分子層１３とを有し、導電性高分子層１３が、π共役系導電性高分子と酸からなるドーパントと水とを含有する導電性高分子混合液に中和処理を施したｐＨ４〜１０の導電性高分子溶液から形成された層である。本発明の導電性積層体の製造方法は、透明基材１１上に金属系電極層１２を形成する工程と、金属系電極層１２上に導電性高分子溶液を塗布して導電性高分子層１３を形成する工程とを有し、導電性高分子溶液として、π共役系導電性高分子と酸からなるドーパントと水とを含有する導電性高分子混合液に中和処理を施したｐＨ４〜１０の溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ・プラズマディスプレイ・無機ＥＬディスプレイ・有機ＥＬディスプレイ・電子ペーパー等の透明電極に最適である光学特性、酸化亜鉛膜と透明基板の密着性およびシート抵抗値の安定性の良好な酸化亜鉛系透明導電積層体を提供すること。
【解決手段】アクリル系樹脂（ａ）５０〜９９．９質量％、およびポリ乳酸系樹脂（ｂ）５０〜０．１質量％からなる樹脂組成物の透明基板上に片面又は両面に、１種以上のハードコート層が被覆され、該ハードコート層上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ用光学フィルターに最適である、光学特性、酸化亜鉛膜と透明基板の密着性に優れた酸化亜鉛系透明導電基板を提供する。
【解決手段】アクリル系樹脂（ａ）５０〜９９．９質量％、およびポリ乳酸系樹脂（ｂ）５０〜０．１質量％からなる樹脂組成物のフィルムもしくはシートの透明基板上に、直接酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電基板及び酸化亜鉛系透明導電基板の製造方法。 （もっと読む）

基板上に被膜される導電層を含む、透明導電体が記載される。より具体的には、導電層は、マトリクス内に内蔵され得るナノワイヤのネットワークを備える。導電層は、光学的に透明、かつパターン化可能であって、タッチスクリーン、液晶表示装置、プラズマ表示パネル等の視覚表示デバイス内の透明電極として好適である。本発明の一実施形態によって提供される方法は、基板上にナノワイヤネットワークを形成するステップであって、ナノワイヤネットワークは、複数のナノワイヤを備える、ステップと、パターンに従って、前記ナノワイヤネットワーク上にマトリクスを形成するステップと、ナノワイヤネットワークをエッチングするステップであって、それによって、第２の領域内の非保護ナノワイヤは、溶解される、ステップとを含む。
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【課題】導電性に優れるとともに、透明性が良好な導電体を提供する。
【解決手段】Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ａｓ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｗ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｐ及びＢｉからなる群から選ばれる１又は２以上のドーパントが添加された酸化チタンからなる前駆体層１２’を、基板１１上に形成する工程と、前駆体層１２’を還元雰囲気下でアニールして金属酸化物層１２を形成する工程を有することを特徴とする導電体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性が高い透明導電膜を提供する。
【解決手段】Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる透明導電膜。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の透明導電膜。Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる焼結体。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の焼結体。チタンを含有する粉末と、ガリウムを含有する粉末とを混合して得られる混合物を成形して成形体を得、該成形体を焼結することにより得られる前記の焼結体。前記の焼結体をターゲットとして、パルス・レーザー蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法およびＥＢ蒸着法から選ばれる方法により成膜する透明導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】渦電流発生部及び渦電流検出部の温度変動を抑えることによって、ライン速度の高速化等に対応でき、非接触で導電膜の表面抵抗値を高精度に連続測定することができる導電膜用非接触式表面抵抗測定装置を提供する。
【解決手段】渦電流発生部２Ａ及び渦電流検出部２Ｂを導電膜１に対して間隔をあけて設置し、非接触で導電膜１の表面抵抗値を連続的に測定する導電膜用非接触式表面抵抗測定装置において、渦電流発生部２Ａ及び渦電流検出部２Ｂの近傍に電子加熱冷却素子４を配設し、温度センサー３によって測定した渦電流発生部２Ａ及び渦電流検出部２Ｂの温度に基づいて、電子加熱冷却素子４に通電を行い、渦電流発生部２Ａ及び渦電流検出部２Ｂの温度制御を行う。 （もっと読む）

【課題】導電性、生産性に優れた透明導電膜の製造するための処理装置およびその処理装置を用いて形成された透明導電膜を提供すること。
【解決手段】対向電極の間に長尺フィルム状支持体を連続的に搬送してプラズマに曝し透明導電膜を形成する処理室を有する処理装置において、長尺フィルム状支持体が通過する入口側に隣接して処理室内の気圧よりも低い気圧に設定される第１予備室が設けられ、
長尺フィルム状支持体は、第１予備室を経て処理室に導入され、処理室にて透明導電膜が形成された後に処理室から排出されるようになされており、第１予備室の長尺フィルム状支持体が通過する入口側、第１予備室と処理室の間、処理室の長尺フィルム状支持体が通過する出口側のそれぞれに長尺フィルム状支持体が通過する通過口が設けられ、長尺フィルム状支持体が通過する通過口のそれぞれは、ニップロールにより形成されている。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルム基板上に形成されるＩＴＯ等の透明導電膜の形成方法に関し、抵抗値が低く、且つ表面の平滑性が優れた、生産性が高い透明導電膜付フィルムの形成方法、及び該形成方法で生産された透明導電膜付フィルムを提供する。
【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いるイオンプレーティング法を用い、連続して搬送される樹脂フィルム基板上に、成膜領域内で前記樹脂フィルム基板の裏面側に接触し樹脂フィルム基板を支持、搬送する支持ロールの温度を１３０℃〜１８０℃の間で任意の一定温度に制御し、透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 印刷法や塗布法などの湿式法によるより信頼性の高い透明導電膜の形成を可能にする透明導電膜形成用インキとその製造方法を提供する。
【解決手段】 透明導電膜形成用インキにおいて、有機インジウム化合物の部分加水分解物と、有機スズ化合物と、亜鉛又は亜鉛化合物と、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類のうちの少なくとも１種の低沸点溶剤と、前記低沸点溶剤よりも沸点の高いグリコール類、カルビトール類、セルソルブ類のうちの少なくとも１種の高沸点溶剤と、アミン類、有機酸類、無機酸類、β−ジケトン類、β−ケトエステル類のうちの少なくとも１種の安定化剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ系透明導電膜のエッチング速度を、パターニングに適した速度に制御することを課題とする。
【解決手段】 基板上にＺｎＯにＭｇが添加された透明導電膜を形成する工程と、ＨＣｌを含むエッチング液を用いて上記透明導電膜をパターンニングする工程とを含む透明電極の形成方法により解決される。上記透明導電膜には、さらにＡｌ、Ｂ、Ｇａから選定された１種又は２種以上が添加されている。本発明によれば、ＺｎＯ系透明電極のエッチング速度を遅くすることが可能になり、それによりパターニングの際の制御性の向上が図れるという効果がある。 （もっと読む）