【課題】電気伝導性フィルムを提供する。
【解決手段】フレキシブルな支持体、伸張性のある金属または金属合金層、および架橋ポリマー保護層を含む電気伝導性フィルムが、少なくとも１つの恒久的に変形された曲面状領域を有する。フィルムは、光透過性とすることができ、また複合曲率の領域を有することができ、および金属または金属合金層は実質的に連続とすることができる。フィルムによって、破損または腐食に対する感受性が、市販の電磁干渉（ＥＭＩ）シールド・フィルムと比較して減る。 （もっと読む）

【課題】寸法が大きく、コストが低い導電板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電板の製造方法は、少なくとも一回の引張処理を行った導電膜を提供するステップと、基板１００を提供するステップと、前記導電膜２００を前記基板に被覆するステップと、を含む。前記導電膜は、複数のナノユニットビームを有し、各々のナノユニットビームは、複数のナノユニットがそれぞれに端と端とが連接して形成される。また、前記複数のナノユニットビームは、所定方向に沿って配列されて特定の配列配向を形成する。 （もっと読む）

【課題】可撓性及び耐薬品性を具備して、フレキシブルディスプレイ装置に好適な透明導電膜を提案する。
【解決手段】可撓性の基板２上に設ける透明導電膜３であって、前記基板側に設けた非結晶性の第１透明導電層３−１と、該第１透明導電層上に設けた結晶性の第２透明導電層３−２とを含んで形成してある。第１透明導電層３−１はＳｎＯ_２含有割合が１０質量％以上のＩＴＯ層（インジウムスズ酸化物の透明膜）またはＩＺＯ層（インジウム亜鉛酸化物の透明膜）であり、第２透明導電層３−２はＳｎＯ_２含有割合が１質量％以上１０質量％未満のＩＴＯ層とするのが望ましい。 （もっと読む）

【課題】可撓性及び耐薬品性を具備して、フレキシブルディスプレイ装置に好適な透明導電膜を提案する。
【解決手段】可撓性の基板２上に設ける透明導電膜３であって、前記基板側に設けた結晶性の第１透明導電層３−１と、該第１透明導電層上に設けた非結晶性の第２透明導電層３−２とを含んで形成してある。前記第１透明導電層はＳｎＯ_２含有割合が１質量％以上１０質量％未満のＩＴＯ層であり、前記第２透明導電層はＳｎＯ_２含有割合が１０質量％以上のＩＴＯ層（インジウムスズ酸化物の透明膜）またはＩＺＯ層（インジウム亜鉛酸化物の透明膜）とするのが望ましい。 （もっと読む）

【課題】光透過性及び電気伝導度に優れ、かつ製造が容易な導電性フィルムの製造方法、及びその製造方法により製造される導電性フィルムを提供する。
【解決手段】導電性フィルム製造方法は、超音波による切断及び酸との化学反応の少なくとも一方により、カーボンナノチューブを前処理する段階と、前記カーボンナノチューブを溶媒に分散させる段階と、前記カーボンナノチューブ分散液にメタルワイヤを混合する段階と、前記メタルワイヤが混合されたカーボンナノチューブ分散液を基板上にコーティングして電極層を形成する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】
高透明のインジウム複合酸化物薄膜の導電性、耐久性、またはリニアリティを向上させたタッチパネル用透明電極を提供することにある。
【解決手段】
透明基板の少なくとも一方の面に、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜およびカーボン膜が積層された透明電極の製造方法であって、酸化インジウムを主成分とした透明導電膜が１０〜４０ｎｍの膜厚であり、カーボン膜が０．５〜５．０ｎｍの膜厚であるように製膜され、上記カーボン膜が水素を５０〜１００体積％含むガスを用いたスパッタリング法によって製膜され、かつ製膜後の透明電極が７０℃以上１７０℃以下の温度で熱アニール処理して透明電極を製造することにより、課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】電気伝導度に優れ、製造が容易な導電性フィルムの製造方法及び導電性フィルムを提供する。
【解決手段】導電性フィルム製造方法は、金属前駆体及び導電性高分子物質の少なくとも一方が混合された混合溶液を形成する段階と、導電性構造体が形成されるように、混合溶液を微粒化して基板の表面に噴射する段階と、電気伝導度が向上するように、導電性構造体にカーボンナノチューブを結合させる段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】低コストで形成可能であると共に低抵抗の導電体基板、導電体基板の製造方法、デバイス及び電子機器を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に設けられ、結晶成長を制御するシード層と、前記シード層上に設けられ、酸化スズ系透明導電体の結晶からなる導電層とを備える。 （もっと読む）

【課題】
大掛かりな装置を必要とせず、高速かつ低コストで実施できる管体内面への透明導電膜成膜方法を提供する。
【解決手段】 管体内面への透明導電膜成膜方法は、非酸化金属からなる蒸着物質を管体とほぼ同じ長さにして管体内に挿通する工程と、蒸着物質が挿通された管体を真空チャンバ内に配置する工程と、真空蒸着法あるいはスパッタ法によって管体内面に蒸着物質からなる金属膜を形成する工程と、金属膜を酸化することで透明導電膜とする工程と含んでいる。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた多層フィルムを作製し、供給する。
【解決手段】透明な樹脂基板１１の少なくとも一方の面に該樹脂基板とは屈折率の異なる光学膜１３、１４を形成し、最外層１５に透明導電膜１５を有する多層フィルムにおいて、該多層フィルムの40℃90%Rhにおける水蒸気透過速度を1.0g/m2・day以下とする。前記光学膜は透明な樹脂基板に近い層から順に、屈折率n1が1.50〜2.20で膜厚d1が1〜10nmである第１の薄膜層１３と、屈折率n2が1.35〜1.50で膜厚ｄ2が10〜40nmの第２の薄膜層１４からなり、また、透明導電膜１５は、屈折率n3が1.90〜2.20で膜厚d3が10〜30nmの第３の薄膜層からなる。 （もっと読む）

【課題】成膜の生産性が高く、低い体積抵抗率を有しかつ高湿環境下において体積抵抗率の上昇が抑制されるＺｎＯ蒸着膜、及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】希土類元素を０．１〜１５質量％含むＺｎＯ焼結体を蒸着材に用い、反応性プラズマ蒸着法により酸素ガス流量０〜５００ｓｃｃｍ、成膜速度０．５〜５．０ｎｍ／秒で成膜を行い、高耐湿性のＺｎＯ膜を成膜する。希土類元素は、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ又はＳｍの少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル等に適用した場合に、粘着剤層にかかわる視認性の問題を低減することができる粘着剤層付き透明導電性フィルムとその製造方法、透明導電性積層体およびタッチパネルを提供する。
【解決手段】第一の透明プラスチックフィルム基材(1)の一方の面に透明導電性薄膜(2)を有し、第一の透明プラスチックフィルム基材(1)の他方の面に粘着剤層(3)を有する、粘着剤層付き透明導電性フィルムであって、前記粘着剤層付き透明導電性フィルムに用いられる粘着剤層(3)の第一の透明プラスチックフィルム基材(1)に貼り合わされる側の表面(3a)の表面粗さ（Ｒａ）が、２〜１３０ｎｍであることを特徴とする粘着剤層付き透明導電性フィルムとする。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ原料粉末に添加される、希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたＺｎＯ蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なＺｎＯ膜が得られるＺｎＯ蒸着材を製造する。
【解決手段】ＺｎＯ原料粉末１２と希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末１３との原料混合粉末１４を用い、ドクターブレード法により得られたグリーンシートから、グリーン単層体１９或いはグリーン積層体２０又は２９を作製し、これを焼成後に粉砕して混成粉末２５又は３１を作製する。この混成粉末を用いて造粒粉末を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むＺｎＯ焼結体からなるＺｎＯ蒸着材３４を作製する。 （もっと読む）

ドロー中、例えばフュージョンドロー中またはファイバードロー中に、ガラス基板を被覆する方法が記載される。被覆は、導電被覆であり、透明でもよい。導電薄膜で被覆されたガラス基板は、例えば、ディスプレイ装置、太陽電池用途および多くの他の急伸する産業および用途において使用できる。
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基板上にメッシュパターン状に配置された複数の電極を含む２次元タッチセンサを提供する。個々の電極は、相互接続された金属トレースにより形成され、金属は本来不透明であるが、この金属トレースは実際に見えないほど十分に細い。例えば、金属として銅を使用する印刷プロセスを通じて、電極を付加的に蒸着することができる。静電容量タッチスクリーンで使用する電界は、非常に低い金属密度で伝播するようにすることができるので、軌道の幅が狭いことにより、フィルムの透明性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】より高い平坦性を有する平坦化物が得られる平坦化物の製造方法、平坦化物、及び被処理面の平坦化方法を提供する。
【解決手段】少なくとも基材１を有する平坦化物の製造方法であって、近接場光４ａ，４ｂ，４ｃを用いて被処理面をエッチングする近接場エッチング処理工程を有する平坦化物の製造方法とする。また、平坦化物は、この平坦化物の製造方法で製造される。さらに、被処理面の平坦化方法は、近接場光を用いて被処理面をエッチングすることにより、この被処理面２の最大突起５ａ，５ｂ，５ｃ長（Ｒｍａｘ）を１０ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】 焼成が必要な透明導電膜前駆体について、膜強度や導電性への影響が無く、簡便に焼成処理を行い得る透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザー光に対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザー光を該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 金属ワイヤとの密着性が高く、かつ透明導電膜との界面における接触抵抗を低減させた、導電接続部としての金属複合膜を有する電極膜およびその製造方法、ならびに、この半導体素子用電極膜を具える発光素子を提供する。
【解決手段】 被成膜体上にチタンドープ酸化インジウムからなる透明導電膜を形成する工程と、該透明導電膜上に、外部との導電接続部としてＮｉ含有膜およびＡｕ含有膜を有する金属複合膜を形成する工程とを具えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板と、前記基板上に形成された透明電極膜とを備える透明電極膜付基板における透明電極膜の改質方法において、基板の熱劣化や熱ひずみを十分に抑制しつつ、透明電極膜の抵抗率を短時間で効率よく且つ十分に低下させることが可能な透明電極膜の改質方法を提供すること。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された透明電極膜とを備える透明電極膜付基板における透明電極膜の改質方法であって、前記透明電極膜にフラッシュランプを用いて光パルス持続時間が０．１〜１０ｍｓｅｃのフラッシュ光を照射して前記透明電極膜を加熱することによりアニール処理を施すことを特徴とする透明電極膜の改質方法。 （もっと読む）

【課題】透明フィルム基材の一方の面に、この透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、全光線透過率の高い透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】第１透明誘電体層(1)が、酸化インジウムと、前記酸化インジウム１００重量部に対して０〜２０重量部の酸化錫と、前記酸化インジウム１００重量部に対して４０重量部を超えて８０重量部以下の酸化セリウムとを含む複合酸化物からなり、第１透明誘電体層(1)の屈折率をｎ１、第２透明誘電体層(2)の屈折率をｎ２、透明導電層(3)の屈折率をｎ３としたとき、ｎ２＜ｎ３≦ｎ１の関係を満たす透明導電性フィルムとする。 （もっと読む）