【課題】電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法で酸化物透明導電膜を製造する際に、大量の電子ビームを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】主としてガリウムおよびインジウムおよび酸素からなる酸化物焼結体、あるいは、主としてガリウムおよび酸素からなる酸化物焼結体であり、ガリウムが全金属原子に対して３５原子％〜１００原子％の割合で含まれ、金属相が含まれず、密度が３．４ｇ／ｃｍ³以上５．５ｇ／ｃｍ³以下である酸化物焼結体とする。 （もっと読む）

本発明は、概して、１つ以上のガス導入管を隠す１つ以上の冷却アノードを含み、冷却アノードとガス導入管の両方が、スパッタリングチャンバ内で、１つ以上のスパッタリングターゲットと１つ以上の基板の間で画定された処理空間にまたがっている。ガス導入管は、ガス出口を有しており、導入されたガスが、１つ以上の基板から離れる方向に向いている。ガス導入管は、酸素等の反応性ガスを、スパッタリングチャンバに導入し、反応性スパッタリングによりＴＣＯフィルムを堆積する。複数工程のスパッタリングプロセス中、ガスフロー（即ち、ガスの量とガスの種類）、ターゲットと基板の間の間隔及びＤＣ電力を変更して所望の結果を得る。
（もっと読む）

本発明による起伏のある透明導電層は、光電装置用の基板に堆積され、隆起部と窪み部との繰り返しによって形成された表面形態を有する。この導電層は、前記窪み部が、半径が約25 nmよりも大きい角を丸めた底部を有すること、この窪み部が実質的に平滑であり、微細な凹凸を示すところでは、該微細な凹凸の平均高さは５ nm未満であること、及びその側面が前記基板の面に関して角度をなしており、角度の絶対値の中央値は30°〜75°であることによって特徴付けられている。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法により酸化物透明導電膜を製造する際に、多量のエネルギーを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】モリブデンを固溶したインジウム酸化物を含有し、モリブデンがインジウムに対する原子数比で０．００１以上０．０６０以下含まれ、密度が３．７ｇ／ｃｍ³以上
６．５ｇ／ｃｍ³以下であり、金属相と酸化モリブデンの結晶相を含まない酸化物焼結体
とする。 （もっと読む）

【課題】 高抵抗値を有し、かつ高温・高湿の環境下における信頼性の良好な結晶性透明導電性薄膜を提供すること。
【解決手段】 酸化インジウムと酸化スズの合計に対して酸化スズを９重量％以下の割合で含有する酸化インジウム・スズを主成分としてなる結晶性透明導電性薄膜であって、当該結晶性透明導電性薄膜は、窒素を０．４５原子％以下の割合で含有することを特徴とする結晶性透明導電性薄膜。 （もっと読む）

【課題】良好な透明度を有し、低コストで製造可能な有機透明導電性材料の製造方法の提供。
【解決手段】カルバゾールあるいはその誘導体を溶解した溶液を飽和カロメル参照電極に対し、電解電位+0.5〜+1.8 Vの範囲で電解重合し、陽極上にポリカルバゾール膜（あるいはポリカルバゾール誘導体膜）を形成した後、ポリカルバゾールよりも小さな仕事関数をもつ金属を接触させ、化学量論比で反応させることにより、白色透明度が高い導電性ハイブリッド膜を得る有機透明導電性材料の作製方法。 （もっと読む）

【課題】低いエネルギーのレーザ光の照射であってもアブレーション現象が起こり、問題なくパターニングできる酸化錫薄膜が付いた透明基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明基板上にキャリア濃度が５×１０^１９／ｃｍ^３以上である透明導電膜を有する薄膜付き透明基板に、波長が１０６４ｎｍのレーザ光を照射して前記透明基板上に回路パターンを形成する、回路パターン付き透明基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透明で導電性が良好な酸化亜鉛系透明導電性基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、酸化亜鉛を主成分とする蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを該蒸発材料に集中させて、該蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法によって透明樹脂フィルム上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法において、透明樹脂フィルム基材を搬送させる際に透明樹脂フィルム基材を固定化する基板保持部材に透明樹脂フィルム基材を両端部から固定化できる引張治具を設けるか、又は透明樹脂フィルム基材成膜面の反対部である裏面に接触固定できる冷却板を設けて酸化亜鉛系透明導電膜を形成する事を特徴とする酸化亜鉛系透明導電性基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性に優れた酸化亜鉛系透明導電性基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】メタクリル酸メチル単位４０〜９０質量％、無水マレイン酸単位５〜２０質量％、及び芳香族ビニル化合物単位５〜４０質量％を共重合して得られる耐熱アクリル系樹脂透明基板上に、直接酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイの透明電極などに利用できる程度に抵抗率を減少させたＺｎＯ薄膜を形成することができる薄膜形成装置を提供すること。
【解決手段】 蒸発手段２７から成膜材であるＺｎ材を蒸発させ、蒸発したＺｎ材をマイクロ波酸素プラズマ２５で酸化し、ＺｎＯ化合物をガラス基板３０に堆積して薄膜形成し、さらに、薄膜形成したＺｎＯ薄膜をマイクロ波水素プラズマに晒して抵抗率を減少させる構成とし、導電性を与えたＺｎＯ薄膜を形成することができる薄膜形成装置となっている。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性の劣る基材上に結晶性が高く低抵抗な透明導電膜を設ける際に、優れた均一性を有する透明導電膜を低コストで形成可能な、透明導電膜付き基材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る透明導電膜付き基板の製造方法は、第一基材の一面に透明導電膜を配してなる透明導電膜付き基板の製造方法であって、前記第一基材より耐熱性の高い第二基材を用い、該第二基材の一面に前記透明導電膜を形成する工程Ａと、前記第一基材の一面に対し、接着手段を介して前記透明導電膜を貼付する工程Ｂと、前記第二基材のみ取り除く除去手段を用い、前記第一基材、前記接着手段及び前記透明導電膜からなる積層体を残存させる工程Ｃと、を少なくとも順に具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜の有する内部応力を低減し、バリア層へのダメージを抑制し、高い導電性と透明性、更には高いガスバリア性を維持できる透明導電膜付ガスバリア性フィルムの製造方法と、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透明樹脂フィルム上に少なくとも１層以上のセラミック膜を有する透明ガスバリア性フィルム上へ透明導電膜を真空製膜法により製膜する際、該製膜時の圧力が０．５〜２．０Ｐａであることを特徴とする透明導電膜付ガスバリア性フィルムの製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 透明なフィルム基材の一方の面に、前記フィルム基材の側から第一透明誘電体薄膜、第二透明誘電体薄膜および透明導電性薄膜がこの順に形成されている透明導電性積層体であって、透明性等の光学特性に優れた透明導電性積層体を提供すること。
【解決手段】 厚さが２〜２００μｍの透明なフィルム基材の一方の面に、前記フィルム基材の側から第一透明誘電体薄膜、第二透明誘電体薄膜および透明導電性薄膜がこの順に形成されている透明導電性積層体であって、第一透明誘電体薄膜は、真空蒸着法、スパッタリング法またはイオンプレーディング法により形成され、かつ第一透明誘電体薄膜は、酸化インジウム１００重量部に対して、酸化錫を０〜２０重量部、酸化セリウムを１０〜４０重量部含む複合酸化物からなり、第一透明誘電体薄膜の屈折率をｎ１、第二透明誘電体薄膜の屈折率をｎ２、透明導電性薄膜の屈折率をｎ３としたとき、ｎ２＜ｎ３≦ｎ１の関係を満たすことを特徴とする透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】 化学的に安定で、毒性がなく、導電性・透明性共に良好であり、容易かつ安価に膜形成が可能な透明導電性成形物を提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ_x（Ｘは０．５以上２．０未満）と酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）を含有し、体積固有抵抗が０．０１Ωｃｍ未満である透明導電性成形物。 （もっと読む）

【課題】
基材のカールおよび変形防止、透明導電膜の剥離防止および低抵抗化を可能にした透明導電膜積層体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】
基材の少なくとも片面に透明導電膜が形成されており、透明導電膜は少なくとも１層以上の積層構成であり、透明導電膜は１層ごとに紫外線照射によるアニール処理がなされており、透明導電膜は、膜内部のどの部分においてもアモルファスの混在しない結晶に起因するＸ線回折ピークが観察される透明導電膜積層体とする。 （もっと読む）

【課題】
熱や曲げなどの機械的負荷が加わっても、導電性を維持できるフレキシビリティ性を有する透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
可とう性の透明基板へ透明導電膜を形成した後に、該透明導電膜の表面へ、好ましくはレーザーが連続発振タイプであり、レーザー光の波長が４００〜１２００ｎｍである可視域から赤外域の波長を有するレーザー光を照射して表面処理を施し、１６０℃のオーブンで１時間保持した後に常温に戻す操作を３回繰返す熱サイクル試験においても、透明導電膜にクラックが発生しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明導電性物質層をイオンビームアシスト真空蒸着法によって成膜する場合、厳密な成膜速度の制御が難しいため、安定して高い導電性を得ることが難しかった。
【解決手段】イオンビーム量を、透明導電性物質層が着色しない範囲で連続的に変化させることで屈折率傾斜膜として、一つの透明導電性物質層の中に、最適な成膜速度とイオンビーム量の関係で成膜された膜厚部分を作ることを特徴とする光学薄膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いた際のペン入力耐久性を改良することができる透明導電性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】透明なプラスチックフィルム１１の片面に、クッション層１２／透明樹脂層１３／硬化性高分子硬化層１４／透明導電性薄膜１５の順に積層してなる透明導電性フィルム１の製造方法であって、クッション層は、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン系樹脂から選択される樹脂と架橋剤から構成され、硬化性高分子硬化層は、硬化性高分子を硬化剤により形成された架橋構造を有するアクリル系硬化層またはポリエステル系硬化層であり、かつ硬化性高分子硬化層の透明導電性薄膜側を、サンドプラストやエンボス加工、グローまたはコロナ放電の照射、酸性水溶液またはアルカリ性水溶液による処理のいずれかを用いて表面処理することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 透明導電板の電気抵抗を引き下げつつ、その光透過性を向上させうる新規な構
成を提供する。また、この透明導電板の製造方法、および当該透明導電板を備えた光電変
換素子を提供する。
【解決手段】 光透過性基板１４と、その第１主面上に設けられた集光曲面１３と、その
第２主面上に設けられた、集電体１１および光透過性導電膜１５と、を含み、第２主面が
、集電体１１が形成された第１領域と集電体１１が形成されていない第２領域とを有し、
第１主面側から当該主面に垂直な方向に沿って第１領域へと入射する光の少なくとも一部
を第２領域に導くように、集光曲面１３が形成されている透明導電板１０とする。この透
明導電板は、例えば感光性レジストを用いて製造できる。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ透明導電膜の成膜後、基板がそることのない、ガラス基板上に成膜されるＩＴＯ透明導電膜と同程度の低抵抗のＩＴＯ透明導電膜付きフィルムを得ることを課題とする。
【解決手段】ポリエチレンナフタレートを主とするフィルム基板を用い、プラズマガンを用いるイオンプレーティング法で、成膜時のフィルム基板の温度を９０℃〜１４５℃の温度範囲に保ってＩＴＯ透明導電膜を成膜される、比抵抗が１．１×１０^―４〜３．０×１０^―４Ω・ｃｍの範囲にあるＩＴＯ透明導電膜付きフィルムである。また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）