【課題】太陽電池の電極等に適用されその導電性が改善された酸化亜鉛系透明導電膜積層体を提供する。
【解決手段】スパッタリング法等により基板上に成膜され、ガリウム含有量が異なる複数層の酸化亜鉛系透明導電膜により構成された酸化亜鉛系透明導電膜積層体であって、最も基板側に成膜される酸化亜鉛系透明導電膜が、Ｇａ／（Ｚｎ＋Ｇａ）の原子数比でガリウム含有量が５．６〜１０．０％に設定されかつ膜厚が２０〜４０ｎｍに設定された酸化亜鉛系薄膜層（１）により構成され、この酸化亜鉛系薄膜層（１）上に成膜される単一若しくは複数の酸化亜鉛系透明導電膜が、上記酸化亜鉛系薄膜層（１）よりガリウム含有量が少ない酸化亜鉛系薄膜層（２）により構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルやＰＤＰ，ＬＣＤやエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ材料等に用いられる透明電極の材料において、高い耐環境変動と高い光線透過率を同時に達成可能な透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】屈折率が１．３５〜１．７０を示す、低屈折率のカーボン層３を透明金属酸化物層４の中間層に使用し、さらにその上に極薄膜厚の透明金属酸化物層を形成することで、「導電性」「透明性」という課題を解決することが可能な透明導電膜を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】ペン書き耐久性を高めるとともに、ペンでの書き心地を改善する透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、を備え、クッション層の弾性係数は１０^４Ｎ／ｍ^２以上１０^６Ｎ／ｍ^２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】優れた導電性を有する導電層を高精細なパターンにて形成し、高性能な抵抗膜式のタッチパネルを得る。
【解決手段】酸化物セラミックス、非酸化物セラミックス及び金属からなる群から選ばれる少なくとも１種を主成分として含有する透明多孔質層を備えた透明性樹脂基材の該透明多孔質層面に、体積平均粒子径が１ｎｍ〜２μｍである導電性粒子の表面に界面活性剤が吸着された粉末を含む導電性ペーストを用いて幾何学パターンを形成する印刷工程と、
該透明性樹脂基材上に形成された導電性ペーストを加熱処理して該透明多孔質層面に幾何学パターンの導電部を形成する工程により、透明導電性フィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】簡便な手法で製造可能であり、かつ、短波長領域の光も透過することが可能な透明電極およびその製造方法を提供する。また、作製された透明電極の光透過率が酸化によって低下することがない透明電極およびその製造方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着法により複数種の金属を気化させて基板表面へ蒸着して、上記基板表面に透明電極として上記複数種の金属を含む合金薄膜を形成し、上記複数種の金属には少なくともアルミニウムおよび銀が主成分として含まれるようにしたものであり、上記合金薄膜全体に対する上記アルミニウムの割合が、組成比において上記合金薄膜全体の２割乃至８割であるようにした。 （もっと読む）

【課題】１×１０^-4Ωｃｍ未満の抵抗率を有する低抵抗ＩＴＯ薄膜とその製造方法等を提供する。
【解決手段】低電圧スパッタリング法、酸素クラスタービーム援用蒸着法、ＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ−原子層積層法、及びＭＢＥ（分子線エピタキシー）法のうちから選ばれる成膜法を用いて結晶性基板上に形成する低抵抗ＩＴＯ薄膜の製造方法であって、
結晶性基板の最表面の結晶性配列が、Ｉｎ₂Ｏ₃の結晶構造と適合するものであることを特徴とする低抵抗ＩＴＯ薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯ純度が９８％以上のＺｎＯ焼結体からなり、該焼結体がＹ、Ｌａ、Ｓｃ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、ＰｍおよびＳｍの群から選ばれた１種または２種以上の添加元素を含有し、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とし、好ましく、比抵抗９.５×１０^-4以下、および可視光透過率８７％以上のＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材およびそのＺｎＯ膜。 （もっと読む）

本発明は、改良された光学的及び電気的特性の透明導電性酸化（ＴＣＯ）薄膜を提供し、更にＴＣＯ薄膜の製造方法を提供する。特には、本発明はＴＣＯの光学的特性の改善及び電気的特性の生産後の改良を可能にするＴＣＯ薄膜を製造するオンライン方法を提供する。
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【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素のＹと第二添加元素とを含み、該第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、Ｙの含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、Ｙの含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とし、好ましくは、第一添加元素のＹと第二添加元素の合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＧａを含み、Ｃｅ含有量がＧａ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＧａ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＧａの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素と第二添加元素とを含み、第一添加元素がＰｒ、Ｎｄ、ＰｍおよびＳｍの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、第一添加元素の含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、第一添加元素の含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とするＺｎＯ蒸着材、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＺｎＯを主成分とする焼結体からなり、該焼結体が第一添加元素のＬａと第二添加元素とを含み、該第二添加元素がＢ、Ａｌ、ＧａおよびＳｃの群から選ばれた１種または２種以上の元素であり、Ｌａの含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内であり、第二添加元素の含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であり、Ｌａの含有量が第二添加元素の含有量より多く、かつ該焼結体が３〜５０％の気孔率を有する多孔質焼結体であることを特徴とし、好ましくは、第一添加元素のＬａと第二添加元素の合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】
成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】
透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＡｌを含み、Ｃｅ含有量がＡｌ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＡｌ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＡｌの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

導電性ナノ構造ベースの透明導電体のコントラスト比を向上させる方法について説明する。コントラスト比は、導電性ナノ構造をめっきし、その後、下層の導電性ナノ構造をエッチングまたは酸化するステップによって、ナノ構造の光散乱および反射率の低減によって大幅に改善する。一実施形態は、基板と、基板上の導電性膜であって、複数の金属ナノ構造を備える導電性膜とを備える透明導電体であって、１０００を超えるコントラスト比を有する透明導電体について説明する。
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【課題】
凹凸部を有する透明電極は、デバイス形成時に電流の短絡の原因となる可能性があるが、平坦化処理には非常に高い精度の技術が必要であった。
【解決手段】
「透明基板上に少なくとも２層以上の酸化亜鉛を主成分とする透明導電層を有する透明導電膜であって、透明基板に最も近い第１の透明導電層が透明基板と反対側に凹凸構造を有するものであり、第１の透明導電層上に上記凹凸構造を埋めるようにして形成された第２の透明導電層を有する透明導電膜」を提供する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、従来の真空蒸着設備を用い成膜することの出来る、導電性、透明性、及び外観に優れたアルミニウム添加酸化亜鉛系透明導電膜を提供する。
【解決手段】
不純物ドーパントとして少なくともフッ化アルミニウムを０．０１〜１０重量％の割合で含む酸化亜鉛焼結体をターゲット材料とした真空蒸着法により、基板上に成膜されることを特徴とするアルミニウム添加酸化亜鉛系透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】
従来多数の太陽電池セルをモジュール化して実用化していた太陽光発電に変えて、多数のセルを用意することなく一気にモジュール化した太陽電池を実現することを可能とする光電極モジュールとして利用可能な透明導電性フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
少なくとも、高分子樹脂よりなる透明基材フィルムと、前記透明基材フィルムの表面に第１導電性物質をグリッド状に積層してなる第１導電層と、前記透明基材フィルム表面の前記第１導電層及び前記第１導電層が積層されていない部分の表面に第２導電性物質を積層してなる第２導電層と、をこの順に積層してなる透明導電性フィルムであって、前記第２導電性物質の電気抵抗値よりも前記第１導電性物質の電気抵抗値の方が低く、前記透明導電性フィルムの全光線透過率が３０％以上であり、かつ抵抗値が３０Ω／□以下である、透明導電性フィルムである、透明導電性フィルムとした。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜に迫る高い導電率の膜を高速成膜することができる。
【解決手段】透明導電膜を成膜するために用いられるＺｎＯ蒸着材において、ＺｎＯを主成分としたペレットからなり、ペレットがＰｒ、Ｎｄ、Ｐｍ及びＳｍからなる群より選ばれた１種又は２種以上の第１元素と、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ及びＳｃからなる群より選ばれた１種又は２種以上の第２元素の双方を含み、第１元素が第２元素よりも含有割合が高く、第１元素の含有割合が０．１〜１４．９質量％、第２元素の含有割合が０．１〜１０質量％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜に迫る高い導電率の膜を高速成膜することができる。
【解決手段】透明導電膜を成膜するために用いられるＺｎＯ蒸着材において、ＺｎＯを主成分としたペレットからなり、ペレットがＣｅとＢの双方の元素を含み、ＣｅがＢよりも含有割合が高く、Ｃｅの含有割合が０．１〜１４．９質量％、Ｂの含有割合が０．１〜１０質量％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単で、しかも低コストで効率よく透明導電性フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】i）透明な支持体を供給し、ii）該透明支持体上に、１０μｍを越えない厚さを有する導電性フィルムを沈着させ、次いで、iii）各々のラインが１０ｎｍ〜２μｍの幅を有すると共に隣接ライン間の距離が１０ｎｍ〜２μｍであるライン群によって形成されるパターンであって所望の光透過率に対応する充実スペース／空スペース比が得られるように予め決定される該パターンが、該透明支持体上の該導電性フィルムの残存部分によって規定されるように、該透明支持体の表面の一部から該導電性フィルムの全厚さ部分を除去する。 （もっと読む）